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极紫外投影光刻掩模技术
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作者 杨雄 金春水 曹健林 《微细加工技术》 2003年第3期16-21,41,共7页
介绍了掩模基片的技术要求,分析了制备掩模多层膜的难点以及相应的解决措施,然后讲解了吸收层干刻法制备掩模的工艺流程,最后介绍了掩模缺陷的检测技术并概述了极紫外投影光刻掩模技术的现状。
关键词 掩模 极紫外投影光 缺陷检测 吸收层干刻法
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