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活塞驱动变压吸附反应器的模型化 被引量:1
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作者 胡鸣 周兴贵 +1 位作者 顾峥 袁渭康 《中国工程科学》 2001年第12期52-57,共6页
建立了活塞驱动的快速变压吸附反应器模型 ,根据气缸与床层相通时压力、浓度和流率的连续性要求 ,提出了模型的边界条件。以 2A B +C为反应体系 ,其中C为易吸附组分 ,A、B为不吸附组分 ,利用动态模拟软件gPROMS模拟考察了反应器长度、... 建立了活塞驱动的快速变压吸附反应器模型 ,根据气缸与床层相通时压力、浓度和流率的连续性要求 ,提出了模型的边界条件。以 2A B +C为反应体系 ,其中C为易吸附组分 ,A、B为不吸附组分 ,利用动态模拟软件gPROMS模拟考察了反应器长度、周期长度、活塞运动速率。 展开更多
关键词 活塞驱动 吸附反应器 吸附过程 边界条件 多功能反应器 动态模拟
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吸附反应器的研究进展
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作者 张军社 周理 《化学进展》 SCIE CAS CSCD 2001年第3期234-238,共5页
本文概括介绍了吸附反应和吸附反应器 。
关键词 吸附反应器 变压反应器 过程模拟 数学模拟 色谱反应器
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Compressively Strained InGaAs/InGaAsP Quantum Well Distributed Feedback Laser at 1.74μm 被引量:1
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作者 潘教青 王圩 +4 位作者 朱洪亮 赵谦 王宝军 周帆 王鲁峰 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第9期1688-1691,共4页
The compressively strained InGaAs/InGaAsP quantum well distributed feedback laser with ridge-wave- guide is fabricated at 1.74μm. It is grown by low-pressure metal organic chemical vapor deposition(MOCVD). A strain... The compressively strained InGaAs/InGaAsP quantum well distributed feedback laser with ridge-wave- guide is fabricated at 1.74μm. It is grown by low-pressure metal organic chemical vapor deposition(MOCVD). A strain buffer layer is used to avoid indium segregation. The threshold current of the device uncoated with length of 300μm is 11.5mA. The maximum output power is 14mW at 100mA. A side mode suppression ratio of 35.5dB is obtained. 展开更多
关键词 DFB laser compressive strain quantum well
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