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基体位置对封闭磁控溅射制备CrN镀层微观结构和力学性能的影响
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作者 冶艳 鲍明东 《材料保护》 CAS CSCD 2022年第6期120-126,共7页
为了制备性能优良的CrN镀层,基体在系统中不同位置(一轴、三轴)下采用封闭非平衡磁控溅射制备了CrN镀层,研究了基体位置对镀层微观结构和力学性能的影响。结果表明:基体与靶材的位置对CrN镀层的物相组成无影响,均为CrN(111)、CrN(200)、... 为了制备性能优良的CrN镀层,基体在系统中不同位置(一轴、三轴)下采用封闭非平衡磁控溅射制备了CrN镀层,研究了基体位置对镀层微观结构和力学性能的影响。结果表明:基体与靶材的位置对CrN镀层的物相组成无影响,均为CrN(111)、CrN(200)、CrN(220)晶面;在一轴上制备的CrN镀层的晶粒粒径较小,致密度小,厚度约为3.2μm,膜基结合强度为HF4,杂质相Cr_(2)N含量较多,摩擦系数在0.725-0.975之间。三轴上制备的CrN镀层的晶粒粒径较大、致密度高,厚度约为2.2μm,膜基结合强度为HF1,杂质相Cr_(2)N少,摩擦系数在0.525-0.700之间。 展开更多
关键词 磁控溅射 CrN镀层 基体位置 微观结构
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磁控溅射W_(1-x)Ti_xN薄膜的结构与摩擦学性能研究 被引量:4
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作者 李学超 李长生 +2 位作者 莫超超 丁建 朱秉莹 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第3期249-253,共5页
采用双靶反应磁控溅射的方法,通过改变基体相对于靶材的位置制备了一系列不同化学成分的W1-xTixN薄膜。用X射线衍射仪,扫描电子显微镜,能量散色谱等检测手段对薄膜的表面状态,化学成分以及结构等进行了表征,采用UMT-3型多功能摩擦磨损... 采用双靶反应磁控溅射的方法,通过改变基体相对于靶材的位置制备了一系列不同化学成分的W1-xTixN薄膜。用X射线衍射仪,扫描电子显微镜,能量散色谱等检测手段对薄膜的表面状态,化学成分以及结构等进行了表征,采用UMT-3型多功能摩擦磨损试验机,在室温、大气环境、无润滑的条件下对不同成分WTiN薄膜的摩擦学性能进行了评价。试验结果表明:薄膜的化学成分伴随着位置的改变在W0.80Ti0.20N和W0.18Ti0.82N的范围内发生变化;在经历了800℃,1 h的退火以后不同位置制备的薄膜先后出现了TiN,TiN0.6O0.4,W2N,W等多种物相结构;随着Ti含量的增加,薄膜的纳米硬度最高可达29.8 GPa,弹性模量最高可达277.5 GPa。一系列摩擦数据显示x=0.52的薄膜在所制备的WTiN薄膜体系中拥有最佳的摩擦学性能。 展开更多
关键词 W-Ti-N薄膜 反应磁控溅射 基体位置 摩擦磨损性能
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磁控溅射Ti_(1-x)Al_xN薄膜的结构与摩擦学性能研究 被引量:4
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作者 张晔 李长生 李学超 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第6期518-525,共8页
采用双靶反应磁控溅射的方法,通过改变基体相对于靶材的位置制备了一系列不同化学成分的TiAlN薄膜.用SEM,AFM,EDS,XRD等检测手段对薄膜的表面状态,如粗糙度、化学成分及结构等进行了表征,采用UMT-3型多功能摩擦磨损试验机,在室温、大气... 采用双靶反应磁控溅射的方法,通过改变基体相对于靶材的位置制备了一系列不同化学成分的TiAlN薄膜.用SEM,AFM,EDS,XRD等检测手段对薄膜的表面状态,如粗糙度、化学成分及结构等进行了表征,采用UMT-3型多功能摩擦磨损试验机,在室温、大气环境、无润滑的条件下对不同成分TiAlN薄膜的摩擦学性能进行了评价.试验结果表明:薄膜的化学成分伴随着位置的改变在Ti0.82Al0.18N和Ti0.12Al0.88N的范围内发生变化;在700℃经1h的退火以后不同位置制备的薄膜先后出现了TiN,Ti2AlN,TiN0.30AlN,TiAlN等多种物相结构;表面粗糙度和形貌的试验结果表明了不同薄膜在不同位置的生长方式也不同;x值在0.57及0.65的薄膜具有高硬度、低粗糙度,并在摩擦过程中形成了摩擦转移膜,从而导致薄膜具有最佳的摩擦学性能. 展开更多
关键词 TIALN薄膜 反应磁控溅射 基体位置 摩擦 磨损
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沉积条件对CVD-SiC涂层组织形貌和抗氧化性能的影响 被引量:3
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作者 孙佳庆 李江涛 +3 位作者 郭春文 范宇恒 张东生 赵红亮 《郑州大学学报(工学版)》 CAS 北大核心 2021年第6期74-79,共6页
采用化学气相沉积法在高纯石墨基体表面制备了碳化硅(SiC)涂层,研究了基体位置和沉积压力对涂层组织形貌和抗氧化性能的影响。结果表明:随着基体与布气盘的距离增大,晶粒<111>生长方向的择优性先增强后减弱,其晶粒的砂砾状生长特... 采用化学气相沉积法在高纯石墨基体表面制备了碳化硅(SiC)涂层,研究了基体位置和沉积压力对涂层组织形貌和抗氧化性能的影响。结果表明:随着基体与布气盘的距离增大,晶粒<111>生长方向的择优性先增强后减弱,其晶粒的砂砾状生长特征也呈现先增强后减弱的变化规律;当基体与布气盘的距离较小时涂层易出现气孔,随着距离增大,气孔逐渐消失,涂层抗氧化性能升高,而随着距离的进一步增大,开始出现分界现象,造成涂层抗氧化性能下降。随着沉积压力增大,晶粒<111>生长方向的择优性被弱化,晶粒的砂砾状特征也随之减弱;当沉积压力为2 kPa时,涂层无明显缺陷,其抗氧化性能较好;而当沉积压力增大到5 kPa和20 kPa时,涂层分别出现了分界和分层缺陷,导致其抗氧化性能下降。基体位置为450 mm、沉积压力为2 kPa时能够制备出组织致密、与基体结合较好、抗氧化性能较优的SiC涂层。 展开更多
关键词 化学气相沉积 SIC涂层 基体位置 沉积压力 组织形貌 抗氧化性
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Molecular and Physical Mapping of Powdery Mildew Resistance Genes and QTLs in Wheat: A Review 被引量:7
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作者 Jun GUO Cheng LIU +8 位作者 Shengnan ZHAI Haosheng LI Aifeng LIU Dungong CHENG Ran HAN Jianjun LIU Lingrang KONG Zhendong ZHAO Jianmin SONG 《Agricultural Science & Technology》 CAS 2017年第6期965-970,共6页
Wheat powdery mildew (Pro) is a major disease of wheat worldwide. During the past years, numerous studies have been published on molecular mapping of Pm resistance gene(s) in wheat. We summarized the relevant find... Wheat powdery mildew (Pro) is a major disease of wheat worldwide. During the past years, numerous studies have been published on molecular mapping of Pm resistance gene(s) in wheat. We summarized the relevant findings of 89 major re- sistance gene mapping studies and 25 quantitative trait loci (QTL) mapping studies. Major Pm resistance genes and QTLs were found on all wheat chromosomes, but the Pm resistance genes/QTLs were not randomly distributed on each chromosome of wheat. The summarized data showed that the A or B genome has more major Pm resistance genes than the D genome and chromosomes 1A, 2A, 2B, 5B, 5D, 6B, 7A and 7B harbor more major Pm resistance genes than the other chromosomes. For adult plant resistance (APR) genes/QTLs, B genome of wheat harbors more APR genes than A and D genomes, and chromo- somes 2A, 4A, 5A, 1B, 2B, 3B, 5B, 6B, 7B, 2D, 5D and 7D harbor more Pm resistance QTLs than the other chromosomes, suggesting that A genome except 1A, 3A and 6A, B genome except 4B, D genome except 1D, 3D, 4D, and 6D play an impor- tant role in wheat combating against powdery mildew. Furthermore, Pm resistance genes are derived from wheat and its rela- tives, which suggested that the resistance sources are diverse and Pm resistance genes are diverse and useful in combating against the powdery mildew isolates. In this review, four APR genes, Pm38/Lr34/Yr18/Sr57, Pm46/Lr67/Yr46/Sr55, Pm?/Lr27/Yr30/ SY2 and Pm39/Lr46/Yr29, are not only resistant to powdery mildew but also effective for rust diseases in the field, indicating that such genes are stable and useful in wheat breeding programmes. The summarized data also provide chromosome locations or linked markers for Pm resistance genes/QTLs. Markers linked to these genes can also be utilized to pyramid diverse Pm resis- tance genes/QTLs more efficiently by marker-assisted selection. 展开更多
关键词 Wheat powdery mildew Molecular mapping Major Pm resistance genes Quantitative trait loci (QTL) Marker-assisted selection
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