头孢唑类缓蚀剂及其机理研究

在研究锌锰干电池缓蚀剂的基础上 ,筛选了一种头孢唑类的新型缓蚀剂 .通过极化曲线的测试 ,得到这种缓蚀剂具有良好的缓蚀效果 ,并用交流阻抗对其机理进行了较深入的研究 .

含卤素酸性溶液中唑类缓蚀剂缓蚀机理的分子模拟

采用分子模拟方法,研究了含有卤素离子的硫酸溶液中2-巯基苯并噁唑(MBO)、2-巯基苯并咪唑(MBI)和2-巯基苯并噻唑(MBT)三种头基唑类缓蚀剂在Fe表面的吸附成膜机理,从平衡吸附构型、缓蚀剂膜内水分子分布和迁移运动规律、缓蚀剂与金属表面相互作用能等方面系统探索了不同唑类缓蚀剂的缓蚀机理。结果表明:三种缓蚀剂的成膜性能由大到小顺序为MBT>MBI>MBO,质子化的缓蚀剂头基与带负电的金属表面卤素离子之间的静电相互作用是导致不同唑类缓蚀剂成膜性能差异的关键,卤素离子与质子化缓蚀剂分子存在协同作用,能够大大增强缓蚀剂在酸性溶液中的缓蚀性能。

Cu/Co阻挡层中复配缓蚀剂缓蚀机理与研究进展

抛光液是化学机械抛光(CMP)的关键要素之一,其中缓蚀剂是抛光液的基本组分之一。传统的缓蚀剂缓蚀效果差,缓蚀效率低。而复配缓蚀剂因缓蚀效率高、缓蚀效果好和环境友好等优势成为CMP领域研究重点。根据文献,分析了唑类缓蚀剂对Cu/Co阻挡层的缓蚀机理,对近五年来新型复配缓蚀剂在国内外CMP过程中的研究进展以及复配缓蚀剂的实验评价和分子动力学模拟进行了归纳总结。同时评价了电化学法中EIS、OCP和Tafel极化曲线,表面分析法中SEM和AFM,分子动力学模拟中DFT和ReaxFF对缓蚀剂缓蚀效果的分析。最后,对于目前复配缓蚀剂的问题进行了总结与展望。