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Co-Ni合金薄膜的电化学外延及同步辐射XMCD研究 被引量：1
1
作者 王立武 李宗木 +3 位作者 张文华 徐法强 王劼 闫文盛 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2007年第8期1163-1167,共5页
采用电化学循环伏安法在单晶GaAs(001)衬底上外延沉积了Co-Ni二元合金薄膜.扫描电子显微镜观察结果显示,薄膜厚度约180nm,其表面由约40nm大小的颗粒组成.用X射线荧光法确定了薄膜的组分为Co66Ni34,XRD确定了其为面心立方结构.用同步辐... 采用电化学循环伏安法在单晶GaAs(001)衬底上外延沉积了Co-Ni二元合金薄膜.扫描电子显微镜观察结果显示,薄膜厚度约180nm,其表面由约40nm大小的颗粒组成.用X射线荧光法确定了薄膜的组分为Co66Ni34,XRD确定了其为面心立方结构.用同步辐射圆偏振软X射线分别测量了样品中Co和Ni的吸收谱(XAS),从而得到X射线磁性圆二色(XMCD)谱,通过加和定则分别计算出了合金中Co和Ni的轨道磁矩和自旋磁矩,与纯的Co和Ni样品相比,它们都有不同程度的增加. 展开更多
关键词 循环伏安法 Co-Ni合金 同步辐射xmcd 轨道磁矩 自旋磁矩
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