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团簇粒子源及其应用
1
作者
赵子强
《核技术》
CAS
CSCD
北大核心
2002年第9期699-702,共4页
介绍了蒸发、溅射产生团簇的原理以及通过调节参数得到不同大小的团簇材料 ,阐述了团簇的基本结构和性质 ,并介绍了团簇在镀膜及功能膜如光学膜磁性膜方面的应用。
关键词
团簇粒子源
应用
嵌埋
团
簇
膜
结构
性质
蒸发
溅射
半导体-绝缘体
团
簇
膜
薄膜材料
下载PDF
职称材料
题名
团簇粒子源及其应用
1
作者
赵子强
机构
北京大学物理学院
出处
《核技术》
CAS
CSCD
北大核心
2002年第9期699-702,共4页
基金
国家自然科学基金资助 (19735 0 0 4 )
文摘
介绍了蒸发、溅射产生团簇的原理以及通过调节参数得到不同大小的团簇材料 ,阐述了团簇的基本结构和性质 ,并介绍了团簇在镀膜及功能膜如光学膜磁性膜方面的应用。
关键词
团簇粒子源
应用
嵌埋
团
簇
膜
结构
性质
蒸发
溅射
半导体-绝缘体
团
簇
膜
薄膜材料
Keywords
Ionization, Enmedded cluster films
分类号
TB43 [一般工业技术]
O484 [理学—固体物理]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
团簇粒子源及其应用
赵子强
《核技术》
CAS
CSCD
北大核心
2002
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