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胶体刻蚀纳米结构化表面的构筑与应用
被引量:
7
1
作者
张刚
赵志远
汪大洋
《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第5期839-854,共16页
综述了近年来胶体刻蚀领域的研究进展,分别讨论了基于胶体微粒和胶体晶体为模板的可控沉积与可控刻蚀及在固体平面基质、曲面基质和气液界面等不同基质上构筑结构化表面的方法.同时还探讨了利用胶体刻蚀方法形成的微纳结构在光、电、磁...
综述了近年来胶体刻蚀领域的研究进展,分别讨论了基于胶体微粒和胶体晶体为模板的可控沉积与可控刻蚀及在固体平面基质、曲面基质和气液界面等不同基质上构筑结构化表面的方法.同时还探讨了利用胶体刻蚀方法形成的微纳结构在光、电、磁以及表面润湿和生物学等方面的应用.
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关键词
胶体
刻蚀
胶体晶体
可控
沉积
可控刻蚀
图案化
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职称材料
题名
胶体刻蚀纳米结构化表面的构筑与应用
被引量:
7
1
作者
张刚
赵志远
汪大洋
机构
吉林大学化学学院超分子结构与材料国家重点实验室
Max Planck Institute of Colloids and Interfaces
出处
《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第5期839-854,共16页
基金
国家自然科学基金(批准号:50703015)
国家“九七三”计划项目(批准号:2007CB936402)资助
文摘
综述了近年来胶体刻蚀领域的研究进展,分别讨论了基于胶体微粒和胶体晶体为模板的可控沉积与可控刻蚀及在固体平面基质、曲面基质和气液界面等不同基质上构筑结构化表面的方法.同时还探讨了利用胶体刻蚀方法形成的微纳结构在光、电、磁以及表面润湿和生物学等方面的应用.
关键词
胶体
刻蚀
胶体晶体
可控
沉积
可控刻蚀
图案化
Keywords
Colloidal lithography
Colloidal crystal
Controlled deposition
Controlled etching
Patterning
分类号
O631 [理学—高分子化学]
O641 [理学—物理化学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
胶体刻蚀纳米结构化表面的构筑与应用
张刚
赵志远
汪大洋
《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010
7
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