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二氧化硅埋层式光波导结构参数及工艺的设计
1
作者
黄伟志
刘皓宇
《承德石油高等专科学校学报》
CAS
1999年第2期11-14,共4页
本文运用光波导理论中的有效折射率法,对二氧化硅埋层式光波导的结构参数进行了计算和设计.根据常规工艺中出现的一些问题,在工艺设计中选择了反应离子刻蚀法和PECVD工艺,并运用计算机模拟技术,对波导的传播性能进行了分析。
关键词
光波
导
器件
二氧化硅
埋层式光波导
结构参数
工艺设计
反应离子刻蚀法
PECVD工艺
下载PDF
职称材料
题名
二氧化硅埋层式光波导结构参数及工艺的设计
1
作者
黄伟志
刘皓宇
机构
承德石油高等专科学校
出处
《承德石油高等专科学校学报》
CAS
1999年第2期11-14,共4页
文摘
本文运用光波导理论中的有效折射率法,对二氧化硅埋层式光波导的结构参数进行了计算和设计.根据常规工艺中出现的一些问题,在工艺设计中选择了反应离子刻蚀法和PECVD工艺,并运用计算机模拟技术,对波导的传播性能进行了分析。
关键词
光波
导
器件
二氧化硅
埋层式光波导
结构参数
工艺设计
反应离子刻蚀法
PECVD工艺
Keywords
burid optical waveguides
ERP method
computer simulation technology
分类号
TN252 [电子电信—物理电子学]
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作者
出处
发文年
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1
二氧化硅埋层式光波导结构参数及工艺的设计
黄伟志
刘皓宇
《承德石油高等专科学校学报》
CAS
1999
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