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[111]方向电场诱导的硅的倍频效应
1
作者
刘秀环
陈占国
贾刚
《红外与激光工程》
EI
CSCD
北大核心
2007年第z1期382-386,共5页
理论上研究了硅晶体在[111]方向电场的作用下等效二阶极化率张量与C3V点群晶体的二阶极化率张量的形式相同;在此基础上研究了硅的[111]方向电场诱导的倍频效应,可以使入射光垂直于{110}面入射,从而研究硅的场致倍频效应随基频光偏振方...
理论上研究了硅晶体在[111]方向电场的作用下等效二阶极化率张量与C3V点群晶体的二阶极化率张量的形式相同;在此基础上研究了硅的[111]方向电场诱导的倍频效应,可以使入射光垂直于{110}面入射,从而研究硅的场致倍频效应随基频光偏振方向的变化。设计了底面为(110)面的半球形硅样品,为从实验上研究[111]方向电场诱导的硅的倍频效应,提出了一种实验方案。
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关键词
硅晶体
场致等效二阶极化率
场致
倍频吸收
双光子响应
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职称材料
题名
[111]方向电场诱导的硅的倍频效应
1
作者
刘秀环
陈占国
贾刚
机构
吉林大学电子科学与工程学院
出处
《红外与激光工程》
EI
CSCD
北大核心
2007年第z1期382-386,共5页
基金
国家自然科学基金资助项目(60476027)
文摘
理论上研究了硅晶体在[111]方向电场的作用下等效二阶极化率张量与C3V点群晶体的二阶极化率张量的形式相同;在此基础上研究了硅的[111]方向电场诱导的倍频效应,可以使入射光垂直于{110}面入射,从而研究硅的场致倍频效应随基频光偏振方向的变化。设计了底面为(110)面的半球形硅样品,为从实验上研究[111]方向电场诱导的硅的倍频效应,提出了一种实验方案。
关键词
硅晶体
场致等效二阶极化率
场致
倍频吸收
双光子响应
Keywords
Silicon crystal
Electric field induced effective second-order susceptibility
Electric field induced double-frequency absorption
Two-photon response
分类号
O437:0472 [机械工程—光学工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
[111]方向电场诱导的硅的倍频效应
刘秀环
陈占国
贾刚
《红外与激光工程》
EI
CSCD
北大核心
2007
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