振镜二维扫描的图形畸变校正和曝光量补偿

主要讨论了物镜前振镜二维扫描光学系统中图形畸变的产生原因 ,分析比较了图形畸变与振镜布放、像面坐标系方位及 fθ特性误差等的关系 ,并结合视场大小为 75× 75的实际物镜 fθ特性误差的最小二乘拟合 ,给出了校正图形畸变的准确关系式。另外 ,在矢量扫描方式中光斑移动速度的非线性会导致扫描图形各部分曝光不均匀 ,文中也给出了对扫描图形曝光量加以补偿的方法和公式。

ASM中基于不变矩图形畸变主动检测与修正

主动形体模型是可变形模板技术中一种重要的方法,在医学图像分析和机器视觉中得到越来越广泛的应用。但是该方法在图像的匹配过程中,如果目标图像不够清晰或者模型初始位置不理想,会产生畸变的匹配结果。而且该模型没有一个有效的对畸变图形进行检测和修正的策略。提出了一种基于边界矩不变量的主动检测和修正方法,通过引入边界矩不变量,对模型的形体变化进行量化,并根据从训练集中获取的统计信息,对变形过程中的模型形体的变形进行检测和修正。实验结果表明,该方法能够在很大程度上解决匹配过程中的畸变问题,并且相比传统主动形体模型,所消耗的时间增加很少,对算法的效率并不影响。

P＜100＞Si衬底晶向偏离度对外延埋层图形畸变的影响

衬底晶向偏高度对Ｐ型＜１００＞硅外延埋层图形畸变影响很大，在通常的外延生长条件下，当Ｐ型＜１００＞衬底主晶向朝最近（１１０）方向偏离２～３°时，可得到十分满意的埋层图形．这个结果对于修订标准具有参考价值．本文从外延生长的微观机制出发，对产生埋层外延图形畸变的原因和实验结果进行了分析。

P型＜100＞硅外延埋层图形畸变与晶向偏离度的关系

本文指出，在影响Ｐ型（１００）硅处延埋层图形畸变的诸因素中，衬底晶向偏离度是决定性的。并进一步指出，Ｐ型（１００）硅衬底主晶向朝最近（１１０）晶向偏离２～３°时可得到满意的埋层图形。该角度为最佳偏离度。这一实验结果对国内外现行的有关标准提出异议。本文从外延生长微观机制和生长动力学对产生外延埋层图形畸变的原因和实验结果进行了讨论。

微型单色显像管图形畸变参量测试图像计算机分析

微型ＣＲＴ管“图形畸变”参量计算机测试需要解决系统分辨率难以满足精度要求的问题。本文对畸变扫描线特性进行了深入的分析，并对图像采集系统的误差引入进行了充分的讨论，提出了误差抑制的方法，突破了分辨率对获取高精度图形畸变参量的限制。

掩模版复印工艺图形畸变分析与改进

批量化、低成本的掩模版复印工艺常被用于LED领域。在微米级图形的掩模版复印工艺中,受玻璃基板平面度的影响,光学衍射效应会导致图形发生畸变。为消弭复印工艺中的图形畸变,从光学衍射理论展开分析,提出通过调整光刻曝光剂量和光刻胶层厚度来提升掩模版复印工艺水平的方法。实验实现了4μm圆形图形掩模版的复印制作,结果表明该方法可以显著提升微米级图形的掩模版复印工艺水平,降低掩模版的制作成本。

基于粒子群优化BP神经网络的激光扫描投影系统畸变预测方法

为了精准、高效地预测和校正激光扫描投影系统的畸变误差,研究了基于粒子群优化BP神经网络的畸变预测方法。建立了BP神经网络结构,并融合粒子群优化算法对BP神经网络的权值和阈值进行优化,得出基于粒子群优化BP神经网络的激光扫描投影系统投影畸变预测模型。选取距激光扫描投影仪器两米的待投影面上的理论坐标点及各点相应畸变值Δx作为粒子群优化BP神经网络的训练数据集,将待投影面上实际投影位置坐标代入训练好的粒子群优化BP神经网络进行预测得到预测畸变值输出,并与实际畸变值对比,最后,引入Elman神经网络预测模型的预测结果与所研究预测方法进行对比。结果表明:在±30°的全视场扫描投影范围内粒子群优化BP神经网络预测模型的均方根误差为0.0176 mm,解算时间仅需22.4 s,相较于Elman神经网络效率提升78.33%,预测精度及时间明显优于Elman神经网络,可以有效预测激光扫描投影系统的畸变误差。

视觉辅助的激光振镜加工畸变校正及精度分析

为了解决激光振镜加工畸变校正过程中人工测量效率低、精度差的问题,提出一种视觉辅助的畸变校正和精度测量方法。该方法分析了误差来源,建立了畸变数学模型,采用螺旋式填充圆标刻配合最小包络圆检测获取振镜系统误差特征描述,用曲线拟合或线性插补算法补偿误差,最后采用误差标准测量点阵进行精度标定。实验结果表明,该方法可以消除86%图形畸变,平均相对误差为7×10^(-4),提升了校正精度和校正效率。

双极型晶体管用常压埋层硅外延的图形完整性研究

阐述埋层硅外延片作为当今双极型晶体管的关键战略材料,应用价值显著。但是相比常规无图案的抛光片外延,埋层硅外延制备工艺受制于外延均匀性、表面质量等参数制约,难度显著增加。基于<111>晶向的埋层硅外延将与<110>定位面垂直的方向发生图形漂移,而且反应副产物HCl会腐蚀硅片表面,图形台阶处因为取向不同,使各方向腐蚀速率不同产生图形畸变,导致光刻工艺下的对位标记无法进行。本文解释了外延生长过程中图形漂移和畸变原理,验证了生长温度、反应速率对图形漂移和畸变的影响,通过优化外延工艺参数,严格控制生产工艺,可以满足埋设层外延工艺的特殊要求,最终成功在常压状态下控制了图形漂移和畸变。

车位图像畸变的矫正与拼接研究

为了实现停车场空车位的快速检测和查询,提出一种车位图像畸变的矫正与拼接方法,将相邻摄像头拍摄的具有一定重叠区域的视频图像拼接为一幅能够全面描述停车场车位信息的大视场图像,从而为停车场空车位的快速检测做准备。由于停车场摄像头安装的视角偏移和透视效应,造成拍摄的图片存在纵向和横向畸变,为了直观地显示整个停车场各个车位的占用、空闲信息,同时也为了方便车辆管理,先将各个车位逐一矫正成同视角图片,然后再进行拼接,从而便于用户直接观察停车场中的空车位,也有利于需要自动检测车位时进一步进行图像处理。

双极IC用双埋层图形衬底制备N/P异型硅外延结构

利用PE2061s型常压桶式多片外延炉,在P型双埋层图形硅衬底上沉积生长高均匀性低缺陷的N型外延层。通过研发衬底背面杂质掩蔽、附面层虹吸效应、高补偿缓冲层生长等技术,使外延层图形漂移率、图形畸变率、均匀性以及表面质量等关键指标明显改善,最终制备出图形漂移率72%,图形标记长宽比保持为1∶1,电阻率的片内不均匀性<1.5%,片间不均匀性<2%,表面无亮点、凹坑和雾迹等缺陷的埋层硅外延片。采用该外延片制备的双极IC芯片经测试满足各项电参数指标要求,表明常规埋层关键工艺取得了关键突破,可以满足工程化批产要求。

振镜式激光扫描误差分析及几何校正算法

针对如何提高振镜式激光扫描的扫描精度,特别是当扫描区域较大时的精度问题,文中展开了对振镜式激光扫描时图形畸变原因的分析,并对每一种误差产生的原因提出了校正补偿的办法。综合各种误差补偿办法,建立了一个基于平面坐标变换几何校正算法原理的图形畸变校正模型。此模型校正算法采用VC++6.0编程,应用于快速成形粉末烧结系统,结合激光扫描边长为300cm正方形时的试验数据和畸变特性,对畸变关系式作了进一步的改进。由于此公式反映的是理想点和畸变点的地址映射关系,所以,当激光扫描时,X方向和Y方向上的扫描数据经过此校正模型后都会动态的发生变化,从而保证激光的扫描精度。

激光扫描加工DEA控制模型的研究

双振镜激光加工中,物镜平场扫描系统中,输出平面笛卡儿坐标系与扫描器球面坐标系之间存在着非线性映射关系,使扫描加工图形产生图形加工畸变。以OEF图形算法为基础建立了双端点(DEA)控制模型,即计算端点逼近和设计端点逼近,采用DEA控制模型进行控制,有效地校正了图形畸变,显著提高了激光扫描加工系统精度,图形畸变误差较以前减小。

激光振镜扫描系统的快速软件校正算法研究

针对激光振镜扫描系统的图形畸变 ,根据由成像系统引起的几何畸变的后验校正法提出一种二次曲线校正模型 .对于图形中每一条发生几何畸变后的直线 ,用二次曲线在水平和竖直方向去拟合 ,然后求得反变化的校正函数来校正图形的畸变 ,从而获得了一种准确快速的校正算法 .该算法先拟合像场平面中最大边界直线发生畸变后的曲线 ,再求它的畸变量 ,并按比例求得像场中其他直线的畸变量 .该算法的校正函数比从振镜扫描系统几何畸变公式导出的校正函数简单、实用 ,所用时间少 .

应用付立叶变换红外光谱仪及其附件检验纤维的研究

本文在5DX型付立叶变换红外光谱仪上使用漫反射、衰减全反射附件及差谱技术,对各种单一纤维、混纺纤维等进行了检验研究,取得了满意结果:最低可检测约O.5厘米的单根纤维,对混纺纤维的配比等可提供有价值的信息。本法不破坏检材。

掩模曝光剂量的精细控制工艺设计

本文从光学邻近效应的机理出发,基于区域划分掩模特征线条,实施曝光剂量控制,从而达到光学邻近效应的精细校正。通过模拟测试图形得到改进后的掩模图形畸变率,与传统曝光剂量校正法相比,减少了约4%。

直角平面彩电

直角平面彩电是指采用了直角平面彩色显像管的彩色电视机。直角平面彩色显像管的四角为直角,屏面的曲率半径较大,接近为平面。确切地说,应称为直角平坦型彩色显像管。用这种显像管装配成功的彩色电视机,有如下优点: 第一,图形畸变失真小。一般来说,显像管曲率半径越小;即屏幕越是向外凸,图像的畸变越大。而且,显像管越小,畸变越大。对此,有兴趣的读者,在收看电视节目时,可以在正对屏幕中心位置与偏离屏幕中心较远的位置对所看到的图像进行对比。如果你正对屏幕中心位置看到的是一名仪表堂堂、潇洒俊秀的歌手正在演唱,那么,你偏离屏幕中心位置较远观看时,因畸变的原因,歌手的形象就不那么俊美了。而直角平面显像管几乎看不出图像的畸变。

示波管近期发展动向

本文简要介绍国内外电子测量仪器所用的示波管近期技术进展。

用于检测光学零件的计算机生成全息图:误差分析与补偿

在用综合全息图产成波前时,已经考虑到几种误差源。本文对两种误差源作了分析。第一种是全息图结构的二进制化;对两种典型的情况进行了定量估计。第二种是由产成全息图的图示设备引起的畸变。还描述了如何记录并补偿这些误差的几种方法。并且指出了双综合全息图呈现出特殊的优点。在减小由二进制化所引起的误差时,就会使由全息图畸变所引起的误差增大,反过来也一样。所以,本文给出了降低这两种误差的一个折衷方案。

凸角补偿技术

凸角补偿技术是在硅微机械加工技术中应运而生的。因为在利用硅各向异性腐蚀技术制备较复杂的微结构时，常常出现图形畸变，较突出的是边缘沿〈110〉方向布置的方形台面出现凸角缺陷，这对传感器的制做及优化设计很不利。为了减少或避免凸角被刻饰掉，必须在掩膜凸角处附加一些专门的结构。通常是根据不同的腐蚀液，出现的优先腐蚀面不同而采取不同的掩膜补偿形状。