基于扫描电镜的反渗透基膜孔径测量方法研究

文章使用溅射镀膜仪对反渗透基膜进行喷金处理,探索最佳喷金参数,改善样品导电性;使用场发射扫描电镜和Image J软件对膜样的孔径进行测量分析。研究结果表明:喷金处理对反渗透基膜的扫描电镜图像质量具有重要影响,喷金处理既要能够改善样品表面导电性,又要避免金薄膜覆盖样品的原始形貌。最佳喷金参数为:溅射距离55 mm,溅射电流15 m A,溅射时间10 s。三种反渗透基膜中,1#和2#样品中,6.5 nm到10 nm孔径的数量分别为68.8%和58.1%;3#样品中小于或等于10 nm孔径的数量为19.7%,大于10 nm孔径的数量为80.3%。高分辨扫描电镜成像和Image J软件,结合最佳喷金处理,能够对反渗透基膜几纳米到几十纳米孔径进行有效测量。