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用于快速光学邻近校正的可变阈值光刻胶模型
被引量:
1
1
作者
王国雄
史峥
+2 位作者
严晓浪
陈志锦
付萍
《浙江大学学报(工学版)》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第6期634-637,684,共5页
提出了用于光刻仿真的建模流程.用高斯滤波器与空间影像进行卷积,得到改进的空间影像来模拟光刻胶的扩散,然后使用可变阈值光刻胶模型,以实际工艺数据拟合该模型参数,再把改进空间影像的相关信息作为输入,并根据可变阈值光刻胶模型所确...
提出了用于光刻仿真的建模流程.用高斯滤波器与空间影像进行卷积,得到改进的空间影像来模拟光刻胶的扩散,然后使用可变阈值光刻胶模型,以实际工艺数据拟合该模型参数,再把改进空间影像的相关信息作为输入,并根据可变阈值光刻胶模型所确定的光强阈值来预测CD(criticaldimension)变化,从而使光刻仿真的结果更精确地附合实际测量数据.由于正确地表征了实际工艺的特性,模拟结果显示,多参数光刻胶模型更适于实际开发的光学邻近校正(opticalproximitycorrection,OPC)仿真工具.
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关键词
光刻
仿真
光学邻近校正
可变阈值光刻胶模型
集成电路
制造工艺
空间影像
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职称材料
题名
用于快速光学邻近校正的可变阈值光刻胶模型
被引量:
1
1
作者
王国雄
史峥
严晓浪
陈志锦
付萍
机构
浙江大学超大规模集成电路设计研究所
华东地质学院信息工程系
出处
《浙江大学学报(工学版)》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第6期634-637,684,共5页
基金
国家自然科学基金资助项目(60176015).
文摘
提出了用于光刻仿真的建模流程.用高斯滤波器与空间影像进行卷积,得到改进的空间影像来模拟光刻胶的扩散,然后使用可变阈值光刻胶模型,以实际工艺数据拟合该模型参数,再把改进空间影像的相关信息作为输入,并根据可变阈值光刻胶模型所确定的光强阈值来预测CD(criticaldimension)变化,从而使光刻仿真的结果更精确地附合实际测量数据.由于正确地表征了实际工艺的特性,模拟结果显示,多参数光刻胶模型更适于实际开发的光学邻近校正(opticalproximitycorrection,OPC)仿真工具.
关键词
光刻
仿真
光学邻近校正
可变阈值光刻胶模型
集成电路
制造工艺
空间影像
Keywords
lithography process simulation
optical proximity correction(OPC)
variable threshold resist model
分类号
TN405.7 [电子电信—微电子学与固体电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
用于快速光学邻近校正的可变阈值光刻胶模型
王国雄
史峥
严晓浪
陈志锦
付萍
《浙江大学学报(工学版)》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002
1
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