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Si1-ZGeZ基区杂质和Ge组份分布对HBT基区渡越时间的影响
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作者 张万荣 曾峥 +1 位作者 罗晋生 西安交通大学 《西安交通大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第8期21-25,共5页
在Si1-ZGeZ基区HBT中,Ge组份Z缓变(进而能隙缓变)产生自建电场,基区杂质浓度向发射极侧的减小产生了阻滞电场,基区杂质浓度向集电极侧的减小产生了加速电场.文中研究了这些电场对基区渡越时间的影响.研究结果表明... 在Si1-ZGeZ基区HBT中,Ge组份Z缓变(进而能隙缓变)产生自建电场,基区杂质浓度向发射极侧的减小产生了阻滞电场,基区杂质浓度向集电极侧的减小产生了加速电场.文中研究了这些电场对基区渡越时间的影响.研究结果表明,随基区发射极侧杂质浓度的不同,因阻滞电场而产生的延迟时间占基区总渡越时间的40%~80%.同时还发现,选用无阻滞电场产生的基区杂质分布,采用大的Ge组份线性缓变和利用集电结空间电荷区电子速度过冲效应。 展开更多
关键词 双极晶体管 HBT 基区渡越时间 基区杂质
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Ge组分分布对基区杂质非均匀分布的SiGe HBT温度特性的影响 被引量:2
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作者 张瑜洁 张万荣 +5 位作者 金冬月 陈亮 付强 郭振杰 邢光辉 路志义 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2013年第3期192-198,共7页
众所周知,双极型晶体管的设计主要是基区的设计.一般而言,基区的杂质分布是非均匀的.本文首先研究了非均匀的杂质高斯分布对器件温度分布、增益和截止频率的温度特性的影响,发现增益和截止频率具有正温度系数,体内温度较高.随后研究了基... 众所周知,双极型晶体管的设计主要是基区的设计.一般而言,基区的杂质分布是非均匀的.本文首先研究了非均匀的杂质高斯分布对器件温度分布、增益和截止频率的温度特性的影响,发现增益和截止频率具有正温度系数,体内温度较高.随后研究了基区Ge组分分布对这些器件参数的影响.均匀Ge组分分布和梯形Ge组分分布的SiGe异质结双极型晶体管增益和截止频率具有负温度系数,具有较好的体内温度分布.进一步的研究表明,具有梯形Ge组分分布的SiGe异质结双极型晶体管,由于Ge组分缓变引入了少子加速电场,不但使它的增益和截止频率具有较高的值,而且保持了较弱的温度敏感性,在增益、特征频率大小及其温度敏感性、体内温度分布达到了很好的折中. 展开更多
关键词 SiGe异质结双极型晶体管 温度特性 基区杂质分布 GE组分分布
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Performance of an InP DHBT Grown by MBE 被引量:1
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作者 苏树兵 刘新宇 +4 位作者 徐安怀 于进勇 齐鸣 刘训春 王润梅 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第5期792-795,共4页
We report the performance of the first self-aligned InP/InGaAs double heterojunction bipolar transistor (DHBT) produced in China. The device has a 2μm × 12μm U-shaped emitter area and demonstrates a peak comm... We report the performance of the first self-aligned InP/InGaAs double heterojunction bipolar transistor (DHBT) produced in China. The device has a 2μm × 12μm U-shaped emitter area and demonstrates a peak common-emitter DC current gain of over 300,an offset voltage of 0. 16V,a knee voltage of 0.6V,and an open-base breakdown voltage of about 6V. The HBT exhibits good microwave performance with a current gain cutoff fre- quency of 80GHz and a maximum oscillation frequency of 40GHz. These results indicate that this InP/InGaAs DHBT is suitable for low-voltage, low-power, and high-frequency applications. 展开更多
关键词 MBE Be-doped InGaAs base INP double heterojunction bipolar transistor
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