期刊导航
期刊开放获取
河南省图书馆
退出
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
2
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式:
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
基板偏压对溅镀AlCrNbSiTiV高熵合金氮化物薄膜性能的影响
被引量:
6
1
作者
万松峰
许春耀
吴锦城
《电镀与涂饰》
CAS
CSCD
北大核心
2018年第3期122-128,共7页
用真空电弧熔炼法制备了AlCrNbSiTiV高熵合金,并将其作为靶材,利用直流反应式磁控溅镀法在T1200A金属陶瓷刀具或硅晶片上沉积了高熵合金氮化物薄膜。通过扫描电镜、能谱仪、X射线衍射仪和纳米压痕仪考察了基板偏压对薄膜形貌、元素含量...
用真空电弧熔炼法制备了AlCrNbSiTiV高熵合金,并将其作为靶材,利用直流反应式磁控溅镀法在T1200A金属陶瓷刀具或硅晶片上沉积了高熵合金氮化物薄膜。通过扫描电镜、能谱仪、X射线衍射仪和纳米压痕仪考察了基板偏压对薄膜形貌、元素含量、物相成分和性能的影响。所得氮化物薄膜均匀、致密,所有元素的原子分数与靶材相当。由于再溅射,沉积速率随着基板偏压增大而减小。薄膜的弹性恢复和显微硬度在基板偏压为0^-100 V时随着偏压增大而提高,进一步增大偏压反而减小。相比未溅镀薄膜的刀具,用溅镀了AlCrNbSiTiV氮化物薄膜的刀具干切削S45C中碳钢圆柱工件,工件表面的粗糙度和刀具的侧面磨损显著降低。-100 V偏压溅镀的刀具的切削性能最佳。
展开更多
关键词
金属陶瓷刀具
高熵合金
铝铬铌硅钛钒
氮化物薄膜
反应式磁控溅镀
基板偏压
切削
下载PDF
职称材料
(AlCrNbSiTiV)N高熵合金氮化薄膜溅镀参数的灰关联分析优化
2
作者
万松峰
陈永刚
丁佳伟
《电镀与涂饰》
CAS
CSCD
北大核心
2020年第1期20-25,共6页
采用直流反应式磁控溅镀法在硅晶片和住友刀具BN2000上制备(AlCrNbSiTiV)N高熵合金氮化薄膜。通过正交试验考察了溅镀功率、沉积温度、氮氩气流量比和基材偏压对薄膜的摩擦因数、硬度和刀具磨损的影响。对信噪比进行灰关联分析,以实现...
采用直流反应式磁控溅镀法在硅晶片和住友刀具BN2000上制备(AlCrNbSiTiV)N高熵合金氮化薄膜。通过正交试验考察了溅镀功率、沉积温度、氮氩气流量比和基材偏压对薄膜的摩擦因数、硬度和刀具磨损的影响。对信噪比进行灰关联分析,以实现多目标优化,得出最佳工艺参数为:溅镀功率200 W,沉积温度200°C,氮氩气流量比0.3,基材偏压100 V。该条件下所得薄膜的摩擦因数为0.46,显微硬度为1243.72 HV,刀具磨损最小。
展开更多
关键词
高熵合金氮化物
反应式磁控溅镀
沉积参数
摩擦因数
显微硬度
磨损
灰关联分析
下载PDF
职称材料
题名
基板偏压对溅镀AlCrNbSiTiV高熵合金氮化物薄膜性能的影响
被引量:
6
1
作者
万松峰
许春耀
吴锦城
机构
东莞职业技术学院机电工程系
龙华科技大学机械工程系
出处
《电镀与涂饰》
CAS
CSCD
北大核心
2018年第3期122-128,共7页
基金
广东大学生科技创新培育资金立项课题"溅镀高熵合金氮化薄膜提升刀具寿命的研究"
东莞职业技术学院校级教改重点项目"机械类学生创新创业实践能力的培养"
文摘
用真空电弧熔炼法制备了AlCrNbSiTiV高熵合金,并将其作为靶材,利用直流反应式磁控溅镀法在T1200A金属陶瓷刀具或硅晶片上沉积了高熵合金氮化物薄膜。通过扫描电镜、能谱仪、X射线衍射仪和纳米压痕仪考察了基板偏压对薄膜形貌、元素含量、物相成分和性能的影响。所得氮化物薄膜均匀、致密,所有元素的原子分数与靶材相当。由于再溅射,沉积速率随着基板偏压增大而减小。薄膜的弹性恢复和显微硬度在基板偏压为0^-100 V时随着偏压增大而提高,进一步增大偏压反而减小。相比未溅镀薄膜的刀具,用溅镀了AlCrNbSiTiV氮化物薄膜的刀具干切削S45C中碳钢圆柱工件,工件表面的粗糙度和刀具的侧面磨损显著降低。-100 V偏压溅镀的刀具的切削性能最佳。
关键词
金属陶瓷刀具
高熵合金
铝铬铌硅钛钒
氮化物薄膜
反应式磁控溅镀
基板偏压
切削
Keywords
cermet cutter
high-entropy alloy
aluminum–chromium–niobium–silicon–titanium–vanadium
nitride thin film
reactive magnetron sputtering
substrate bias voltage
cutting
分类号
TG131 [一般工业技术—材料科学与工程]
下载PDF
职称材料
题名
(AlCrNbSiTiV)N高熵合金氮化薄膜溅镀参数的灰关联分析优化
2
作者
万松峰
陈永刚
丁佳伟
机构
东莞职业技术学院机电工程系
出处
《电镀与涂饰》
CAS
CSCD
北大核心
2020年第1期20-25,共6页
基金
2018东莞职业技术学院科研基金资助(2018a18)
广东省教育厅2017年度特色创新类项目(2017GGXJK094)
+1 种基金
2018广东大学生科技创新培育资金立项项目(pdjhb0901)
2018东莞市社会科技发展项目(20185071561262)
文摘
采用直流反应式磁控溅镀法在硅晶片和住友刀具BN2000上制备(AlCrNbSiTiV)N高熵合金氮化薄膜。通过正交试验考察了溅镀功率、沉积温度、氮氩气流量比和基材偏压对薄膜的摩擦因数、硬度和刀具磨损的影响。对信噪比进行灰关联分析,以实现多目标优化,得出最佳工艺参数为:溅镀功率200 W,沉积温度200°C,氮氩气流量比0.3,基材偏压100 V。该条件下所得薄膜的摩擦因数为0.46,显微硬度为1243.72 HV,刀具磨损最小。
关键词
高熵合金氮化物
反应式磁控溅镀
沉积参数
摩擦因数
显微硬度
磨损
灰关联分析
Keywords
high-entropy alloy nitride
reactive magnetron sputtering
deposition parameter
friction coefficient
microhardness
wear
grey relational analysis
分类号
TG13 [一般工业技术—材料科学与工程]
TG174.44 [金属学及工艺—金属表面处理]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
基板偏压对溅镀AlCrNbSiTiV高熵合金氮化物薄膜性能的影响
万松峰
许春耀
吴锦城
《电镀与涂饰》
CAS
CSCD
北大核心
2018
6
下载PDF
职称材料
2
(AlCrNbSiTiV)N高熵合金氮化薄膜溅镀参数的灰关联分析优化
万松峰
陈永刚
丁佳伟
《电镀与涂饰》
CAS
CSCD
北大核心
2020
0
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部