电磁驱动MEMS可调式光衰减器的研制

研制了一种工作在 1 5 5 0nm波长范围内的单模光纤微机械可调式光衰减器。该衰减器利用非硅表面微加工工艺 (这种工艺采用光致抗蚀剂和溅射铜薄膜作为牺牲层 ,电镀铁镍层作为结构层来制作MEMS元件 )制作 ,由电镀铁镍层构成的一个插在两对准光纤空隙中的挡光片 ,一个平面电感线圈 ,一个硅弹簧和二个带有V型槽的光纤对准元件构成。电镀铁镍制作的挡光片被固定在一个硅弹簧上 ,该挡光片采用非硅表面微加工工艺制作 ,平面电感线圈利用高深宽比的光刻工艺和掩蔽电镀工艺制作 ,硅弹簧和光纤对准元件采用反应离子刻蚀和硅的各向异性腐蚀工艺制作。

电磁驱动MEMS可调式光衰减器的设计

设计了一种由电磁驱动的微机械可调式光衰减器。这种光衰减器是由电磁驱动插在两对准单模光纤间隙中的挡光片来实现光功率的衰减。并对该衰减器的插入损耗、光衰减量以及电磁驱动器的性能进行了分析。

微机械光可调式光衰减器的制备及动态测试

主要讨论了具有机械式抗反射开关(即MARS)结构的新型微机械可调式光衰减器。MARS结构可调式光衰减器由表面微机械工艺制备。当器件被正弦信号激励时,其响应信号也是正弦信号,但两者的相位相反。同时,微机械可调式光衰减器有一系列的固有频率。测量表明,器件反射率的上升时间为5μs,下降时间为3.3μs。如果器件由线性变化的锯齿信号驱动,当驱动信号小于23V时,器件的反射率变化也是线性的,当驱动信号大于23V时,器件的反射率响应出现非线性,信号越大,非线性越明显。

一种新型可调式微机械光衰减器

讨论基于抗反射结构(Mechanical Anti-Reflection Structure,MARS)的硅基微机械式光衰减技术的基本原理和相关的制造方法,研制了一种工作在1320-1550nm波长范围内的静电力驱动的可调式微机械光衰减器.制各该衰减器使用常规的硅平面工艺,制作简单,成本较低.器件体积小,响应速度快,可适应日益增长的波分复用(wavelength division multiplex,WDM)全光网的发展.

光纤通信

TNN915.05 2001053556光纤LAN收发器的设计问题及解决办法=Problems and solutions in desiam of fiber-optical LAN transceivers[刊,中]/贾英江(军械工程学院.河北,石家庄(050003))//光通信技术.—2000,24(2).—143-144分析了光纤LAN收发器设计有关的问题及解决办法。表2参6(郑锦玉)