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钝化边沿的制作及其对GaInP/GaAs SHBT性能的影响
1
作者
杜鹏搏
蔡克理
蔡树军
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2007年第3期213-216,共4页
利用光刻胶形成保护侧墙,用湿法腐蚀来形成发射极钝化边沿。这种方法工艺简单,不需要额外的绝缘介质作为掩膜,也不需要双层腐蚀终止层。研发出了带发射极钝化边沿的GaInP/GaAs单异质结双极型晶体管(SHBT),并对不同尺寸有无钝化边沿的器...
利用光刻胶形成保护侧墙,用湿法腐蚀来形成发射极钝化边沿。这种方法工艺简单,不需要额外的绝缘介质作为掩膜,也不需要双层腐蚀终止层。研发出了带发射极钝化边沿的GaInP/GaAs单异质结双极型晶体管(SHBT),并对不同尺寸有无钝化边沿的器件特性进行对比,结果表明钝化边沿能有效改善小尺寸器件的直流特性,对器件的高频特性无明显影响。
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关键词
侧墙
发射极钝化边沿
单异质结双极型晶体管
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职称材料
题名
钝化边沿的制作及其对GaInP/GaAs SHBT性能的影响
1
作者
杜鹏搏
蔡克理
蔡树军
机构
武汉大学物理科学与技术学院
中国电子科技集团公司第十三研究所
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2007年第3期213-216,共4页
基金
国家863项目(编号:2005AA123720)
文摘
利用光刻胶形成保护侧墙,用湿法腐蚀来形成发射极钝化边沿。这种方法工艺简单,不需要额外的绝缘介质作为掩膜,也不需要双层腐蚀终止层。研发出了带发射极钝化边沿的GaInP/GaAs单异质结双极型晶体管(SHBT),并对不同尺寸有无钝化边沿的器件特性进行对比,结果表明钝化边沿能有效改善小尺寸器件的直流特性,对器件的高频特性无明显影响。
关键词
侧墙
发射极钝化边沿
单异质结双极型晶体管
Keywords
sidewall
emitter passivation ledge
single-heterojunction bipolar transistor (SHBT)
分类号
TN325.3 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
钝化边沿的制作及其对GaInP/GaAs SHBT性能的影响
杜鹏搏
蔡克理
蔡树军
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2007
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职称材料
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