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基于喷墨墨滴沉积铺展的数值模拟与分析 被引量:6
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作者 刘春格 唐正宁 邵文 《中国印刷与包装研究》 CAS 2011年第3期37-42,共6页
喷墨印刷是一种精确定量沉积技术,能将各种材料沉积在承印材料上成膜或成线。本文借助Fluent软件,利用VOF模型模拟了喷墨墨滴在碰撞铺展阶段的行为特征,数值模拟了墨滴喷射速度、墨滴大小、墨水黏度、墨滴与基板的接触角等因素对碰撞铺... 喷墨印刷是一种精确定量沉积技术,能将各种材料沉积在承印材料上成膜或成线。本文借助Fluent软件,利用VOF模型模拟了喷墨墨滴在碰撞铺展阶段的行为特征,数值模拟了墨滴喷射速度、墨滴大小、墨水黏度、墨滴与基板的接触角等因素对碰撞铺展的影响,并结合在电子产品制作中的应用提出了改善这四个影响因素的方法,为喷墨沉积在电子产品制作中的应用提供了一定的理论依据。 展开更多
关键词 喷墨沉积 墨滴铺展 VOF模型
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采用喷墨技术制造埋入无源元件 被引量:1
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作者 丁志廉 《印制电路信息》 2003年第2期55-57,共3页
由NIST/NCMS发起的研究表明,像电阻、电容和电感可以采用喷墨打印成所需求模式新工艺来制成。
关键词 喷墨技术 喷墨沉积材料 DOD 埋入无源元件 电阻 电容 电感
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Hybrid functional IrO_2-TiO_2 thin film resistor prepared by atomic layer deposition for thermal inkjet printheads 被引量:3
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作者 Won-Sub KWACK Hyoung-Seok MOON +2 位作者 Seong-Jun JEONG Qi-min WANG Se-Hun KWON 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第A01期88-91,共4页
IrO2-TiO2 thin films were prepared by atomic layer deposition using Ir(EtCp)(COD) and titanium isopropoxide (TTIP). The resistivity of IrO2-TiO2 thin films can be easily controlled from 1 500 to 356.7 μΩ·... IrO2-TiO2 thin films were prepared by atomic layer deposition using Ir(EtCp)(COD) and titanium isopropoxide (TTIP). The resistivity of IrO2-TiO2 thin films can be easily controlled from 1 500 to 356.7 μΩ·cm by the IrO2 intermixing ratio from 0.55 to 0.78 in the IrO2-TiO2 thin films. The low temperature coefficient of resistance(TCR) values can be obtained by adopting IrO2-TiO2 composite thin films. Moreover, the change in the resistivity of IrO2-TiO2 thin films was below 10% even after O2 annealing process at 600 ℃. The step stress test results show that IrO2-TiO2 films have better characteristics than conventional TaN08 heater resistor. Therefore, IrO2-TiO2 composite thin films can be used as a heater resistor material in thermal inkjet printhead. 展开更多
关键词 IrO2-TiO2 film heating resistor INKJET
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