用于大面积周期性图形制造的激光干涉光刻

用两束或多束相干激光束以不同的组合形式对光致抗蚀剂曝光,可在大面积范围内产生精细的二维周期性图形,这个方法特别适合于产生光电子器件和微电子器件的周期性结构。介绍激光干涉光刻的基本原理,对几种光束组合干涉方法给出了理论推导结果,并进行了计算机模拟。初步的实验结果表明,用激光干涉光刻技术产生大面积的亚微米级周期性孔、柱、锥图形是可行的。该方法不需要掩模、昂贵的光刻成像透镜、新的短波长光源和新型的抗蚀剂,提供了得到高分辨、无限焦深、大面积光刻的可能性。

动态组合模式“蘸笔”纳米刻蚀与单个DNA分子上的物理纳米图形制造

利用“蘸笔”纳米刻蚀技术(DPN)可在金、硅和氧化硅等较硬的固相衬底表面上制作不同的纳米级图案。但是,在柔软的物体表面如生物大分子上直接制作纳米图形是尚需开拓的研究领域。本文发展的动态组合模式“蘸笔”纳米刻蚀技术(CDDPN)可实现在生物大分子上直接制怍纳米图形,并且能达到在拉直的单个DNA分子上制造纳米图形的目的。

激光诱导表面周期性结构的研究进展

激光诱导表面周期性结构(LIPSS)是固体材料的一种普遍特性。材料表面的LIPSS可以改变材料的性质,利用这些特性可以实现许多特殊功能。本文总结近年来关于LIPSS的代表性文章,首先以激光作用下表面能量排布和物质流动方式作为切入点,从理论上解释LIPSS的形成原理;然后阐述薄膜表面与刻蚀材料表面上形成LIPSS的研究工作,以及激光参数对形成LIPSS的影响;最后介绍LIPSS在现代工业中,如制备特殊晶体、超亲水/疏水材料和医学材料等方面的应用情况。本文从以上三个方面对近年来LIPSS相关领域的研究进行了梳理和归纳,对LIPSS相关技术在未来的发展进行展望。