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高温退火Fe_3O_4薄膜的结构和磁输运性质研究
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作者 张国民 潘礼庆 +1 位作者 王志远 范崇飞 《中央民族大学学报(自然科学版)》 2004年第2期114-118,共5页
 利用直流反应磁控溅射方法制备了厚度为480nm,不同掺氧量γ的Fe3O4薄膜,再经过480度80分钟的高温退火处理.系统研究了薄膜的微结构和电、磁输运性质,发现随掺氧量增大,薄膜的电阻率从20.6增大到1100mΩcm,磁滞回线和磁电阻曲线表明在...  利用直流反应磁控溅射方法制备了厚度为480nm,不同掺氧量γ的Fe3O4薄膜,再经过480度80分钟的高温退火处理.系统研究了薄膜的微结构和电、磁输运性质,发现随掺氧量增大,薄膜的电阻率从20.6增大到1100mΩcm,磁滞回线和磁电阻曲线表明在磁特性方面高掺氧量薄膜明显优于低掺氧量薄膜,当掺氧量为0.675∶50时室温下薄膜有最大磁电阻2.1%.X射线衍射表明所有的Fe3O4薄膜都显示出外延生成倾向,磁电阻随温度变化曲线证实薄膜在低温时经历Verwey转变.综合比较表明掺氧量为0.65∶50和0.675∶50的薄膜具有最佳的结构和电磁特性. 展开更多
关键词 四氧化三铁薄膜 直流反应磁控溅射 Verwey转变 磁电阻效应 高温退火处理 微结构
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Magnetic Study on 2.03 GeV Kr-ions Irradiated Fe3O4 Thin Films
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作者 Sun Jianrong Wei Kongfang Shen Tielong Yao Cunfeng Sheng Yanbin Gou Jie Wang Zhiguang Li Fashen 《近代物理研究所和兰州重离子加速器实验室年报:英文版》 2009年第1期104-105,共2页
关键词 四氧化三铁薄膜 氪离子辐照 软磁铁氧体材料 高饱和磁化强度 磁学 FE3O4 化学稳定性 抗电磁干扰
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大自旋极化率半金属Fe3O4薄膜制备及其磁性能 被引量:2
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作者 唐晓莉 荆玉兰 +1 位作者 张怀武 苏桦 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第11期1895-1898,共4页
采用磁控溅射法先在Si(100)基片上沉积适当厚度的Fe薄膜作为底层,通过对Fe底层厚度及氧气流量的控制,使底层Fe形成化学计量的无缓冲层的Fe3O4多晶薄膜。通过X射线衍射和磁强计分析了样品的结构和磁性能。结果表明:当初始氧气流量为1.5m... 采用磁控溅射法先在Si(100)基片上沉积适当厚度的Fe薄膜作为底层,通过对Fe底层厚度及氧气流量的控制,使底层Fe形成化学计量的无缓冲层的Fe3O4多晶薄膜。通过X射线衍射和磁强计分析了样品的结构和磁性能。结果表明:当初始氧气流量为1.5mL/s时,在15nm的Fe薄膜底层上可成功制备高晶粒织构的化学计量的Fe3O4薄膜。将Fe3O4薄膜应用到巨磁电阻(giant magnetoresistance,GMR)多层膜中,由于多层膜材料间电阻率的失配,利用Fe3O4半金属薄膜并不能获得预见的大GMR效应。 展开更多
关键词 半金属材料 巨磁电阻 四氧化三铁薄膜
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