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同位素铁靶制备技术
被引量:
2
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作者
许国基
《原子能科学技术》
EI
CAS
CSCD
2002年第4期401-402,453,共3页
介绍了同位素铁靶的制备技术 ,包括氧化铁的还原、铁粉的熔化和铁靶的制备。采用聚焦束溅射和滚轧制备技术能获得自支撑56Fe靶的最小厚度分别为 5 0和 3 60 μg/cm2 。
关键词
同位素铁靶
制备技术
氢气还原
滚轧
聚焦束溅射
氧化
铁
熔化
下载PDF
职称材料
题名
同位素铁靶制备技术
被引量:
2
1
作者
许国基
机构
中国原子能科学研究院核物理研究所
出处
《原子能科学技术》
EI
CAS
CSCD
2002年第4期401-402,453,共3页
文摘
介绍了同位素铁靶的制备技术 ,包括氧化铁的还原、铁粉的熔化和铁靶的制备。采用聚焦束溅射和滚轧制备技术能获得自支撑56Fe靶的最小厚度分别为 5 0和 3 60 μg/cm2 。
关键词
同位素铁靶
制备技术
氢气还原
滚轧
聚焦束溅射
氧化
铁
熔化
Keywords
hydrogen reduction
rolling
focused ion beam sputtering
分类号
TL503.4 [核科学技术—核技术及应用]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
同位素铁靶制备技术
许国基
《原子能科学技术》
EI
CAS
CSCD
2002
2
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