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同位素铁靶制备技术 被引量:2
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作者 许国基 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 2002年第4期401-402,453,共3页
介绍了同位素铁靶的制备技术 ,包括氧化铁的还原、铁粉的熔化和铁靶的制备。采用聚焦束溅射和滚轧制备技术能获得自支撑56Fe靶的最小厚度分别为 5 0和 3 60 μg/cm2 。
关键词 同位素铁靶 制备技术 氢气还原 滚轧 聚焦束溅射 氧化 熔化
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