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高精度LIGA掩模研究
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作者 洪义麟 付绍军 +1 位作者 田扬超 陶晓明 《仪器仪表学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第S1期244-,246,共2页
高精度ＬＩＧＡ掩模研究洪义麟，付绍军，田扬超，陶晓明（中国科技大学国家同步辐射实验室）０引言作者通过改进工艺、采用图形发生器直接在掩模基片上曝光及用离子束刻蚀这种干法腐蚀的方法代替原来的湿法腐蚀，再通过同步辐射光刻翻... 高精度ＬＩＧＡ掩模研究洪义麟，付绍军，田扬超，陶晓明（中国科技大学国家同步辐射实验室）０引言作者通过改进工艺、采用图形发生器直接在掩模基片上曝光及用离子束刻蚀这种干法腐蚀的方法代替原来的湿法腐蚀，再通过同步辐射光刻翻刻、电铸等方法来解决深度同步辐射．... 展开更多
关键词 高精度 离子束刻蚀 国家同步辐射实验室 同步辐射光刻 光刻掩模 LIGA 图形发生器 吸收体厚度 湿法腐蚀 干法腐蚀
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