新型可溶性亚酞菁旋涂薄膜的光学常数

通过旋涂法在单晶硅片上制备了一种新型可溶性亚酞菁 (三新戊氧基溴硼亚酞菁 )薄膜。利用全自动椭圆偏振光谱仪研究了该薄膜的椭偏光谱 ,测量了其复折射率、复介电函数和吸收系数 。