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阶梯分布埋氧层固定电荷SOI高压器件新结构和耐压模型 被引量:14
1
作者 郭宇锋 李肇基 +1 位作者 张波 方健 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第12期1695-1700,共6页
提出了具有阶梯分布埋氧层固定电荷 (SBOC) SOI新型高压器件 ,并借助求解多区二维泊松方程建立其击穿电压模型 ,对阶梯数 n从 0到∞时的器件击穿特性进行了研究 .结果表明 ,该结构突破常规 SOI结构纵向耐压极限 ,使埋氧层电场从常规 75... 提出了具有阶梯分布埋氧层固定电荷 (SBOC) SOI新型高压器件 ,并借助求解多区二维泊松方程建立其击穿电压模型 ,对阶梯数 n从 0到∞时的器件击穿特性进行了研究 .结果表明 ,该结构突破常规 SOI结构纵向耐压极限 ,使埋氧层电场从常规 75 V/μm提高到 5 0 0 V/μm以上 ;同时得到均匀的表面电场分布 ,缓解了器件尺寸和击穿电压之间的矛盾 ,因此 SBOC结构是一种改善 SOI耐压的良好结构 . 展开更多
关键词 SOI 埋氧层固定电荷 击穿电压 模型
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氧化物中固定电荷对硅场致发射的影响
2
作者 黄庆安 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第11期852-857,共6页
本文给出了硅表面覆盖氧化层时,场发射电流的解析公式.考虑了固定氧化物电行时场致发射的影响.结果表明,氧化物和固定电荷均使场发射电流减小,场发射Fowler-Nordheim图中有两个明显的线性区.
关键词 场致发射 氧化物 固定电荷
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Si-MOS结构制备及固定电荷/可动电荷密度测量
3
作者 王旭辉 程军 +3 位作者 杨明超 张莉丽 雷冰洁 耿莉 《实验室研究与探索》 CAS 北大核心 2022年第7期39-43,共5页
研究并制备了一种半导体Si-MOS器件结构,用于Si-SiO_(2)氧化层质量表征和界面测定。实验的测试样品经过切片封装后,可在普通探针台或测试夹具中进行测试,避免了原实验中汞探针的使用,降低了成本的同时避免了汞污染的安全问题;对制作样... 研究并制备了一种半导体Si-MOS器件结构,用于Si-SiO_(2)氧化层质量表征和界面测定。实验的测试样品经过切片封装后,可在普通探针台或测试夹具中进行测试,避免了原实验中汞探针的使用,降低了成本的同时避免了汞污染的安全问题;对制作样品进行了固定电荷/可动电荷测试,分析了测试结果与样品设计的关系。同时,进一步研究了:(1)测试条件对实验结果的影响,结果表明100 kHz下的固定电荷/可动电荷测量可行性,为高频C-V测试仪的选择降低了成本;(2)制备工艺对样品性能的影响,为制作适合于不同应用场景的样品提供了参考。该研究建立的测定方法,还适用于微电子专业“MOS结构C-V法测定SiO_(2)中固定电荷及可动电荷密度”实验中的样品测定需求。 展开更多
关键词 Si-MOS结构 C-V测试 固定电荷/可动电荷
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利用界面固定负电荷在MIP-Al_xGa_(1-x)As中构造感应势的理论计算及其太阳电池的实验研究
4
作者 袁海荣 陈庭金 +1 位作者 涂洁磊 王履芳 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第1期104-110,共7页
介绍利用界面固定负电荷在MIP-AlxGa1-xAs中产生的感应势,并用于提高Al1-xGaxAs/GaAs太阳电池光电转换效率的构想。提出了分段计算求解泊松方程的数值计算方法。报道了利用分段数值计算,得到不同界面固定负电荷密度下,在不同掺杂浓度的... 介绍利用界面固定负电荷在MIP-AlxGa1-xAs中产生的感应势,并用于提高Al1-xGaxAs/GaAs太阳电池光电转换效率的构想。提出了分段计算求解泊松方程的数值计算方法。报道了利用分段数值计算,得到不同界面固定负电荷密度下,在不同掺杂浓度的半导体P-AlxCa1-xA5中界面附近的价带曲线Ev(x),以及Ev(0)值,空穴积累区宽度w值和表面空穴浓度p(0)值。文中还报道了基于这种思想所研制太阳电池的实验结果。 展开更多
关键词 ALGAAS 界面固定电荷 势垒 泊松方程
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埋氧层固定界面电荷对RESURF SOI功率器件击穿特性的影响 被引量:3
5
作者 郭宇锋 李琦 +3 位作者 罗小蓉 杨寿国 李肇基 张波 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2004年第2期181-184,共4页
 通过求解具有界面电荷边界条件的二维泊松方程,建立了埋氧层固定界面电荷Qf对RESURFSOI功率器件二维电场和电势分布影响的解析模型。解析结果与半导体器件模拟器MEDICI数值分析结果相吻合。在此基础上,分别研究了Qf对RESURFSOI功率器...  通过求解具有界面电荷边界条件的二维泊松方程,建立了埋氧层固定界面电荷Qf对RESURFSOI功率器件二维电场和电势分布影响的解析模型。解析结果与半导体器件模拟器MEDICI数值分析结果相吻合。在此基础上,分别研究了Qf对RESURFSOI功率器件横向和纵向击穿特性的影响规律。在横向,讨论了不同硅膜厚度、氧层厚度和漂移区长度情况下Qf对表面电场分布的影响;在纵向,通过分析硅膜内的场和势的分布,提出了临界埋氧层固定界面电荷密度的概念,这是导致器件发生失效的最低界面电荷密度。 展开更多
关键词 埋氧层 固定界面电荷 RESURF SOI 功率器件 击穿
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带电粒子在4个固定点电荷电场中的阻尼振动
6
作者 赵立强 《大学物理》 2019年第9期15-18,共4页
基于库仑定律和牛顿第二定律,理论表示出了带电粒子在4个固定点电荷电场中阻尼振动的动力学方程并求出了解析解.分析讨论了欠阻尼、临界阻尼和过阻尼的条件,最后利用Matlab数学软件画出了算例图像.
关键词 带电粒子 4个固定电荷电场 阻尼振动 算例图像
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基于电荷模型的荷电膜传递现象的研究进展 被引量:4
7
作者 尚伟娟 王晓琳 于养信 《化工学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第8期1827-1834,共8页
根据电荷模型(空间电荷和固定电荷模型),将荷电膜传递现象分为膜的分离性能、电性质及传递参数3类.其中膜的分离性能用截留率和通量来表征;膜的电性质包括膜的电化学性质和膜的动电性质,膜的电化学性质用膜电位来表征,膜的动电性质用流... 根据电荷模型(空间电荷和固定电荷模型),将荷电膜传递现象分为膜的分离性能、电性质及传递参数3类.其中膜的分离性能用截留率和通量来表征;膜的电性质包括膜的电化学性质和膜的动电性质,膜的电化学性质用膜电位来表征,膜的动电性质用流动电位、Zeta电位和电滞效应等参数来表征;膜的传递参数则用反射系数、溶质透过系数、纯水透过系数、电导率、离子的迁移数及电渗系数6个系数来表征.概述了空间电荷和固定电荷模型描述电解质溶液在荷电膜中的传递现象的研究进展,介绍了两种模型在荷电膜中应用时的各自优势,展望了电荷模型在荷电膜体系中应用的发展方向. 展开更多
关键词 荷电膜 空间电荷模型 固定电荷模型
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用于VLSI的新型介质膜电荷特性的测试研究 被引量:1
8
作者 岑洁儒 陈蒲生 +1 位作者 丁雄 何汉翔 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1993年第1期50-53,共4页
介绍了采用高频C—V测试技术对快速热氮化的SiO_xN_y膜电荷特性进行的测试研究及实验结果分析。分析表明,采用氮化后再氧化处理是减少快速热氮化的SiO_xN_y膜中固定电荷的有效途径。
关键词 介质膜 固定电荷 离子 VLSI 测试
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界面电荷对C-Si表面钝化质量的影响 被引量:2
9
作者 高华 汪建强 +2 位作者 张剑 叶庆好 孟凡英 《光电技术应用》 2011年第3期28-34,共7页
深入分析了影响晶体硅与钝化介质层界面复合的主要因素:界面态密度(Dit)、介质层表面电荷密度、衬底掺杂类型及掺杂浓度。研究发现,随着载流子注入水平改变,介质层的钝化质量与介质层带电类型和硅片掺杂类型紧密相关。随着载流子注入水... 深入分析了影响晶体硅与钝化介质层界面复合的主要因素:界面态密度(Dit)、介质层表面电荷密度、衬底掺杂类型及掺杂浓度。研究发现,随着载流子注入水平改变,介质层的钝化质量与介质层带电类型和硅片掺杂类型紧密相关。随着载流子注入水平的降低,富含正电荷(负电荷)的钝化介质在P型(N型)硅片上的钝化质量随之降低;富含负电荷(正电荷)的钝化介质在P型(N型)硅片上的钝化质量却保持不变。深入分析了P型(N型)掺杂硅片表面钝化质量随注入水平变化而产生不同变化的原因,并为高效晶体硅电池表面钝化提出指导性意见,对于工作在低注入水平条件下(5×1014cm-3)的晶体硅电池非常重要。 展开更多
关键词 表面钝化质量 固定电荷 注入水平
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超深亚微米P^+栅PMOSFET中NBTI效应及其机理研究 被引量:4
10
作者 郝跃 韩晓亮 刘红侠 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第z1期2063-2065,共3页
本文深入研究了P+ 栅PMOSFET中的NBTI效应 ,首先通过实验分析了NBTI应力后器件特性及典型参数的退化 ,基于这些实验结果提出了一种可能的NBTI效应发生机制 :即由水分子参与的Si SiO2 界面处的电化学反应 .
关键词 NBTI效应 PMOSFET 界面态 正氧化层固定电荷
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单组分电解质溶液中纳滤膜的反射系数 被引量:3
11
作者 涂丛慧 尚伟娟 王晓琳 《化工学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第6期1507-1513,共7页
The space-charge(SC)model and Teorell-Meyer-Sievers(TMS)model combined with irreversible thermodynamics model are applied to predict the transport coefficients of nanofiltration membranes in single electrolyte solutio... The space-charge(SC)model and Teorell-Meyer-Sievers(TMS)model combined with irreversible thermodynamics model are applied to predict the transport coefficients of nanofiltration membranes in single electrolyte solution.The reflection coefficient has been numerically calculated by the SC model and analytically calculated by TMS model.The results show that the reflection coefficient approaches unit in the range of low-concentration regime and approaches zero in the range of high-concentration.While the diffusion coefficients ratio of co-ion over counterion is less than 1.0,the reflection coefficient is positive over the whole concentration range.When the ratio is larger than 1.0,the reflection coefficient is negative in a certain intermediate concentration region.And the increase of the surface charge density and the decrease of the pore radius cause the increase in the reflection coefficient.The SC model and TMS model show good agreement in the calculation of the reflection coefficient when the dimensionless potential gradient in the pore surfaces is less than 1.0 and the pore radius is less than 5.0 nm. 展开更多
关键词 反射系数 空间电荷模型 固定电荷模型 纳滤膜
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不同钝化膜对InSb光伏探测器性能影响研究 被引量:2
12
作者 龚晓霞 肖婷婷 +6 位作者 杨瑞宇 黎秉哲 尚发兰 孙祥乐 赵宇鹏 陈冬琼 杨文运 《红外技术》 CSCD 北大核心 2020年第10期953-957,共5页
采用3种不同钝化膜制备InSb探测器,测试不同周长/面积比二极管芯片的I-V特性曲线,通过对偏置电压为-0.1 V时的暗电流密度进行比较,分析了表面漏电流对InSb探测器性能的影响。实验结果表明SiO2+SiNx复合膜能大幅度降低器件表面暗电流,C-... 采用3种不同钝化膜制备InSb探测器,测试不同周长/面积比二极管芯片的I-V特性曲线,通过对偏置电压为-0.1 V时的暗电流密度进行比较,分析了表面漏电流对InSb探测器性能的影响。实验结果表明SiO2+SiNx复合膜能大幅度降低器件表面暗电流,C-V测试结果也表明复合钝化膜能大幅度降低了界面固定电荷。将复合钝化膜应用到128×12815μm InSb焦平面探测器上,探测器芯片优值因子R0A≥5×10^4Ω·cm^2,较之前(R0A≈5×10^3Ω·cm^2)得到了极大改善。 展开更多
关键词 钝化膜 InSb探测器 暗电流 固定电荷
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ABEEM_(σπ)和OPLS-AA力场对蛋白质G_A88/G_B88的分子动力学模拟 被引量:3
13
作者 王晶晶 刘翠 杨忠志 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2013年第1期142-148,共7页
将原子与键电负性均衡方法融入分子力学方法,即利用ABEEMσπ浮动电荷力场与ABEEM-7P水模型相结合的方法及OPLS-AA固定电荷力场方法,对GA88和GB88蛋白进行了水溶液(温度295 K)和真空中的分子动力学模拟.比较两种方法得到的两个蛋白质的... 将原子与键电负性均衡方法融入分子力学方法,即利用ABEEMσπ浮动电荷力场与ABEEM-7P水模型相结合的方法及OPLS-AA固定电荷力场方法,对GA88和GB88蛋白进行了水溶液(温度295 K)和真空中的分子动力学模拟.比较两种方法得到的两个蛋白质的结构与实验结构的均方根偏差,分析了两种方法得到的两个蛋白质的回旋半径、氢键分布、径向分布及电荷分布情况.结果表明,ABEEMσπ和OPLS-AA力场均能正确模拟蛋白质结构,得到的各项偏差值接近,但从各偏差的波动大小可见,ABEEMσπ力场的模拟更稳定;回旋半径模拟很好地体现了蛋白质的'电致紧缩'现象;氢键分布、径向分布及电荷分布表明,与OPLS-AA固定电荷力场相比,ABEEMσπ浮动电荷力场能更好地体现蛋白质和周围水分子的极化效应. 展开更多
关键词 原子与键电负性均衡方法 分子力场 OPLSAA固定电荷力场 GA88 GB88蛋白 分子动力学模拟 动力学性质
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深亚微米p^+栅pMOSFET中NBTI效应及氮在其中的作用 被引量:1
14
作者 韩晓亮 郝跃 刘红侠 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第1期84-87,共4页
研究了p+ 栅pMOSFET中的NBTI效应 .通过实验分析了NBTI应力后器件特性及典型参数的退化 ,研究了氮化栅氧中氮对NBTI效应的作用 ,并给出了栅氧中的氮对NBTI效应影响的可能机制 ,即栅氧中氮形成的Si—N键不易被分解 ,但栅氧中的氮提供了H+... 研究了p+ 栅pMOSFET中的NBTI效应 .通过实验分析了NBTI应力后器件特性及典型参数的退化 ,研究了氮化栅氧中氮对NBTI效应的作用 ,并给出了栅氧中的氮对NBTI效应影响的可能机制 ,即栅氧中氮形成的Si—N键不易被分解 ,但栅氧中的氮提供了H+ 的陷阱中心 ,导致NBTI效应中氧化层正固定电荷的增加 。 展开更多
关键词 NBTI效应 氮化栅氧 界面态 氧化层正固定电荷
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影响PMOSFET中NBTI效应的相关因素研究
15
作者 韩晓亮 郝跃 刘红霞 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2004年第5期547-550,共4页
 在PMOSFET上施加负栅压和高温应力后,出现的NBTI效应是超深亚微米MOS器件中重要的可靠性问题之一。研究了NBTI效应对PMOSFET器件参数的影响及其产生机理;基于NBTI效应的产生模型,分析了Si/SiO2界面处氢、氮和水等相关因素对NBTI效应...  在PMOSFET上施加负栅压和高温应力后,出现的NBTI效应是超深亚微米MOS器件中重要的可靠性问题之一。研究了NBTI效应对PMOSFET器件参数的影响及其产生机理;基于NBTI效应的产生模型,分析了Si/SiO2界面处氢、氮和水等相关因素对NBTI效应的影响;介绍了减小NBTI效应的方法。 展开更多
关键词 NBTI效应 PMOSFET 界面陷阱 氧化层固定电荷
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新型Si_3N_4层部分固定正电荷AlGaN/GaNHEMTs器件耐压分析
16
作者 段宝兴 杨银堂 Kevin J.Chen 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2012年第24期464-469,共6页
为了优化传统AlGaN/GaN high electron mobility transistors结构表面电场分布,提高器件击穿电压和可靠性,本文利用不影响AlGaN/GaN异质结极化效应的Si3N4钝化层电荷分布,提出了一种Si3N4钝化层部分固定正电荷AlGaN/GaN high electron m... 为了优化传统AlGaN/GaN high electron mobility transistors结构表面电场分布,提高器件击穿电压和可靠性,本文利用不影响AlGaN/GaN异质结极化效应的Si3N4钝化层电荷分布,提出了一种Si3N4钝化层部分固定正电荷AlGaN/GaN high electron mobility transistors新结构.Si3N4钝化层中部分固定正电荷通过电场调制效应使表面电场分布中产生新的电场峰而趋于均匀.新电场峰使得新结构栅边缘和漏端高电场有效降低,器件击穿电压从传统结构的296V提高到新结构的650V,而且可靠性改善.通过Si3N4与AlGaN界面横、纵向电场分布,说明了产生表面电场峰的电场调制效应,为设计Si3N4层部分固定正电荷新结构提供了科学依据.Si3N4钝化层部分固定正电荷的补偿作用,使沟道二维电子气浓度增加,导通电阻减小,输出电流提高. 展开更多
关键词 ALGAN GaN high electron mobility TRANSISTORS 固定电荷 电场调制
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快速热氮化SiO_xN_y薄膜界面氮化反应模型
17
作者 陈蒲生 王运祥 王岳 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1995年第1期71-79,共9页
提出了快速热氮化二氧化硅膜技术界面氮化模型。由该模型认为,快速热氮化二氧化硅膜中固定电荷及界面态的变化是高温处理及氮化剂向界面扩散并在界面处参与反应两种过程造成的。高温处理带来固定电荷及界面态增大。而氮化剂在界面处的... 提出了快速热氮化二氧化硅膜技术界面氮化模型。由该模型认为,快速热氮化二氧化硅膜中固定电荷及界面态的变化是高温处理及氮化剂向界面扩散并在界面处参与反应两种过程造成的。高温处理带来固定电荷及界面态增大。而氮化剂在界面处的反应存在五种方式,这五种反应对固定电荷及界面态的影响各不相同:有的增大固定电荷,有的减少固定电荷;有的增大界面态,有的减少界面态。高温处理及这五种反应的综合结果,影响了快速热氮化二氧化硅膜中固定电荷及界面态。文中从这一模型出发,提出了关于固定电荷变化的计算公式。 展开更多
关键词 固定电荷 界面态 介质膜 薄膜 氮化反应 模型
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Al/BaTiO_3/Si湿度传感器的电特性
18
作者 吴英才 《湛江水产学院学报》 CAS 1995年第2期65-67,共3页
用氩离子束镀膜法制备BaTiO3/Si结构,并在400~900℃的温度下用氮气保护进行退火,用常规蒸铝技术制成Al/BaTiO3/Si湿度传感器。用俄歇电子能谱分析BaTiO3膜的化学组分。采用高频电容—电压测试仪测... 用氩离子束镀膜法制备BaTiO3/Si结构,并在400~900℃的温度下用氮气保护进行退火,用常规蒸铝技术制成Al/BaTiO3/Si湿度传感器。用俄歇电子能谱分析BaTiO3膜的化学组分。采用高频电容—电压测试仪测定BaTiO3/Si结构的固定电荷密度,分析固定电荷密度与退火的关系。结果表明:固定电荷密度达1011cm-2数量级。经900℃、60分钟退火后固定电荷密度下降至19%到20%。随着固定电荷密度的减少,湿度传感器的响应时间延长了60%,而击穿电压提高了7倍。 展开更多
关键词 钛酸钡 俄歇电子能谱 固定电荷密度 湿度传感器
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薄硅膜金属-绝缘层-半导体结构的电容-电压特性 被引量:1
19
作者 高梓喻 蒋永吉 +3 位作者 李曼 郭宇锋 杨可萌 张珺 《应用科技》 CAS 2017年第1期40-44,共5页
随着各种新纳米CMOS器件技术的出现,在等比例缩小原则的限制下,硅膜厚度逐渐减薄,这对通过电容-电压法进行物理参数提取带来了挑战。本文借助半导体二维仿真器件——MEDICI,研究了不同硅膜厚度下金属-绝缘层-半导体结构的低频和高频电容... 随着各种新纳米CMOS器件技术的出现,在等比例缩小原则的限制下,硅膜厚度逐渐减薄,这对通过电容-电压法进行物理参数提取带来了挑战。本文借助半导体二维仿真器件——MEDICI,研究了不同硅膜厚度下金属-绝缘层-半导体结构的低频和高频电容-电压特性,通过研究不同偏置下的能带结构探讨了其内在物理机理,并分析了考虑金属与半导体功函数差、绝缘层固定电荷等因素的影响时该结构的电容-电压特性,为通过电容-电压特性法对薄硅膜MIS结构进行参数提取与表征进行了有益探索。 展开更多
关键词 硅膜厚度 MIS结构 电容-电压特性 绝缘层固定电荷
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新型MOS氧化层TiO_2薄膜
20
作者 张良 陆鸣 +1 位作者 王民 许效红 《压电与声光》 CSCD 北大核心 2003年第6期494-496,共3页
采用低压MOCVD法在(111)取向硅基上制备了TiO2薄膜代替通常MOS结构的SiO2,并测量了TiO2薄膜的介电常数、表面固定电荷密度和电阻率,与SiO2作比较,结果表明:TiO2的MOS结构比SiO2具有更优良的性质,更适应于超大规模集成电路制造。
关键词 TIO2薄膜 MOS结构 介电常数 电阻率 表面固定电荷密度
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