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极紫外投影光刻掩模技术
1
作者
杨雄
金春水
曹健林
《微细加工技术》
2003年第3期16-21,41,共7页
介绍了掩模基片的技术要求,分析了制备掩模多层膜的难点以及相应的解决措施,然后讲解了吸收层干刻法制备掩模的工艺流程,最后介绍了掩模缺陷的检测技术并概述了极紫外投影光刻掩模技术的现状。
关键词
掩模
极紫外投影光
刻
缺陷检测
吸收层干刻法
多
层
膜
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职称材料
题名
极紫外投影光刻掩模技术
1
作者
杨雄
金春水
曹健林
机构
长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室
出处
《微细加工技术》
2003年第3期16-21,41,共7页
基金
国家自然科学基金重点资助项目(69938020)
应用光学国家重点实验室基金资助项目
文摘
介绍了掩模基片的技术要求,分析了制备掩模多层膜的难点以及相应的解决措施,然后讲解了吸收层干刻法制备掩模的工艺流程,最后介绍了掩模缺陷的检测技术并概述了极紫外投影光刻掩模技术的现状。
关键词
掩模
极紫外投影光
刻
缺陷检测
吸收层干刻法
多
层
膜
Keywords
extreme ultraviolet
projection lithography
multilayers
mask
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
极紫外投影光刻掩模技术
杨雄
金春水
曹健林
《微细加工技术》
2003
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