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二氧化硅埋层式光波导结构参数及工艺的设计
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作者 黄伟志 刘皓宇 《承德石油高等专科学校学报》 CAS 1999年第2期11-14,共4页
本文运用光波导理论中的有效折射率法,对二氧化硅埋层式光波导的结构参数进行了计算和设计.根据常规工艺中出现的一些问题,在工艺设计中选择了反应离子刻蚀法和PECVD工艺,并运用计算机模拟技术,对波导的传播性能进行了分析。
关键词 光波器件 二氧化硅 埋层式光波导 结构参数 工艺设计 反应离子刻蚀法 PECVD工艺
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