期刊文献+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
共找到1篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
显示方式：
纳米CMOS工艺下集成电路可制造性设计技术 被引量：2
1
作者 程玉华 《中国科学（E辑）》 CSCD 北大核心 2008年第6期968-978,共11页
简要讨论纳米CMOS工艺下集成电路的可制造性设计(DFM)技术.首先讨论纳米CMOS中与制造性有关的工艺和器件问题,然后探讨DFM需要的工艺和器件建模工作.最后对包括有可制造性设计技术的集成电路设计流程和能较好地在大规模集成电路设计环... 简要讨论纳米CMOS工艺下集成电路的可制造性设计(DFM)技术.首先讨论纳米CMOS中与制造性有关的工艺和器件问题,然后探讨DFM需要的工艺和器件建模工作.最后对包括有可制造性设计技术的集成电路设计流程和能较好地在大规模集成电路设计环境中开发设计/制造交互界面的有关EDA做简单介绍. 展开更多
关键词 可制造性设计(DFM) 基于成品率的设计 纳米CMOS集成电路设计集成电路设计方法学 CMOS设计技术平台
原文传递
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
上一页 1 下一页 到第 页
使用帮助 返回顶部