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含巯基MTQ树脂的合成及对丙烯酸酯体系光固化性能的影响 被引量:2
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作者 刘通政 王勇 +1 位作者 薛探龙 王涛 《影像科学与光化学》 CAS 2019年第5期456-464,共9页
以六甲基二硅氧烷、γ-巯丙基三乙氧基硅烷(KH-580)和正硅酸乙酯为原料,在酸性条件下通过水解共聚反应合成了含巯基MTQ树脂(SH-MTQ)。通过傅里叶红外光谱、核磁共振氢谱(1HNMR)、凝胶渗透色谱和热重,对所合成的树脂进行了表征和分析。... 以六甲基二硅氧烷、γ-巯丙基三乙氧基硅烷(KH-580)和正硅酸乙酯为原料,在酸性条件下通过水解共聚反应合成了含巯基MTQ树脂(SH-MTQ)。通过傅里叶红外光谱、核磁共振氢谱(1HNMR)、凝胶渗透色谱和热重,对所合成的树脂进行了表征和分析。以1-羟基环己基苯基甲酮(184)为光引发剂,考察了含巯基MTQ树脂对三丙二醇二丙烯酸酯(TPGDA)光固化过程和材料性能的影响,发现含巯基MTQ树脂的加入使得TPGDA的光固化速率和双键转化率有所提高,并且固化膜硬度、热稳定性、透过率和接触角等材料性能也有所提高。 展开更多
关键词 紫外光固化 含巯基mtq树脂 三丙二醇二丙烯酸酯 材料性质
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