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场致发射显示(FED)器件的制屏新工艺 被引量:1
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作者 季旭东 《光电技术》 2001年第4期47-51,共5页
制屏工艺对FED器件的显示性能有极大的影响,本文介绍了最近开发的制作FED器件荧光屏的新工艺。
关键词 场致发射显示器件 制屏工艺 显示性能
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减少氧对Spindt型钼锥FED器件发射性能的影响
2
作者 季旭东 《光电子技术》 CAS 2001年第2期120-124,共5页
本文讨论了氧对 Spindt型钼微尖锥 FED器件发射性能的影响 ,并介绍了一种减少这种影响的方法——在氩气环境中焊封 FED器件。
关键词 场致发射显示器件 发射性能 Spindt型 钼锥
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碳纳米管材料及其在大尺寸FED器件中的应用
3
作者 季旭东 《光电子技术》 CAS 2005年第1期67-70,共4页
介绍了碳纳米管材料的特性、结构及制作 ,对存在的问题作了说明 ,讨论了在大尺寸 FED器件中的应用。
关键词 碳纳米管 场致发射显示器件 特性 大面积 应用
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提高FED器件发光均匀度
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作者 季旭东 《光电技术》 2001年第3期32-34,14,共4页
发光均匀度是FED器件的一个重要的技术参量;本文介绍了对于FED器件发光均匀度的新测量方法及提高FED器件发光均匀度的新方法。
关键词 均匀度 发光 场致发射显示器件 FED器
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CNT-FED中光刻工艺的研究
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作者 陈静 杨夏喜 +1 位作者 雷威 张晓兵 《真空电子技术》 2006年第1期15-17,29,共4页
在碳纳米管场致发射显示器件结构中,需要采用光刻的方法制备各种不同的ITO图案和电极图案。本文着重介绍了ITO玻璃的表面处理和光刻过程。实验中采用在紫外曝光条件下,对光刻工艺中影响其刻蚀结果分辨率的各种因素做出了系统分析。这些... 在碳纳米管场致发射显示器件结构中,需要采用光刻的方法制备各种不同的ITO图案和电极图案。本文着重介绍了ITO玻璃的表面处理和光刻过程。实验中采用在紫外曝光条件下,对光刻工艺中影响其刻蚀结果分辨率的各种因素做出了系统分析。这些因素主要包括了对于感光胶的选择,玻璃表面的清洁度,丝网印刷工艺的操作,紫外光曝光时间的控制,酸腐蚀浓度。通过优化实验工艺,得到满足精度要求的精细条纹,得出最佳的光刻条件。 展开更多
关键词 光刻 碳纳米管场致发射显示器件 ITO
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FEA用的非晶态金刚石碳薄膜
6
作者 季旭东 《光电技术》 2003年第2期41-43,共3页
文章对用于FEA的非晶态金刚石碳膜的制备、测量、场致发射特性以及发射性能改良的掺氧非晶态金刚石碳薄膜作了介绍。
关键词 FEA 非晶态金刚石碳薄膜 致发射阵列 掺氧 场致发射显示器件
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无线电设备、电信设备
7
《中国无线电电子学文摘》 2007年第1期88-93,共6页
TN802 2007011063粒子群优化算法用于阵列天线方向图综合设计/焦永昌,杨科,陈胜兵,张福顺(西安电子科技大学天线与微波技术国家重点实验室)//电波科学学报.―2006,21(1).―16~20,25.粒子群优化算法是基于一群粒子的智能运动而产生的一... TN802 2007011063粒子群优化算法用于阵列天线方向图综合设计/焦永昌,杨科,陈胜兵,张福顺(西安电子科技大学天线与微波技术国家重点实验室)//电波科学学报.―2006,21(1).―16~20,25.粒子群优化算法是基于一群粒子的智能运动而产生的一类随机进化算法,其优点是算法非常利于理解和应用。该文介绍了粒子群算法的原理和流程,研究了如何将该方法运用于天线阵的方向图综合上,给出了PSO算法在综合阵列方向图的应用实例,表明粒子群算法在天线阵列综合中具有广泛的应用前景。 展开更多
关键词 碳纳米管显示器 微球透镜 TN 天线与微波技术国家重点实验室 西安电子科技大学 算法 天线辐射特性 无线电设备 波导裂缝天线 微带缝隙 场致发射显示器件 真空电子技术 波纹喇叭 标量喇叭 天线馈源 方向图综合 光纤列阵 伦伯透镜 电信设备
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