高密度垂直磁存储FePt颗粒薄膜媒质的研究

本文采用磁控溅射法在硅基片上生长FePt颗粒薄膜。FePt膜层下面为MgO籽层,以此引发薄膜的L10相fct织构。在FePt薄膜中掺入C可减小其颗粒尺寸。采用X射线衍射仪(XRD)、超导量子干涉仪(SQUID)和透射电镜(TEM)对FePt颗粒进行表征,结果表明制备的样品具有优良的L10相结构,其磁滞曲线表明方形度很好,而且垂直矫顽力能有26 kOe,颗粒大小为8.3 nm。高分辨透射电镜表征表明其优良的fct超晶格结构。该磁性薄膜有望应用于下一代高密度磁存储媒质。