应用CCD和液晶图形发生器的光学多参数综合测试技术研究

研究CCD摄像器件和图像处理技术在光电自动化测试中的应用.在采用CCD摄像机、LCD图形发生器和数字图像处理技术的基础上,讨论光学多参数测量新方法及其测量系统,实现了焦距、视放大率、调制传递函数以及视差等参数的测量,并着重论述了光电自动定焦在光学参数测量中的应用.实验证实,该类光学参数测量方法比传统人工目视测量更客观、更准确,测量效率更高,可逐渐取代部分传统目视测量方法.

图形发生器荫罩母版制版均匀性研究

讨论了人眼检测荫罩均匀度的原理及能力，将视觉明暗的空间频率特性概念及有关实验结果引入荫罩不均匀度研究中，并通过郎氏环及有关人眼视力的实验结果建立了人眼对荫罩不均匀区边缘感知的数学模型．通过上述工作，得到了人眼察觉荫罩不均匀度的上限，为图形发生器测控系统等性能指标的确定提供了“人”这一环节的定量依据．

纳米级电子束曝光机用图形发生器

为满足纳米级电子束曝光系统的要求,设计了高速图形发生器。该图形发生器包括硬件和软件两部分。硬件方面主要是利用高性能数字信号处理器(DSP)将要曝光的单元图形拆分成线条和点,然后通过优化设计的数模转换电路,将数字量转化成高精度的模拟量,驱动扫描电镜的偏转器,实现电子束的扫描。通过图形发生器还可以对标准样片进行图像采集以及扫描场的校正。配合精密定位的工件台和激光干涉仪,还可以实现曝光场的拼接和套刻。利用配套软件可以新建或导入通用格式的曝光图形,进行曝光参数设置、图形修正、图形分割、临近效应修正等工作,完成曝光图形的准备。结果表明,该图形发生器能够与整个纳米级电子束曝光系统协调工作,刻画出纳米级的图形。

图形发生器的成像系统

为实现电子束曝光机扫描场的线性畸变校正,设计了图形发生器的成像系统,该系统包括硬件和软件两部分。硬件设计上使用了高速、高精度模数转换器,并对其工作方式及图像采集流程做了具体阐述。软件设计上利用点阵成像的原理,把采集到的图像信号转变成相应的灰度值,并按点阵排列,将最终获得的图像显示在计算机屏幕上,以实现校正。同时还给出了对图像进行局部放大的方法及计算公式。实验证明,该成像系统工作正常,可以获得清晰的图像。

CPLD技术在图形发生器中的应用

FPGA(现场可编程阵列)和CPLD(复杂可编程逻辑器件)是可编程ASIC(专用集成电路)器件的主流。根据使用空间受到限制的航空、航天对地观察电视摄像系统特点,介绍了采用CPLD技术实现该系统变焦距数据的读取,并根据变焦距数据产生特定的图形符号,产生面阵CCD摄像机行、场同步信号及复合同步信号的原理及方法。实验表明采用CPLD设计方案,在降低系统功耗,缩短研发周期,提高系统可靠性方面取得了明显效果。

大规模集成电路高温动态老化测试嵌入式图形发生系统的可编程ASIC实现

图形发生系统是大规模集成电路高温动态老化测试的核心子系统。在此 ,采用可编程 ASIC技术成功实现了这一系统。在体系结构及性能指标方面做了很大改进的同时 ,极大地减小了系统的 PCB尺寸 ,首次实现了嵌入方式。

一种基于PCI总线的数字图形发生器设计

数字功能卡(PE)是集成电路测试设备的核心部件,也是SOC测试系统的必需部件,它可以完成数字IC的逻辑功能测试。成功开发好PE板是研发数字集成电路测试系统的必经过程,也是开发SOC集成电路测试系统的必经过程。介绍了一种基于PCI总线的数字图形发生器的设计方法。建立基于PCI总线、以DDR3作为存储器、以FPGA作为专用定制逻辑处理器这一架构的数字图形发生器电路系统模型,以产生任意测试矢量图形,满足高中低端数字类芯片的测试需求。重点介绍了采录模块\发送模块、缓存模块、逻辑控制模块、PCI接口模块的设计方法。

基于单DSP的双通道图形发生器设计

在某些应用场合需要适应苛刻工作环境要求的高性能、高可靠性嵌入式图形发生器。本文介绍一种基于SHARC数字信号处理器的“一驱二”图形发生器,可实现单处理器同时驱动两路独立的视频通道,完成复杂动态画面的实时生成,并能满足苛刻的使用条件。

微机化视频图形发生仪的研制

介绍了以单片机和ＣＲＴ显示器控制芯片ＣＲＴＣ为主的微机化视频图形发生仪的设计方法及原理．对用ＭＣ６８４５ＣＲＴＣ产生视频信号的方法及图象分辨率作了详细介绍，给出了将此视频图象发生仪作图象刺激仪的软件框图．

大规模集成电路动态老化测试台图形发生系统设计

本文论述了大规模集成电路动态老化测试台COWWS—12000图形发生系统设计。系统采用了微机集中控制各路独立编程方式,具有结构简单、通用性强等特点。

大幅面超精密图形发生器X－Y工作台位置补偿校正

在超精密控制中，一般采用双频激光多卜勒测量系统作为位置测量元件．因存在机架、材料膨胀及材料、激光死区和环境空气变化，控制软件必须对此进行补偿校正．文中分析并推导出了有关的Ｘ－Ｙ工作台位置补偿校正公式，并给出了进行实际应用的例子．

USB2.0接口在图形发生器中的应用

本文阐述了USB2 0接口在图形发生器中的应用 ,介绍了该接口的硬件技术要点 。

基于FPGA的反走样图形发生器的研制

简要介绍了一种生成反走样直线和圆的原理,然后用基于FPGA的硬件方法研制设计出该反走样图形发生器,提高了图形生成的速度。相比于100MHz-CPU的计算机软件实现,大约快4倍。

一种新型图形发生器硬件方案的研究

介绍了一个电子束曝光系统图形发生器的硬件实现方案,该方案以DSP处理器为核心,通过USB接口与上位机通讯,具有标记检测和曝光扫描两项基本功能,同时增加了圆形和圆环图形的处理功能。通过将现有图形发生器的功能移植至数字信号处理器,使各种图形硬件化,提高了图形的运算和处理速度,克服了以前图形发生器存在的许多弊端。

一种新型的电子束图形发生器

本文介绍了一种新型的电子束图形发生器,它基于主从分布式微机结构体系。以IBM PC/AT为主机管理,MCS—51单片机为分机控制。下位机接收传来的命令和数据,并分析转换以完成单双通道各种基本图形的扫描。工作频率在6MHz以上。结果表明:用分布式微机结构体系完成原小型机的工作,可以大大简化图形发生器的结构,且控制灵活,为曝光机的整机自动化打下基础。

CAI函数图形发生器FGG的设计与实现

介绍在Ｗｉｎｄｏｗｓ环境下用ＢｏｒｌａｎｄＣ＋＋３．１开发的通用函数图形发生器的结构和功能，讨论了实现中的表达式求值算法和图形生成算法。ＦＧＧ的主要特点是，对输入的任意一元、二元函数表达式可直接生成对应的二维和三维图形。ＦＧＧ作为ＣＡＩ写作工具的支撑软件，可用于ＣＡＩ课件的开发及演示。

新型图形发生器的集成电路测试系统

集成电路产业是国家综合竞争力的重要标志,也是维护国家经济和国防安全的关键核心。近五年来我国集成电路产业年均增长27%,呈现出前所未有的大好形势。集成电路测试业是集成电路产业链中重要的组成部分,不断地研发出适合中国国情的集成电路测试系统是测试业的重要使命。

基于DLP技术的无限远目标图形发生器设计

为了模拟无限远目标,便于生成各种分划板图案,满足轻武器瞄准性能参数的测试要求,在平行光管的基础上,结合DLP技术,设计了一套光电图形发生器。

聚焦离子束装置中的图形发生器

聚焦离子束技术(FIB)是一种集形貌观测、定位制样、成份分析、薄膜淀积和无掩模刻蚀各过程于一身的新型微纳加工技术。几十年来,随着关键技术的不断突破和完善,达到了前所未有的发展,所突破的关键技术之一就是图形发生器的使用。

5009激光图形发生器曝光实验

激光图形发生器是一种用于图形转化的硬件接口设备,直接影响着掩膜版的加工质量。激光图形发生器曝光过程中出现的曝光偏移、曝光遗漏问题,严重影响了掩膜版加工的质量和成品率。通过实验和分析,总结了产生曝光偏移、曝光遗漏的一些原因。