线性光放大器中由串扰引起的增益波动研究

针对线性光放大器(LOA)中垂直光场(VCL)的增益钳制作用,建立基于标准速率方程的分段模型。模型考虑了纵向载流子密度变化、放大的自发辐射噪声和端面反射。通过与普通半导体光放大器的比较,验证了VCL对串扰引起的增益波动有很好的钳制作用。模拟计算了不同注入电流下,增益波动的范围和有源区载流子分布,以及泵浦信号强度和调制速率对增益波动的影响。

线性光放大器的宽带自发辐射噪声分析

建立含有垂直光场(VCL)的线性光放大器(LOAs)稳态仿真模型,考虑了宽带噪声特性、端面反射和纵向空间烧孔效应。计算了在不同输入信号功率和垂直腔分布布喇格反射器(DBR)反射率下总的输出ASE噪声功率、噪声系数(NF)、前向和后向传输的ASE噪声光子速率和噪声谱分布的变化。结果表明,与传统光放大器(SOAs)相比,在增益非饱和区,LOA有很好的噪声钳制作用,ASE噪声几乎不随信号功率的改变而变化。在增益饱和区,破坏了VCL的钳制作用,NF有所上升,但上升的速率小于SOA。提高DBR反射率,总的输出ASE噪声功率减小,但NF有所增大。