平行缝焊微电子器件的光学检漏

光学检漏为非接触式封装漏率测量方法,且单次测试可同时完成粗检及细检,是一种快速的封装检漏技术。对光学检漏与氦质谱检漏的漏率计算公式进行了详细分析和对比。设计了多组实验探究如工装翘曲度、封装内空腔体积等因素对光学检漏检测结果的影响,分析了光学检漏的“充压”问题并给出解决方案,对比了光学检漏与氦质谱检漏的检测漏率。分析了光学检漏技术的优缺点,并通过实验验证了光学检漏的可行性及可靠性,为微电子器件的光学检漏应用提供参考。

宇航用电子元器件质量管控技术研究分析

宇航用电子元器件的质量是关乎航天产品运行安全的重要影响因素,为了解决以往宇航用电子元器件所存在的质量问题,本文提出了质量管控技术的提议。从获取宇航用电子元器件质量信息、信息分析、处理、可靠性研究及元器件质量管控等角度创建了完整的质量管控技术流程,且为了更好地验证这一质量管控技术流程适用于所有宇航用电子元器件质量管控,展开了相应的实例验证。验证证明,本文所设计的质量管控技术流程具有较高的质量管控可信度。

军用电子元器件过程质量管控体系的构建

电子元器件是武器装备的核心和基础,其质量影响装备作战水平。近年来,在全面推进元器件自主可控,实现元器件100%国产化的要求下,军工电子元器件单位不仅面临交付压力,更面临着质量压力和质量风险。面对严峻的质量形势,如何高效实施过程质量管控,确保武器装备质量,是军工电子元器件单位进行质量提升工作的重点。论述了军工电子元器件单位在GJB 9001C—2017《质量管理体系要求》的基础上,建设全寿命周期过程质量管控体系的内容和实施方法,为军工电子元器件单位建立过程质量管控提供了参考。

新颖的微流控光学变焦透镜阵列集成器件

提出一种微流控光学变焦透镜阵列芯片,以解决变焦透镜阵列的电控调谐和集成化制造方法问题。该器件的基本形式为"上盖片+内芯+下盖片"的三明治夹心结构,采用导电材料制作内芯,使得器件的制作简化,易于集成。透镜材料由折射率不同的两种不混合液体组成,利用电润湿效应控制两种液体的界面曲率,从而实现微透镜阵列焦距的电控调节。

电子辐照对ZnO/K_2SiO_3型热控涂层光学性能的影响

研究了电子辐照对 Zn O/K2 Si O3 型热控涂层光学性能的影响。采用 1 0 ,3 0 ,50和 70 ke V的电子对试样进行辐照。在辐照前后对每一个试样的光谱反射系数进行了原位测量。根据 Johnson太阳光谱分布计算了涂层的太阳光谱吸收系数。分析了电子能量对光谱反射系数和太阳光谱吸收系数的影响 ,并对红外区光谱反射系数的变化结果进行了讨论。实验结果发现电子辐照后 Zn O/K2 Si O3 涂层的光学性能发生严重退化 ,退化程度取决于电子能量 ,随电子能量的增大而增大。

电子辐照能量对Kapton/Al热控涂层光学性能的影响

研究了电子辐照时,电子能量与累积通量对Kapton/Al热控涂层光学性能的影响。采用原位测量的手段记录了辐照前后的光谱反射系数。试验结果表明,电子辐照后Kapton/Al热控涂层的反射性能,在太阳光谱辐射强度较大的300～1200nm波长区间产生较大程度退化。在电子辐照作用下,作为离子导电型聚合物的Kapton薄膜表面没有发现辐照充电效应。辐照后涂层材料存在"退火效应",或称"漂白效应"。Kapton/Al涂层太阳吸收比的变化量与电子辐照累积通量的变化关系成幂函数形式,其系数与指数的极大值与极小值分别出现在电子能量为50keV附近。在辐照累积通量相同时,该变化量随辐照电子能量的提高而增大。

微流控光学器件与系统的研究进展

微流控技术作为微全分析系统的关键与核心,一直是MEMS领域中的一个研究重点。随着微流控技术水平的不断提高以及与其它学科的不断渗透与融合,近年来已经涌现出一批令人注目的研究热点,其中微流控光学器件就是其典型代表。微流控技术与光学器件的融合,为传统光学器件的微型化、阵列化、低成本化以及高精度控制提供了可能。叙述了一些基于微流控技术的可变焦光透镜、显示器件、光开关、以及可调光纤光栅等新型光学器件的近期研究成果和应用背景。

电子器件无损检测光学微扫描显微热成像系统

为了给半导体器件、印刷电路板和功率器件等电子器件提供细微热分析的手段,完成电子电路的故障检测、失效分析和可靠性检测等,本文基于非制冷焦平面探测器设计了一种新型的光学微扫描显微热像仪。介绍了系统的工作原理、系统构成、工作过程,研究推导了系统噪声等效温差(NETD)和噪声等效辐射率差(NEED)模型,为系统的设计提供了理论指导,基于Matlab完成了整个系统的图像采集处理界面设计。实际图像采集和处理结果表明了本系统设计的合理性。随着产品化,本系统将会用到其他需要显微热分析的场合,具有广泛的应用前景。

电子通量对ZnO/K_2SiO_3热控涂层光学性能的影响

研究了电子通量对 Zn O/ K2 Si O3热控涂层光学性能的影响。分别采用通量为 5× 10 1 1 / cm2·s,8× 10 1 1 / cm2 · s,1× 10 1 2 / cm2 · s和 5× 10 1 2 / cm2 · s的电子对试样进行辐照。电子辐照下涂层的光学性能发生了退化 ,并且发现了退化涂层在空气中的“漂白”现象。分析了 Zn O/ K2 Si O3热控涂层光学性能的退化机制 ,同时讨论了电子通量对太阳光谱吸收系数的影响。实验结果发现 ,在 5× 10 1 1～ 1× 10 1 2 / cm2·s的电子通量范围内 ,电子通量对 Zn O/ K2 Si O3热控涂层光学性能的影响相同。因此在这个电子通量范围内 ,采用加速地面试验来模拟空间的电子辐照效应是有效的。

舰船电子元器件自主可控现状与发展需求研究

近年来,我国信息化关键软硬件技术得到了长足发展,特别是基础电子元器件性能有了大幅度提升。然而,在信息化相关的电子元器件技术和产品上与国外还存在较大差距,制约了装备的国产化率和自主可控能力水平的进一步提升。本文分析舰船装备领域基础电子元器件的发展现状,并提出下一步的发展需求建议以及确保基础电子元器件自主可控的具体措施。

DARPA将在同一芯片上集成光学、电子和微机电元器件

据军事宇航电子网站2011年4月20日报道,2011年4月14日,美国国防预先研究计划局（Defense Advanced Research Projects Agency,DARPA）微电子技术办公室（Microelectronics Technology Office,MTO）面向美国工业界发布了一份全行业公告（broad agency announcement）DARPA-BAA-11-45,

用单块电子俘获器件实现可编程二值光学逻辑处理

用单块电子俘获器件，以一种新方法一时域编码方法，实现了所有16种布尔逻辑运算．根据电子俘获材料的存贮和可擦除特性，按特定顺序进行一系列单元操作，可测到每种布尔逻辑函数，同一般光学逻辑处理器相比，这种处理器具有新的自由度一时域自由度，文末给出了实验结果．

星载栅控行波管电子光学系统设计与实验研究

设计了X波段1600 W星载栅控行波管电子光学系统,详细介绍了电子枪和周期永磁聚焦系统的设计过程,分析了磁场峰值对电子注注腰位置的影响,以此为基础优化了过渡区的磁场,获得电子注与磁系统的良好匹配。在此基础上进行了实验验证,经测试静态流通率达到99.4%,满足了整管的设计需求。

空间电子作用对ZnO-有机硅热控涂层光学性能影响研究

研究了空间电子辐照作用下ZnO-有机硅热控涂层光学性能的变化规律.通过扫描电镜、原子力显微镜和电子能谱分析了电子辐照前后试样表面形貌和元素组成变化,探讨了电子辐照的损伤机理.试验结果表明,在相同能量情况下,随电子的辐照剂量的增加,有机硅热控涂层的表面硅树脂发生了降解,产生了碳化,因而导致了ZnO-有机硅热控涂层的光学性能下降.

电子束与光学混合制版技术在GaAs器件研制中的应用

介绍了用光学制版设备制作GaAs器件光刻中除栅条掩模版外的其它各层掩模版,用高分辨率电子束制版设备制作线宽≤0.5μm、并能与光学设备制作的各层掩模版精确套刻的栅条掩模版,即电子束与光学混合制版技术。对解决两类制版系统制作的掩模版精确互套的方法、干法刻蚀等工艺过程做了必要的阐述。

电子元器件质量管控关键技术分析与研究

电子元器件产品质量管控是保障电子元器件正常生产、加强产品质量稳定性与可靠性的必然举措,也是保障电子元器件在相关设备后续稳定运行的重要举措。基于此,本文首先对电子元器件质量管控的关键问题进行了分析,进而阐述了关键工序的产品质量控制,最后针对性地提出了电子元器件质量管控的关键技术研究,旨在为提高电子元器件质量管控水平提供参考。