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题名测量薄膜厚度的数字叠栅技术
被引量:3
- 1
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作者
苏俊宏
刘奕辰
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机构
西安工业大学光电工程学院
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出处
《中国激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第11期99-103,共5页
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基金
科技部国际科技合作(2010DFR70530)资助课题
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文摘
现代干涉测试的核心是用合理的算法处理干涉图而获得所需的面形及参数。由于常见的相移法要通过移相器有规律地移动采集多幅干涉图并数字化后求取波面的相位分布,这样必然引入由于移相器的线性及非线性误差所带来的计算误差,因此需要事先对移相器进行标定。采用了数字叠栅方法,利用一幅静态干涉图与一个正弦光栅的4幅光强分布图叠加,从而实现相移式动态干涉测试的效果,借助于相移法处理干涉图原理,可获得波面相位分布,从而实现对薄膜厚度的测量。由于正弦光栅的初始相位是由计算机产生的,所给出的相位移动不含任何移相误差,因此可提高测量的精度。
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关键词
薄膜
厚度
干涉图
移相干涉法
叠栅技术
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Keywords
thin films
thickness
interferogram
phase shifting interferometry
Moir
technology
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分类号
O436
[机械工程—光学工程]
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题名叠栅层析技术在诊断三维温度场中的应用
- 2
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作者
李田泽
范忠奇
戴金符
张新慧
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机构
山东工程学院
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出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001年第12期1492-1495,共4页
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文摘
本文阐述了叠栅层析技术 ,利用计算机的层析算法 ,对三维温度场进行了诊断研究 ,给出了实验结果并作了相应的讨论 .
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关键词
叠栅层析技术
三维温度场
层析算法
计算机
诊断
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Keywords
Moire CT technique
3-D temperature
Method of CT calculate
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分类号
O551.2
[理学—热学与物质分子运动论]
O436.1
[机械工程—光学工程]
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题名叠栅层析技术及其在激光柔性加工新技术中的应用
- 3
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作者
谭博学
李田泽
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机构
山东理工大学电气与电子工程学院
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出处
《山东理工大学学报(自然科学版)》
CAS
2004年第4期25-30,共6页
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文摘
基于光学干涉层析技术,设计了一种多方向叠栅层析系统,给出了该系统的计算机层析算法,并对层析技术在激光柔性加工新技术中的应用等作了分析与讨论.
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关键词
叠栅层析技术
激光柔性加工
切片算法
光学干涉层析
计算机网格算法
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Keywords
moire CT technique
flexible machining
slicing algorithm
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分类号
TG665
[金属学及工艺—金属切削加工及机床]
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题名阴影叠栅相移非线性误差补偿算法研究
被引量:3
- 4
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作者
杜虎兵
赵宏
李兵
赵金磊
曹士旭
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机构
西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室
西安航空技术高等专科学校
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出处
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第5期98-102,共5页
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基金
国家973计划(2009CB724207)
国家自然科学基金(50975228)资助课题
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文摘
相移阴影叠栅干涉场的相位(高度)存在非线性关系,而传统的相移阴影叠栅技术往往忽略了相位与高度的非线性关系,从而在测量系统中引入测量误差。对此提出了一种基于迭代相位解调自调算法相移阴影叠栅技术,该方法利用最小二乘技术获得相移量估算值,利用该估算值通过迭代算法消除相移阴影叠栅的全场相位误差,从而得到正确的相位分布。模拟计算表明该方法可以有效解决相移不均产生的相位测量误差问题,且可实现光栅移动量的精确估算,其误差不超过3.4%。对比实验进一步说明了所提出方法的正确性和优越性。
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关键词
测量
阴影叠栅技术
迭代算法
相移
三维轮廓
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Keywords
measurement
shadow Moire technique
iterative algorithms
phase-shifting
3-D shape
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分类号
O439
[机械工程—光学工程]
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题名接近式光刻对准中的叠栅干涉测角方法
被引量:2
- 5
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作者
佟军民
周绍林
赵立新
胡松
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机构
许昌职业技术学院机电工程系
中国科学院光电技术研究所
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出处
《中国激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2014年第12期156-162,共7页
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基金
国家自然科学基金(61376110
61274108)
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文摘
干涉测量是众多科学与工程领域广泛采用的精密计量手段。探索了一种方便可控的基于双光栅衍射的叠栅干涉相敏测角方法,可直接用于接近式光刻过程中掩模衬底的倾斜矫正及面内角调节,便于微纳米器件及微光电子系统集成等相关应用。本方法旨在分别利用双光栅多次衍射产生的对称与相似级次,实现(m,-m)级叠栅干涉与(m,0)级叠栅干涉,产生相位与二者相对倾斜角、面内角有关的场分布。分析推导了叠栅干涉测角的基本原理,然后介绍相应的(m,-m)级与(m,0)级干涉测角方案设计。具体而言,二者均类似地根据条纹偏转及频率变化分别以离轴与同轴的方式监测倾斜及面内偏转角度。设计相应的组合光栅标记进行实验验证。实验结果及分析表明,倾斜角与面内角的调节精度分别可达10-3 rad及10-4 rad。
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关键词
测量
干涉测量
叠栅技术
微细加工
光刻
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Keywords
measurement
interferometry
moire techniques
micr-fabrication
lithography
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分类号
O436
[机械工程—光学工程]
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