期刊文献+
共找到1篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
利用UV曝光技术研制单根定向碳纳米管阵列冷阴极 被引量:3
1
作者 陈长青 丁明清 +3 位作者 李兴辉 白国栋 张甫权 冯进军 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第1期1-5,共5页
通过普通的紫外(UV)光刻工艺,结合“变倾角缩口”新技术,研制了不同发射单元尺寸的碳纳米管(CNTs)阵列阴极。扫瞄电镜分析表明,随着缩口尺寸的依次减小(从0.6μm到0.4μm,最后到0.2μm),发射单元内CNTs的根数也不断减少... 通过普通的紫外(UV)光刻工艺,结合“变倾角缩口”新技术,研制了不同发射单元尺寸的碳纳米管(CNTs)阵列阴极。扫瞄电镜分析表明,随着缩口尺寸的依次减小(从0.6μm到0.4μm,最后到0.2μm),发射单元内CNTs的根数也不断减少。当孔径缩至0.2μm时,发射单元仅由1根~3根CNTs组成,并且大部分单元顶端均有单根CNT伸出,使得整个发射体近似于单根CNT。场发射特性测试结果表明,0.2μm发射单元尺寸的阵列阴极,开启电场约2V·μm-1;当场强为20V·μm-1时,该阵列的电流密度达到0.35A·cm-2,比1μm尺寸的阵列阴极提高了近4倍,比连续生长的薄膜CNTs阴极则高1~2个数量级。 展开更多
关键词 UV光刻技术 变倾角缩口 定向碳纳米管的生长 场发射阵列冷阴极
下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部