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受主型界面态在深亚微米槽栅PMOSFET中引起退化的研究
1
作者
任红霞
郝跃
《电子与信息学报》
EI
CSCD
北大核心
2002年第1期108-114,共7页
界面态引起的器件特性的退化是深亚微米器件失效的一个重要因素。本文基于流体动力学能量输运模型,对沟道杂质浓度不同的槽栅和平面PMOSFET中受主型界面态引起的器件特性的退比进行了分析。研究结果表明同样浓度的界面态密度在槽栅器件...
界面态引起的器件特性的退化是深亚微米器件失效的一个重要因素。本文基于流体动力学能量输运模型,对沟道杂质浓度不同的槽栅和平面PMOSFET中受主型界面态引起的器件特性的退比进行了分析。研究结果表明同样浓度的界面态密度在槽栅器件中引起的器件特性的漂移远大于平面器件,且P型受主型界面态密度对器件特性的影响也远大于N型界面态。沟道杂质浓度不同,界面态引起的器件特性的退化不同。
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关键词
受主型界面态
深亚微米槽栅
PMOSFET
退化
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题名
受主型界面态在深亚微米槽栅PMOSFET中引起退化的研究
1
作者
任红霞
郝跃
机构
西安电子科技大学微电子所
出处
《电子与信息学报》
EI
CSCD
北大核心
2002年第1期108-114,共7页
基金
国家部级基金
文摘
界面态引起的器件特性的退化是深亚微米器件失效的一个重要因素。本文基于流体动力学能量输运模型,对沟道杂质浓度不同的槽栅和平面PMOSFET中受主型界面态引起的器件特性的退比进行了分析。研究结果表明同样浓度的界面态密度在槽栅器件中引起的器件特性的漂移远大于平面器件,且P型受主型界面态密度对器件特性的影响也远大于N型界面态。沟道杂质浓度不同,界面态引起的器件特性的退化不同。
关键词
受主型界面态
深亚微米槽栅
PMOSFET
退化
Keywords
Grooved-gate PMOSFET, Interface state density, Threshold voltage, Drain current driving capability, Performance degradation
分类号
TN386.1 [电子电信—物理电子学]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
受主型界面态在深亚微米槽栅PMOSFET中引起退化的研究
任红霞
郝跃
《电子与信息学报》
EI
CSCD
北大核心
2002
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