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GaInP_2外延膜中施主──受主对复合发光带的能量关量
1
作者
梁家昌
《中国民航学院学报》
1994年第3期79-87,共9页
通过变温与变激发强度的近红外光致发光研究了用MOCVD方法、生长在GaAs衬底上的Ga0.5In0.5P(GaInP2)外延薄膜的1.17eV发射带的发光特性。1.17eV发光带性质与0.99eV及0.85eV发光带...
通过变温与变激发强度的近红外光致发光研究了用MOCVD方法、生长在GaAs衬底上的Ga0.5In0.5P(GaInP2)外延薄膜的1.17eV发射带的发光特性。1.17eV发光带性质与0.99eV及0.85eV发光带的性质有着明显的差别。1.17eV发光带的机理可用施主-受主对的复合发光来解释,其中施主-受主对系白处在Ga格位上的Si(SiGa)及其最邻近的Ga空位(VGa)所组成,记作SiGa-VGa。考虑到GaInP2中存在着很强的电子-格子耦合作用及其Ⅲ族子格子为部分有序,所以在施主-受主对复合发光中应计及Franck-Condon位移△FC及该对在等效的部分有序势场中的相互作用能Es(DAP)。X—射线衍射实验表明,部分有序结构相当于成分调制,因而可用Kronig-Penney模型来计算Es(DAP)值。这样,我们就导出了施主-受主对复合发光的新的能量表示式。
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关键词
GaInP2外延薄膜
变激发强度
复合发光带
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职称材料
题名
GaInP_2外延膜中施主──受主对复合发光带的能量关量
1
作者
梁家昌
出处
《中国民航学院学报》
1994年第3期79-87,共9页
基金
国家自然科学基金
中国科学院长春物理研究所激发态物理开放实验室的基金
文摘
通过变温与变激发强度的近红外光致发光研究了用MOCVD方法、生长在GaAs衬底上的Ga0.5In0.5P(GaInP2)外延薄膜的1.17eV发射带的发光特性。1.17eV发光带性质与0.99eV及0.85eV发光带的性质有着明显的差别。1.17eV发光带的机理可用施主-受主对的复合发光来解释,其中施主-受主对系白处在Ga格位上的Si(SiGa)及其最邻近的Ga空位(VGa)所组成,记作SiGa-VGa。考虑到GaInP2中存在着很强的电子-格子耦合作用及其Ⅲ族子格子为部分有序,所以在施主-受主对复合发光中应计及Franck-Condon位移△FC及该对在等效的部分有序势场中的相互作用能Es(DAP)。X—射线衍射实验表明,部分有序结构相当于成分调制,因而可用Kronig-Penney模型来计算Es(DAP)值。这样,我们就导出了施主-受主对复合发光的新的能量表示式。
关键词
GaInP2外延薄膜
变激发强度
复合发光带
Keywords
GalnP_2 epilayer
photoluminescence spectroscopy with respect to changes of temperature and excitation intensity
enriched factor, compositional modulation, an energy expression for the donor-acceptor pair recombination luminescence
分类号
TN383 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
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1
GaInP_2外延膜中施主──受主对复合发光带的能量关量
梁家昌
《中国民航学院学报》
1994
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职称材料
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