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反应磁控溅射法沉积的氟化类金刚石薄膜的结构分析 被引量:5
1
作者 江美福 宁兆元 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第1期52-54,共3页
 以高纯石墨作靶、Ar/CHF3作源气体采用射频反应磁控溅射法室温下制备了氟化类金刚石薄膜(F DLC)。发现随着射频功率的增加,F DLC薄膜拉曼光谱的D峰与G峰强度之比ID/IG加大,薄膜中芳香环式结构比例上升。红外吸收光谱则显示射频功率增...  以高纯石墨作靶、Ar/CHF3作源气体采用射频反应磁控溅射法室温下制备了氟化类金刚石薄膜(F DLC)。发现随着射频功率的增加,F DLC薄膜拉曼光谱的D峰与G峰强度之比ID/IG加大,薄膜中芳香环式结构比例上升。红外吸收光谱则显示射频功率增加导致薄膜中的氟含量上升,氟原子与碳原子以及芳香环的耦合加强。控制射频功率可以有效调制薄膜中的氟含量以及芳香环结构的比例,F DLC可能成为热稳定性较好的碳氟薄膜。 展开更多
关键词 氟化金刚石薄膜 结构分析 反应磁控溅射 拉曼光谱 红外吸收光谱
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氟化类金刚石薄膜的研究进展 被引量:1
2
作者 张茹芝 刘贵昌 邓新绿 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第4期271-275,共5页
氟化类金刚石 (FDLC)薄膜是在传统类金刚石膜基础上发展起来的一种新型表面改性材料。本文简述了FDLC薄膜的结构、性能 ,重点介绍了其制备工艺 ,讨论了源气体的种类和退火工艺对薄膜的影响。
关键词 氟化金刚石薄膜 金刚石 表面改性材料 气体 性能 制备工艺
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反应磁控溅射法制备的氟化类金刚石薄膜摩擦特性的研究 被引量:1
3
作者 王培君 江美福 +2 位作者 辛煜 杜记龙 戴永丰 《苏州大学学报(自然科学版)》 CAS 2010年第2期66-72,共7页
以高纯石墨做靶、CHF3/Ar为源气体采用磁控溅射法在不同射频功率条件下制备了氟化类金刚石(F-DLC)薄膜.利用原子力显微镜、纳米压痕、拉曼光谱、红外光谱和摩擦磨损测试仪对薄膜的表面形貌、硬度、键态结构以及摩擦学性能作了具体分析.... 以高纯石墨做靶、CHF3/Ar为源气体采用磁控溅射法在不同射频功率条件下制备了氟化类金刚石(F-DLC)薄膜.利用原子力显微镜、纳米压痕、拉曼光谱、红外光谱和摩擦磨损测试仪对薄膜的表面形貌、硬度、键态结构以及摩擦学性能作了具体分析.测试结果表明,制备的薄膜整体较均匀致密,表现出了良好的抗磨减摩性能.当射频功率为120W时,薄膜的摩擦因数低至0.41左右.AFM和纳米压痕显示,薄膜摩擦因数受表面粗糙度和硬度影响,但并非成单调对应关系.拉曼和红外透射光谱表明,随着功率的增加,薄膜中的芳香环比例增加,sp3杂化含量减小,结果显示,CF2反振动强度的减弱和C—C链中较少量H原子的键入都可能得到相对较低的薄膜摩擦因数. 展开更多
关键词 摩擦性能 射频输入功率 反应磁控溅射 氟化金刚石薄膜
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Si过渡层对氟化类金刚石薄膜附着特性的影响 被引量:1
4
作者 杨亦赏 江舸 +1 位作者 周杨 江美福 《苏州大学学报(自然科学版)》 CAS 2012年第4期51-57,共7页
研究了不锈钢基片上Si过渡层对F-DLC薄膜附着特性的影响.采用反应磁控溅射法,以Ar为源气体,在316L不锈钢基片制备了Si薄层,并在Si薄层上沉积了F-DLC薄膜,通过划痕实验测试了各个样品的膜/基结合强度.结果表明,引入Si过渡层可以明显增强... 研究了不锈钢基片上Si过渡层对F-DLC薄膜附着特性的影响.采用反应磁控溅射法,以Ar为源气体,在316L不锈钢基片制备了Si薄层,并在Si薄层上沉积了F-DLC薄膜,通过划痕实验测试了各个样品的膜/基结合强度.结果表明,引入Si过渡层可以明显增强氟化类金刚石薄膜和不锈钢基片之间的结合强度,在200 W下制备的Si过渡层上,F-DLC薄膜的结合强度最佳.根据薄膜表面形貌的扫描电镜观察、晶粒尺寸的分析以及薄膜键结构的红外光谱、拉曼光谱分析,F-DLC薄膜的结合强度与Si—C键等基团的形成、含量以及Si的键入方式有关. 展开更多
关键词 磁控溅射 Si过渡层 氟化金刚石薄膜 结合强度
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ULSI用氟化类金刚石薄膜的研究
5
作者 肖剑荣 徐慧 简献忠 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2007年第1期30-32,共3页
以CF4和CH4为源气体,用射频等离子体增强化学气相沉积法,制备了氟化类金刚石(F-DLC)薄膜.采用FTIR仪、XPS对样品进行了测试、分析。结果表明,在薄膜内主要含有C-Fx(=1,2,3)、C-C、C-H2、C-H3等以及不饱和C=C化学键;薄膜的εr... 以CF4和CH4为源气体,用射频等离子体增强化学气相沉积法,制备了氟化类金刚石(F-DLC)薄膜.采用FTIR仪、XPS对样品进行了测试、分析。结果表明,在薄膜内主要含有C-Fx(=1,2,3)、C-C、C-H2、C-H3等以及不饱和C=C化学键;薄膜的εr为2.07-2.65。εr与膜内F的相对浓度有关,随着沉积功率的增大,膜内F、H的含量均降低,εr升高。 展开更多
关键词 半导体技术 氟化金刚石薄膜 沉积功率 介电常数
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氟化类金刚石薄膜介电性能研究
6
作者 肖剑荣 王德安 梁业广 《真空》 CAS 北大核心 2010年第5期49-52,共4页
采用射频等离子体增强化学气相沉积法制备了氟化类金刚石薄膜。利用俄歇电子能谱、绝缘电阻测试仪、耐压测试仪和QS电桥对样品组分和介电性能进行了表征、分析。结果表明:薄膜的介电常数εr在2.07~2.65之间,绝缘电阻在245 MΩ左右,击... 采用射频等离子体增强化学气相沉积法制备了氟化类金刚石薄膜。利用俄歇电子能谱、绝缘电阻测试仪、耐压测试仪和QS电桥对样品组分和介电性能进行了表征、分析。结果表明:薄膜的介电常数εr在2.07~2.65之间,绝缘电阻在245 MΩ左右,击穿场强在2.1 MV/cm以上,它们与膜内F的含量密切相关。 展开更多
关键词 氟化金刚石薄膜 离子体增强化学气相沉积 绝缘电阻 介电常数
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氟化类金刚石薄膜的沉积及性能研究现状 被引量:2
7
作者 唐雄心 赵建生 《湖北汽车工业学院学报》 2001年第4期16-20,共5页
类金刚石薄膜是 80年代初出现的新型非金属薄膜材料之一 ,其优异的综合性能引起了人们极大的兴趣。本文对类金刚石薄膜的近期进展进行了概括性介绍 ,重点介绍在此基础上发展起来的氟化类金刚石薄膜材料 (FDLC) ,包括氟元素对类金刚石薄... 类金刚石薄膜是 80年代初出现的新型非金属薄膜材料之一 ,其优异的综合性能引起了人们极大的兴趣。本文对类金刚石薄膜的近期进展进行了概括性介绍 ,重点介绍在此基础上发展起来的氟化类金刚石薄膜材料 (FDLC) ,包括氟元素对类金刚石薄膜 (DLC)在结构、性能及在沉积工艺上所带来的的影响等。 展开更多
关键词 氟化金刚石薄膜 研究进展
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非平衡磁控溅射类金刚石薄膜的抗刻划性能及氟对结合强度的影响 被引量:2
8
作者 赵建生 许大庆 ChoyKwangLeong 《机械工程学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第5期80-84,共5页
使用非平衡磁控溅射方法沉积了类金刚石(DLC)和一定含氟浓度的氟化DLC。使用划痕方法试验了不同DLC薄膜的抗刻划性能并对其试验机理进行了研究。结果表明划痕试验过程中随着试验载荷的增加,DLC破坏形式可分为开裂、崩片... 使用非平衡磁控溅射方法沉积了类金刚石(DLC)和一定含氟浓度的氟化DLC。使用划痕方法试验了不同DLC薄膜的抗刻划性能并对其试验机理进行了研究。结果表明划痕试验过程中随着试验载荷的增加,DLC破坏形式可分为开裂、崩片、划入剥落及表层的脱落等阶段。其中抗开裂、崩片及划入性能取决于DLC本身的力学特性。膜层的脱落载荷取决于膜层与基体的结合强度。降低薄膜的摩擦系数有利于提高DLC薄膜的刻划抗力。氟元素的加入可以降低DLC层的刻划摩擦力,提高其开裂强度并增加DLC薄膜与基体材料的结合强度。 展开更多
关键词 金刚石 薄膜 氟化金刚石 磁控溅射 结合强度
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高真空环境下氟化类金刚石碳基薄膜失效本质和延寿取得新进展
9
《浙江化工》 CAS 2015年第8期11-11,共1页
中国科学院兰州化学物理研究所王立平研究员和鲁志斌副研究员带领的研究小组近期在高真空环境氟化非晶碳基薄膜的失效本质和延寿方面取得重要突破,成功实现了氟化非晶碳基薄膜在高真空条件下的超长磨损寿命设计和可控制备。通过成分设... 中国科学院兰州化学物理研究所王立平研究员和鲁志斌副研究员带领的研究小组近期在高真空环境氟化非晶碳基薄膜的失效本质和延寿方面取得重要突破,成功实现了氟化非晶碳基薄膜在高真空条件下的超长磨损寿命设计和可控制备。通过成分设计和多层界面微观结构构筑,研究人员成功设计制备了具有低内应力的氟化非晶碳基薄膜, 展开更多
关键词 真空环境 中国科学院兰州化学物理研究所 薄膜 碳基 氟化 金刚石 延寿 失效
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搀杂氟对类金刚石薄膜的影响 被引量:3
10
作者 唐雄心 赵建生 《材料导报》 EI CAS CSCD 2002年第4期47-49,共3页
综述了氟化类金刚石薄膜(FDLC)的近期进展,重点介绍搀杂氟对类金刚石薄膜在结构、性能及沉积工艺上所带来的影响。
关键词 氟化金刚石薄膜 结构 性能 改性 沉积工艺
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含氮氟化类金刚石(FN-DLC)薄膜的研究:(Ⅱ)射频功率对薄膜光学带隙的影响 被引量:3
11
作者 肖剑荣 徐慧 +1 位作者 郭爱敏 王焕友 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2007年第3期1809-1814,共6页
以CF4,CH4和N2为源气体,采用射频等离子体增强化学气相沉积法,在不同射频功率下制备了含氮氟化类金刚石薄膜样品.原子力显微形貌显示,低功率下沉积样品表面致密均匀.拉曼及傅里叶变换红外光谱分析显示,随着射频功率的改变,薄膜的结构和... 以CF4,CH4和N2为源气体,采用射频等离子体增强化学气相沉积法,在不同射频功率下制备了含氮氟化类金刚石薄膜样品.原子力显微形貌显示,低功率下沉积样品表面致密均匀.拉曼及傅里叶变换红外光谱分析显示,随着射频功率的改变,薄膜的结构和组分也随之变化.紫外-可见光透射光谱证明薄膜具有紫外强吸收特性,通过计算得到其光学带隙在1.89—2.29eV之间.结果表明,射频功率增加,薄膜内sp2C含量增加,或者说CC交联相对浓度增加、F的相对浓度降低,导致薄膜内π-π*带边态密度增大,光学带隙的减小. 展开更多
关键词 含氮氟化类金刚石薄膜 射频功率 光学带隙 气相沉积法
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含氮氟化类金刚石(FN-DLC)薄膜的研究:(Ⅰ)sp结构与化学键分析 被引量:12
12
作者 肖剑荣 徐慧 +1 位作者 郭爱敏 王焕友 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2007年第3期1802-1808,共7页
以CF4,CH4和N2为源气体,利用射频等离子体增强化学气相沉积法,在不同功率下制备了含氮氟化类金刚石膜.用俄歇电子能谱、拉曼光谱、X射线光电子能谱和傅里叶变换红外光谱对薄膜的电子结构和化学键进行了表征,并结合高斯分峰拟合方法分析... 以CF4,CH4和N2为源气体,利用射频等离子体增强化学气相沉积法,在不同功率下制备了含氮氟化类金刚石膜.用俄歇电子能谱、拉曼光谱、X射线光电子能谱和傅里叶变换红外光谱对薄膜的电子结构和化学键进行了表征,并结合高斯分峰拟合方法分析了薄膜中sp2,sp3结构比率.结果表明,制备的薄膜属于类金刚石结构,不同沉积功率下,薄膜内的sp2/sp3值在2.0—9.0之间,随着沉积功率的增加薄膜内sp2的相对含量增加.膜内主要有C—Fx(x=1,2),C—C,CC和CN等化学键.沉积功率增加,C—C基团增加,膜内F的浓度降低,C—F基团减少,薄膜的关联加强,稳定性提高. 展开更多
关键词 含氮氟化金刚石 sp结构 化学键结构 射频功率
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源气体流量比对氟化类金刚石薄膜蛋白吸附能力的影响 被引量:5
13
作者 戴永丰 江美福 +1 位作者 杨亦赏 周杨 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2011年第11期681-687,共7页
用316L不锈钢(SU316L)作基片,以高纯石墨作靶、CHF3和Ar作源气体,采用反应磁控溅射法在不同流量比R(CHF3/Ar)下制备了氟化类金刚石(F-DLC)薄膜.利用双蒸水液滴法、BCA(二喹啉甲酸)法和傅里叶红外光谱(FTIR)探讨了影响薄膜蛋白吸附能力... 用316L不锈钢(SU316L)作基片,以高纯石墨作靶、CHF3和Ar作源气体,采用反应磁控溅射法在不同流量比R(CHF3/Ar)下制备了氟化类金刚石(F-DLC)薄膜.利用双蒸水液滴法、BCA(二喹啉甲酸)法和傅里叶红外光谱(FTIR)探讨了影响薄膜蛋白吸附能力的因素.结果表明,镀有F-DLC薄膜的SU316L表面的血小板黏附量明显减少,血小板的变形程度显著减轻,相应的白蛋白与纤维蛋白原的吸附比普遍高于未镀膜的SU316L表面的相应值,说明镀上F-DLC薄膜可以改善样品的血液相容性.流量比为2:1左右时制备出的F-DLC薄膜,其白蛋白与纤维蛋白原的吸附比值达到最大,相应的血液相容性最佳.对薄膜的接触角和表面能以及FTIR光谱分析研究表明,SU316L表面的F-DLC薄膜的白蛋白与纤维蛋白原的吸附比及血液相容性与薄膜的中的—CFx键的含量(F/C比)和表面能(疏水性)直接相关,控制源气体流量比可以实现对薄膜的血液相容性的调制. 展开更多
关键词 反应磁控溅射 氟化金刚石薄膜 蛋白吸附
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氟化类金刚石薄膜的拉曼和红外光谱结构研究 被引量:13
14
作者 江美福 宁兆元 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第5期1588-1593,共6页
以高纯石墨作靶、CHF3 Ar作源气体采用反应磁控溅射法制备了介电常数在 1 77左右的氟化类金刚石 (F DLC)薄膜 .拉曼光谱表明 ,源气体中CHF3相对流量、射频功率和工作气压的增加都会引起薄膜的D峰与G峰强度之比ID IG 减小 ,薄膜中链式 (... 以高纯石墨作靶、CHF3 Ar作源气体采用反应磁控溅射法制备了介电常数在 1 77左右的氟化类金刚石 (F DLC)薄膜 .拉曼光谱表明 ,源气体中CHF3相对流量、射频功率和工作气压的增加都会引起薄膜的D峰与G峰强度之比ID IG 减小 ,薄膜中链式 (烯烃 )结构比例的上升 .红外吸收光谱分析表明薄膜的主体骨架仍为芳香环式结构 .薄膜的性质如光学带隙和介电常数等不仅与氟含量有关 ,还与碳氟原子间的耦合形式和碳氟键的分布密切相关 . 展开更多
关键词 氟化金刚石薄膜 反应磁控溅射法 拉曼光谱 红外吸收光谱 射频功率 光学带隙
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反应磁控溅射法制备的氟化类金刚石薄膜的XPS结构研究 被引量:10
15
作者 江美福 宁兆元 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第9期3220-3224,共5页
采用射频反应磁控溅射法用高纯石墨作靶、三氟甲烷 (CHF3)和氩气 (Ar)作源气体制备了氟化类金刚石 (F DLC)薄膜 ,通过XPS光谱结合拉曼光谱、红外透射光谱和紫外 可见光光谱研究了源气体流量比等工艺条件对薄膜中键结构、sp2 sp3杂化比... 采用射频反应磁控溅射法用高纯石墨作靶、三氟甲烷 (CHF3)和氩气 (Ar)作源气体制备了氟化类金刚石 (F DLC)薄膜 ,通过XPS光谱结合拉曼光谱、红外透射光谱和紫外 可见光光谱研究了源气体流量比等工艺条件对薄膜中键结构、sp2 sp3杂化比以及光学带隙等性能的影响 .结果表明在低功率 (6 0W)、高气压 (2 0Pa)和适当的流量比(Ar CHF3=2∶1 )下利用射频反应磁控溅射法可制备出氟含量高且具有较宽光学带隙和超低介电常数的F 展开更多
关键词 反应磁控溅射法 氟化金刚石薄膜 红外透射光谱 XPS光谱 光学带隙
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射频反应磁控溅射法制备的氟化类金刚石薄膜摩擦特性研究 被引量:2
16
作者 王培君 江美福 +1 位作者 杜记龙 戴永丰 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2010年第12期8920-8926,共7页
以高纯石墨做靶,CHF3和Ar气为源气体,采用射频反应磁控溅射法在不同流量比条件下制备了氟化类金刚石(F-DLC)薄膜.利用原子力显微镜、纳米压痕仪、拉曼光谱和红外光谱、摩擦磨损测试仪对薄膜的表面形貌、硬度、键结构以及摩擦性能做了具... 以高纯石墨做靶,CHF3和Ar气为源气体,采用射频反应磁控溅射法在不同流量比条件下制备了氟化类金刚石(F-DLC)薄膜.利用原子力显微镜、纳米压痕仪、拉曼光谱和红外光谱、摩擦磨损测试仪对薄膜的表面形貌、硬度、键结构以及摩擦性能做了具体分析.表面形貌测试结果表明,制备的薄膜整体均匀致密,表现出了良好的减摩性能.当CHF3与Ar气流量比r为1:6时,所得薄膜的摩擦系数减小至0.42,而纳米压痕结果显示,此时薄膜的硬度也最高.拉曼和红外光谱显示,随着r的增加,薄膜中的F浓度呈上升趋势,薄膜中的芳香环比例减小.研究表明,F原子的键入方式是影响F-DLC薄膜摩擦系数的一个重要因素,CF2反对称伸缩振动强度的减弱和CC中适量碳氢氟键的形成都能导致薄膜具有相对较低的摩擦系数. 展开更多
关键词 摩擦性能 射频反应磁控溅射 氟化金刚石薄膜
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源气体流量比对F-DLC薄膜结构的影响 被引量:6
17
作者 江美福 宁兆元 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2003年第4期539-541,共3页
以高纯石墨作靶、CHF3/Ar作源气体采用反应磁控溅射法制备出了氟化类金刚石 (F -DLC)薄膜。拉曼光谱表明 ,CHF3相对流量的增加会引起薄膜的D峰与G峰强度之比I(D) /I(G)减小 ,晶粒增大 ,芳香环结构比例下降。红外吸收光谱分析证实了这些... 以高纯石墨作靶、CHF3/Ar作源气体采用反应磁控溅射法制备出了氟化类金刚石 (F -DLC)薄膜。拉曼光谱表明 ,CHF3相对流量的增加会引起薄膜的D峰与G峰强度之比I(D) /I(G)减小 ,晶粒增大 ,芳香环结构比例下降。红外吸收光谱分析证实了这些推论 ,指出这是由于薄膜中氟含量上升的结果。 展开更多
关键词 源气体 流量比 F-DLC薄膜 影响 反应磁控溅射法 氟化金刚石薄膜 拉曼光谱
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FDLC薄膜的化学结构对光学性能的影响 被引量:1
18
作者 刘雄飞 张德恒 齐海兵 《应用光学》 CAS CSCD 2007年第1期51-54,共4页
研究氟化类金刚石(FDLC)薄膜化学结构对光学性能的影响,用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)法在玻璃基底上沉积氟化类金刚石(FDLC)薄膜,用俄歇能谱、傅里叶红外光谱(FT IR)、紫外-可见光分光光度计(UV-V IS)对薄膜进行分析。分析结果表... 研究氟化类金刚石(FDLC)薄膜化学结构对光学性能的影响,用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)法在玻璃基底上沉积氟化类金刚石(FDLC)薄膜,用俄歇能谱、傅里叶红外光谱(FT IR)、紫外-可见光分光光度计(UV-V IS)对薄膜进行分析。分析结果表明:沉积薄膜是典型的类金刚石结构,薄膜中氟主要以C-F2键存在;随着沉积温度的提高,C-F2含量先增后减;随着F含量的增加,FDLC薄膜的sp3含量减少,sp2含量增加;光学带隙与sp2键含量密切相关,sp2含量越大,薄膜的光学带隙越小。 展开更多
关键词 氟化金刚石薄膜 等离子体增强化学气相沉积(PECVD) 光学带隙 沉积温度
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薄膜光学理论与膜系设计
19
《中国光学》 EI CAS 2003年第6期42-43,共2页
O484.1 2003064264基于遗传算法的光学膜系初始结构优化设计=Originalstructure optimization of optical multilayer using genetic algorithm[刊,中]/范志刚(哈尔滨工业大学电子科学与技术系.黑龙江,哈尔滨(150001)),张爱红…∥光学技... O484.1 2003064264基于遗传算法的光学膜系初始结构优化设计=Originalstructure optimization of optical multilayer using genetic algorithm[刊,中]/范志刚(哈尔滨工业大学电子科学与技术系.黑龙江,哈尔滨(150001)),张爱红…∥光学技术.-2002,28(6).-513-514,517针对多膜料设计,提出了一种新的膜系初始结构优化设计算法。将膜系的初始设计视为组合优化问题,采用遗传算法,求得组合的最优解。给出了算法的原理,并给出了相应的设计实例。结果表明,本算法是一种简单、有效、通用性强的膜系初始化设计方法。图4参5(于晓光) 展开更多
关键词 遗传算法 氟化物玻璃薄膜 结构优化设计 金刚石薄膜 组合优化问题 设计方法 光学膜系 材料科学 最优解 设计算法
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Effects of nitrogen content on structure and electrical properties of nitrogen-doped fluorinated diamond-like carbon films
20
作者 肖剑荣 李新海 王志兴 《中国有色金属学会会刊:英文版》 EI CSCD 2009年第6期1551-1555,共5页
Nitrogen-doped fluorinated diamond-like carbon(FN-DLC)films were prepared on single crystal silicon substrate by radio frequency plasma enhanced chemical vapor deposition(RF-PECVD)under different deposited conditions ... Nitrogen-doped fluorinated diamond-like carbon(FN-DLC)films were prepared on single crystal silicon substrate by radio frequency plasma enhanced chemical vapor deposition(RF-PECVD)under different deposited conditions with CF4,CH4 and nitrogen as source gases.The influence of nitrogen content on the structure and electrical properties of the films was studied.The films were investigated in terms of surface morphology,microstructure,chemical composition and electrical properties.Atomic force microscopy(AFM)results revealed that the surface morphology of the films became smooth due to doping nitrogen.Fourier transform infrared absorption spectrometry(FTIR)results showed that amouts of C=N and C≡N bonds increased gradually with increasing nitrogen partial pressure r(r=p(N2)/p(N2+CF4+CH4)).Gaussian fit results of C 1s and N 1s in X-ray photoelectron spectra (XPS)showed that the incorporation of nitrogen presented mainly in the forms ofβ-C3N4 and a-CNx(x=1,2,3)in the films.The current-voltage(I-V)measurement results showed that the electrical conductivity of the films increased with increasing nitrogen content. 展开更多
关键词 氟化金刚石薄膜 氮掺杂 射频等离子体增强化学气相沉积 电学特性 结构 氮素 原子力显微镜 红外吸收光谱
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