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Cu(In,Ga)3Se5薄膜的结构及其缺陷研究
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作者 徐传明 许小亮 +5 位作者 谢家纯 徐军 杨晓杰 冯叶 黄文浩 刘洪图 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第z1期53-56,70,共5页
讨论了Ga含量对四元有序缺陷化合物Cu(In,Ga)3Se5薄膜结构的影响.Ga含量的增加引起晶格扭曲系数η近似按抛物线形式增加,而其晶格常数a与c呈线性减小趋势,同时(112),(220)/(204)等主衍射峰的位置和强度呈现显著的改变.而样品厚度的改变... 讨论了Ga含量对四元有序缺陷化合物Cu(In,Ga)3Se5薄膜结构的影响.Ga含量的增加引起晶格扭曲系数η近似按抛物线形式增加,而其晶格常数a与c呈线性减小趋势,同时(112),(220)/(204)等主衍射峰的位置和强度呈现显著的改变.而样品厚度的改变会导致薄膜中存在不同的内应力,最终对薄膜的结构产生了显著影响. 展开更多
关键词 Cu(In Ga)3Se5 有序缺陷化合物 XRD 四方结构扭曲
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