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超高速双层多晶硅发射极晶体管及电路 被引量:2
1
作者 张利春 高玉芝 +7 位作者 金海岩 倪学文 莫邦燹 宁宝俊 罗葵 叶红飞 赵宝瑛 张广勤 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第3期345-349,共5页
报道了双层多晶硅发射极超高速晶体管及电路的工艺研究 .这种结构是在单层多晶硅发射极晶体管工艺基础上进行了多项改进 ,主要集中在第一层多晶硅的垂直刻蚀和基区、发射区之间的氧化硅、氮化硅复合介质的 L型侧墙形成技术方面 ,它有效... 报道了双层多晶硅发射极超高速晶体管及电路的工艺研究 .这种结构是在单层多晶硅发射极晶体管工艺基础上进行了多项改进 ,主要集中在第一层多晶硅的垂直刻蚀和基区、发射区之间的氧化硅、氮化硅复合介质的 L型侧墙形成技术方面 ,它有效地减小了器件的基区面积 .测试结果表明 ,晶体管有良好的交直流特性 .在发射区面积为 3μm× 8μm时 ,晶体管的截止频率为 6 .1GHz.19级环振平均门延迟小于 40 ps,硅微波静态二分频器的工作频率为 3.2 展开更多
关键词 双层多晶硅 复合介质L型侧墙 发射晶体 集成电路
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基于垂直结构的有机光发射晶体管制备与性能研究
2
作者 胡子阳 程晓曼 +3 位作者 吴仁磊 王忠强 侯庆传 印寿根 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2010年第4期2734-2738,共5页
制备了一种有机垂直光发射晶体管,兼具有机发光二极管的发光和晶体管的开关调节两个功能.其结构为一个有机发光单元垂直堆叠在一个电容单元上,两单元通过一个共有的源电极连在一起.当电容单元被充电时,积累在源电极的电荷能有效地调节... 制备了一种有机垂直光发射晶体管,兼具有机发光二极管的发光和晶体管的开关调节两个功能.其结构为一个有机发光单元垂直堆叠在一个电容单元上,两单元通过一个共有的源电极连在一起.当电容单元被充电时,积累在源电极的电荷能有效地调节源极与有机层之间的载流子注入势垒,从而达到控制源漏输出电流的大小,最终控制发光单元发光的强度.实验结果表明,器件可提供0.2mA的输出电流,其大小可驱动发光单元发光,工作电压(开启电压)为6V.这种垂直集成方案,实现了器件多功能化,为有机发光二极管有源矩阵驱动的实际应用提供了一种新的解决方法. 展开更多
关键词 有机光发射晶体 垂直 电容
原文传递
在大注入下多晶硅发射极晶体管特性模拟与理论分析
3
作者 郑云光 李斌桥 +6 位作者 李树荣 郭维廉 高松 张建杰 王阳元 张利春 马平西 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第2期96-99,共4页
本文利用经适当修改的Yih-FengChyan等人的PET大注人模型编制了程序,结合实例模拟了在大注入条件下具有发射区、基区指数掺杂分布的PET的输人特性、输出特性、电流增益和频率特性(fr和fmax),并对一些特性... 本文利用经适当修改的Yih-FengChyan等人的PET大注人模型编制了程序,结合实例模拟了在大注入条件下具有发射区、基区指数掺杂分布的PET的输人特性、输出特性、电流增益和频率特性(fr和fmax),并对一些特性曲线进行了分析.此程序可用于研究PET特性与器件结构参数之间的关系. 展开更多
关键词 多晶硅 发射晶体 大注入模型
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大注入下多晶硅发射极晶体管特性的一维模拟
4
作者 郑云光 郭维廉 +4 位作者 李树荣 李斌桥 王阳元 张利春 马平西 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1997年第1期60-66,共7页
利用Yih-FenyChyan等的PET大注入模型,并考虑了发射极串联电阻RTE和多晶硅/硅界面氧化层延迟时间τox对器件特性的影响,编制了程序。结合实例模拟了在大注入下具有发射区、基区指数掺杂分布的PET的电流增益和频率特性(fT人和fmax... 利用Yih-FenyChyan等的PET大注入模型,并考虑了发射极串联电阻RTE和多晶硅/硅界面氧化层延迟时间τox对器件特性的影响,编制了程序。结合实例模拟了在大注入下具有发射区、基区指数掺杂分布的PET的电流增益和频率特性(fT人和fmax)。模拟结果表明,RCA器件(发射区的多晶硅/硅界面氧化层厚度δ=1.4um)的β值高于HF器件(δ=0),但HF器件的fTmax值高于RCA器件。 展开更多
关键词 多晶硅 发射晶体 大注入模型 一维模型
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光子晶体垂直腔表面发射激光器及最佳化设计 被引量:2
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作者 张瑞君 《微纳电子技术》 CAS 2006年第9期420-425,共6页
单基模垂直腔表面发射激光器(VCSEL)在光网络数据传输、光互连、光存储和激光打印中有潜在的应用前景。光子晶体垂直腔表面发射激光器(PC-VCSEL)已成为备受关注的研究课题。介绍了PC-VCSEL的结构、最佳化设计及特性。
关键词 晶体垂直腔面发射激光器 数据传输 光互连
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多晶硅发射极晶体管电流增益工艺稳定性研究
6
作者 阚玲 刘建 《微电子学》 CAS 北大核心 2020年第4期589-592,共4页
针对多晶硅发射极晶体管实际工艺中出现的电流增益异常波动问题,首先从原理上进行了分析,其次通过与正常批次PCM数据进行对比,发现基极电流Ib存在一个量级的差异。设计了较为完整的DOE工艺试验,进行了对比和验证。结果表明,多晶硅/硅界... 针对多晶硅发射极晶体管实际工艺中出现的电流增益异常波动问题,首先从原理上进行了分析,其次通过与正常批次PCM数据进行对比,发现基极电流Ib存在一个量级的差异。设计了较为完整的DOE工艺试验,进行了对比和验证。结果表明,多晶硅/硅界面氧化层厚度一致性差、波动大是电流增益异常波动的主要原因。该研究结果为解决类似问题提供了有价值的参考。 展开更多
关键词 多晶硅发射晶体 电流增益 界面氧化层 自然氧化层
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多晶硅发射极晶体管h_(FE)、G_e、和K的普遍表达式及其分类 被引量:2
7
作者 蒋翔六 郭维廉 张咏梅 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1993年第2期14-21,共8页
本文综合考虑了影响多晶硅发射极晶体管(PET)电流增益的多种因素,针对最全面的器件结构推导出PET的共发射极直流电流增益h_FE发射极Gummel数G_e,和电流增益的增强因子k解析形式的普遍表达式,覆盖了PET的多种结构。并以此对PET从器件结... 本文综合考虑了影响多晶硅发射极晶体管(PET)电流增益的多种因素,针对最全面的器件结构推导出PET的共发射极直流电流增益h_FE发射极Gummel数G_e,和电流增益的增强因子k解析形式的普遍表达式,覆盖了PET的多种结构。并以此对PET从器件结构上进行了科学地分类。此普遍表达式也包含了Ning和Graaff的理论结果。 展开更多
关键词 多晶硅 发射晶体 双极晶体
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多晶硅发射极晶体管的集电区补偿注入技术
8
作者 何美华 张利春 王阳元 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第4期308-312,共5页
本文提出了一种新的提高多晶硅发射极晶体管和电路速度的方法,通过对器件外基区下对应的外延层区域进行离子补偿注入,降低相应外延层中的净掺杂浓度,有效地减小了外基区-集电区单位面积的集电结电容,有利于器件和电路速度的提高.... 本文提出了一种新的提高多晶硅发射极晶体管和电路速度的方法,通过对器件外基区下对应的外延层区域进行离子补偿注入,降低相应外延层中的净掺杂浓度,有效地减小了外基区-集电区单位面积的集电结电容,有利于器件和电路速度的提高.由于内基区下对应的外延层浓度不变,对器件的直流特性无不良影响.本文给出了补偿注入研究结果和器件特性. 展开更多
关键词 多晶硅 发射晶体 集电区 双极晶体 注入
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多晶硅发射极晶体管的数值分析及模拟
9
作者 周长胜 邹赫麟 +1 位作者 李建军 魏希文 《大连理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1993年第4期482-488,共7页
通过对多晶硅发射极晶体管(PET)的多晶硅及界面层导电特性的分析, 得到单晶发射区边界上电流密度与少子浓度之间的关系式,并以此为自洽的 边界条件,在单晶区数值求解一组描述晶体管电学特性的微分方程,得到晶 体管内部电势分... 通过对多晶硅发射极晶体管(PET)的多晶硅及界面层导电特性的分析, 得到单晶发射区边界上电流密度与少子浓度之间的关系式,并以此为自洽的 边界条件,在单晶区数值求解一组描述晶体管电学特性的微分方程,得到晶 体管内部电势分布和载流子分布以及PET的端电流特性. 展开更多
关键词 多晶硅 界面层 发射晶体
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940 nm垂直腔面发射激光器单管器件的设计与制备 被引量:1
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作者 潘智鹏 李伟 +4 位作者 吕家纲 聂语葳 仲莉 刘素平 马骁宇 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2023年第11期221-230,共10页
计算了InGaAs/AlGaAs量子阱的激射波长与阱垒厚度的关系,并通过Rsoft软件计算了不同温度下的材料增益特性.计算并分析了渐变层厚度对分布布拉格反射镜(distributed Bragg reflectors,DBRs)势垒尖峰及反射谱的影响,通过传输矩阵理论得到P... 计算了InGaAs/AlGaAs量子阱的激射波长与阱垒厚度的关系,并通过Rsoft软件计算了不同温度下的材料增益特性.计算并分析了渐变层厚度对分布布拉格反射镜(distributed Bragg reflectors,DBRs)势垒尖峰及反射谱的影响,通过传输矩阵理论得到P-DBR和N-DBR的反射谱和相位谱.模拟了垂直腔面发射激光器(vertical surface emitting lasers,VCSEL)结构整体的光场分布,驻波波峰与量子阱位置符合,基于有限元分析模拟了氧化层对电流限制的影响.通过计算光子晶体垂直腔面发射激光器(photonic crystal vertical cavity surface emitting lasers,PC-VCSEL)中不同的模式分布及其品质因子Q,证明该结构可以有效地实现基横模输出.通过光刻、刻蚀、沉积、剥离等半导体工艺成功制备出氧化孔径为22μm的VCSEL和PC-VCSEL,VCSEL的阈值电流为5.2 mA,斜率效率0.67 mW/mA,在不同电流光谱测试中均是明显的多横模输出;PCVCSEL的阈值电流为6.5 mA,基横模输出功率超过2.5 mW,不同电流下的边模抑制比超过25 dB,光谱宽度小于0.2 nm. 展开更多
关键词 垂直腔面发射激光器 光子晶体垂直腔面发射激光器 基横模 大功率
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多晶硅发射极晶体管放大系数稳定性研究 被引量:2
11
作者 孙建洁 张可可 +1 位作者 许帅 张明 《电子与封装》 2021年第4期50-53,共4页
通过对NPN型多晶硅发射极晶体管的工艺过程进行分析,对多晶淀积工艺过程提出严格的控制方案,使多晶界面氧化层厚度稳定在0.6~0.8 nm。同时,对基区与发射区退火工艺进行优化,使多晶发射极晶体管放大系数的片内均匀性从30%改善至20%,片间... 通过对NPN型多晶硅发射极晶体管的工艺过程进行分析,对多晶淀积工艺过程提出严格的控制方案,使多晶界面氧化层厚度稳定在0.6~0.8 nm。同时,对基区与发射区退火工艺进行优化,使多晶发射极晶体管放大系数的片内均匀性从30%改善至20%,片间均匀性从12%改善至9%,显著提升了产品的成品率。 展开更多
关键词 多晶硅发射晶体 放大系数 界面氧化层 退火
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非晶态发射极晶体管中发射结电流密度的横向分布
12
作者 林绪伦 朱恩均 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第8期611-617,共7页
本文对于由非晶硅和单晶硅两个区域构成的发射区结构,计算了利用非晶硅垂直电阻的镇流作用后发射结直流电流密度的横向分布,并给出发射极有效半宽度与发射区方块电阻及基区方块电阻的关系曲线.这些分析有助于非晶硅发射极微波功率管... 本文对于由非晶硅和单晶硅两个区域构成的发射区结构,计算了利用非晶硅垂直电阻的镇流作用后发射结直流电流密度的横向分布,并给出发射极有效半宽度与发射区方块电阻及基区方块电阻的关系曲线.这些分析有助于非晶硅发射极微波功率管的性能的提高. 展开更多
关键词 非晶硅 发射晶体 电流密度 晶体 横向分布
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离子辐照缺陷对太赫兹波发射性能的影响
13
作者 黄灿 杨康 +4 位作者 马明旺 海洋 张增艳 赵红卫 朱智勇 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 2014年第4期46-51,共6页
应用半经典的蒙特卡罗方法,模拟计算了处于不同缺陷条件下的砷化镓在超快激光激发下的载流子输运行为及其相应的太赫兹波发射性能。计算结果表明,缺陷的类型和浓度都会对太赫兹波的脉宽和峰高产生显著的影响。分别采用500 keV和1.5 MeV... 应用半经典的蒙特卡罗方法,模拟计算了处于不同缺陷条件下的砷化镓在超快激光激发下的载流子输运行为及其相应的太赫兹波发射性能。计算结果表明,缺陷的类型和浓度都会对太赫兹波的脉宽和峰高产生显著的影响。分别采用500 keV和1.5 MeV的氮离子在不同剂量下辐照了半绝缘的砷化镓和掺铁磷化铟样品,并将辐照样品制备成太赫兹波发射天线。通过对辐照样品的太赫兹波发射能力进行测量,发现不同辐照条件下制备的太赫兹发射天线其太赫兹波的脉宽基本一致,只有峰高随辐照产生的缺陷浓度增大呈现先增大后减小的变化。结合理论计算和实验测量结果,分析讨论了光电导材料太赫兹波发射的缺陷机制。 展开更多
关键词 蒙特卡罗模拟 太赫兹发射晶体 离子辐照缺陷
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光子晶体面发射蓝光激光器的高速调制性能分析
14
作者 周扬 贺树敏 +1 位作者 沈威 刘启发 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第23期23-29,共7页
光子晶体面发射激光器基于光子晶体能带带边模式,形成二维微腔谐振,继而实现光增益和激射,其具有高功率、单纵模等优异特性。基于氮化镓基蓝光激光器结构和速率方程调制理论,对异质结构光子晶体面发射激光器进行了动态调制性能分析。通... 光子晶体面发射激光器基于光子晶体能带带边模式,形成二维微腔谐振,继而实现光增益和激射,其具有高功率、单纵模等优异特性。基于氮化镓基蓝光激光器结构和速率方程调制理论,对异质结构光子晶体面发射激光器进行了动态调制性能分析。通过仿真计算得出,在所研究的激光器结构参数下,阈值电流为1.76 mA,最大3 dB调制带宽为42 GHz,最低数据发送能耗为62.78 pJ·bit^(-1),展示出了该结构激光器的基础性能和高速调制特性,为具有大调制带宽的蓝光激光器的设计提供了参考。 展开更多
关键词 激光器 光子晶体发射激光器 速率方程 异质结构 3 dB调制带宽 发送能耗
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单模电注入面发射激光器研究进展
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作者 艾星辰 田思聪 +6 位作者 Mansoor Ahamed 孙家辉 王宇昊 潘绍驰 佟存柱 王立军 Bimberg Dieter 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2024年第17期16-29,共14页
互联网、超算中心、数据中心光互连等高速光通信领域,以及激光雷达、显示等应用,均对半导体激光器提出单模、单偏振态、高速、高功率等更高性能要求。本文梳理了以垂直腔面发射激光器(VCSEL)、光子晶体面发射激光器等为主的电注入表面... 互联网、超算中心、数据中心光互连等高速光通信领域,以及激光雷达、显示等应用,均对半导体激光器提出单模、单偏振态、高速、高功率等更高性能要求。本文梳理了以垂直腔面发射激光器(VCSEL)、光子晶体面发射激光器等为主的电注入表面发射型半导体激光器的研究进展,包括:为了同时实现单模和单偏振性,设计表面光栅、浮雕和高折射率对比度光栅VCSEL;为了实现单模高速特性,引入锌扩散区、建立横向耦合腔、构建多孔结构氧化限制VCSEL;为了实现单模、高功率性,采用构建慢光表面光栅负载VCSEL、引入锌扩散区、设计多结或多氧化孔径VCSEL等方式;为了实现突破性的单模、高功率、极小发散角等性能,采用光子晶体面发射激光器。最后对面发射激光器发展趋势做出展望。 展开更多
关键词 垂直腔面发射激光器 单模光 高速传输 高功率激光 光子晶体发射激光器
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哈里伯顿BCAS-Ⅰ测井仪改进
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作者 王辉 韩文健 +3 位作者 李斌 王源涛 吴斌 刘宏明 《石油管材与仪器》 2019年第1期60-63,共4页
哈里伯顿公司BCAS-Ⅰ测井仪是LOGIQ系列仪器中的一种单极声波测井仪,在长庆油田的实际应用中,暴露出了一些缺陷,比如发射能量弱和声系结构复杂。通过更换发射晶体,增大发射电压,改进电路结构,提高发射能量,使BCAS声波测井仪抗干扰能力增... 哈里伯顿公司BCAS-Ⅰ测井仪是LOGIQ系列仪器中的一种单极声波测井仪,在长庆油田的实际应用中,暴露出了一些缺陷,比如发射能量弱和声系结构复杂。通过更换发射晶体,增大发射电压,改进电路结构,提高发射能量,使BCAS声波测井仪抗干扰能力增强,在恶劣井况下仍然能获取较好的声波时差曲线。 展开更多
关键词 BCAS声波测井仪 发射晶体 发射电压
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选择离子注入集电极技术研究 被引量:1
17
作者 金海岩 张利春 高玉芝 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2004年第1期130-133,共4页
为提高超高速双极晶体管的电流增益 ,降低大电流下基区扩展效应对器件的影响 ,将选择离子注入集电区技术 (SIC)应用于双层多晶硅发射极晶体管中。扩展电阻的测试结果显示出注入的 P离子基本上集中在集电区的位置 ,对发射区和基区未造成... 为提高超高速双极晶体管的电流增益 ,降低大电流下基区扩展效应对器件的影响 ,将选择离子注入集电区技术 (SIC)应用于双层多晶硅发射极晶体管中。扩展电阻的测试结果显示出注入的 P离子基本上集中在集电区的位置 ,对发射区和基区未造成显著影响。电学特性测量结果表明 ,经过离子注入的多晶硅发射极晶体管的电流增益和最大电流增益对应的集电极电流明显高于未经离子注入的晶体管。因此 ,在双层多晶硅晶体管中采用 SIC技术 ,有效地降低了基区的扩展效应 ,提高了器件的电学特性。 展开更多
关键词 基区扩展效应 选择离子注入集电区 双层多晶硅发射晶体 电流增益
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Alloy Temperature Dependence of Offset Voltage and Ohmic Contact Resistance in Thin Base InGaP/GaAs HBTs
18
作者 杨威 刘训春 +2 位作者 朱旻 王润梅 申华军 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第5期765-768,共4页
The alloy temperature dependence of Voffset and Rcontact is studied, and an optimal alloy temperature range for the best trade-off between Voffset and Rcontact, is given for thin base HBTs. In addition,the reason for ... The alloy temperature dependence of Voffset and Rcontact is studied, and an optimal alloy temperature range for the best trade-off between Voffset and Rcontact, is given for thin base HBTs. In addition,the reason for the high Voffset at high alloy temperature is interpreted using Schottky clamped theory. The lower Voffset of our U-shaped emitter HBT than that of traditional strip emitter HBTs is explained. 展开更多
关键词 heterojunction bipolar transistor U-shaped emitter ALLOY offset voltage
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Super Performance InGaP/GaAs Heterojunction Bipolar Transistor with Hexagonal Emitter
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作者 刘洪刚 袁志鹏 +1 位作者 和致经 吴德馨 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第11期1135-1139,共5页
Super performance InGaP/GaAs heterojunction bipolar transistors (HBTs) with hexagonal emitter are described.The fabricated HBT shows excellent DC characteristics with low V CE offset voltage (<0 15V) and ... Super performance InGaP/GaAs heterojunction bipolar transistors (HBTs) with hexagonal emitter are described.The fabricated HBT shows excellent DC characteristics with low V CE offset voltage (<0 15V) and low knee voltage (<0 5V).Over 14V of the collector base breakdown voltage BV CBO and over 9V of the collector emitter breakdown voltage BV CEO are obtained.For a self aligned InGaP/GaAs HBT with 2μm×10μm emitter area,the f T is extrapolated to 92GHz and f max is extrapolated to 105GHz.These great values are obtained due to the hexagonal emitter and laterally etched undercut (LEU) of collector,indicating the great potential of InGaP/GaAs HBTs for high speed digital circuit and microwave power applications. 展开更多
关键词 HBT INGAP/GAAS hexagonal emitter
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3GHz硅双极型微波静态分频器的设计 被引量:1
20
作者 奠邦燹 张利春 +2 位作者 倪学文 宁宝俊 王阳元 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第2期89-92,共4页
本文报道了一种超高速ECL静态二分频器;介绍了该分频器的核心器件─—NPN晶体管的结构和实现该结构的有关先进工艺,包括深槽隔离、多晶硅发射极、钻硅化物和浅结薄基区等;使用这种多晶硅发射极晶体管,3pm特征尺寸设计的1... 本文报道了一种超高速ECL静态二分频器;介绍了该分频器的核心器件─—NPN晶体管的结构和实现该结构的有关先进工艺,包括深槽隔离、多晶硅发射极、钻硅化物和浅结薄基区等;使用这种多晶硅发射极晶体管,3pm特征尺寸设计的19级环形振荡器的平均门延迟小于50ps.讨论了提高分频器工作频率的一些有效方法并给出了3.2GHz硅静态分频器的电路设计和版图设计. 展开更多
关键词 多晶硅 发射晶体 ECL集成电路 分频器
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