新型不对称吡喃鎓方酸菁染料的晶体结构(英文)

通过缓慢挥发溶剂法得到一种不对称吡喃方酸菁染料的单晶 ,测定了其晶体结构 .其晶系为三斜晶系 ,空间群为P1 ,a =0 .92 2 8( 4 ) ,b =1 .41 2 2 ( 6) ,c=0 .61 2 4 ( 3)nm ,α =93.97( 4 ) ,β=98.1 4( 5) ,γ =71 .0 5( 4 ) ,V =0 .7470 ( 6)nm3,Z =1 .用晶体结构数据解释了此不对称染料的1 H NMR谱 .

含叔丁基吡喃鎓方酸菁染料的合成及溶解性能研究

合成了四个对称及不对称含叔丁基吡喃鎓方酸的菁染料,通过光谱和元素分析确定其结构,测定了它们的紫外-可见吸收光谱、熔点和溶解性能。结果表明吡喃鎓方酸菁染料比一般菁染料具有更长的吸收波长和更好的溶解性能。用Dye2的单晶分子堆积图解释了染料的熔点反常现象。

方酸菁染料/二芳基碘鑑盐体系引发丙烯酸酯光交联反应

近年来随着高新技术的迅猛发展，激光技术和光化学也随之大量应用到先进材料中，为适应这种发展需要，开发感可见光和近红外光的光敏反应体系已成为十分迫切的研究课题［１，２］．方酸类染料是一类重要的功能性染料，广泛地应用于静电复印、太阳能电池和光记录材料［３］...