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极紫外多层膜基底表面粗糙度综合表征技术
被引量:
4
1
作者
张淑敏
朱京涛
+5 位作者
王风丽
张众
沈正祥
王占山
周洪军
霍同林
《光学仪器》
2006年第4期137-140,共4页
研究用不同清洗方法对硅基底表面粗糙度的影响,首先使用原子力显微镜(AFM)直接测量硅片表面粗糙度;然后,利用直流磁控溅射方法,在相同制备工艺条件下镀制M o/S i多层膜,使用X射线衍射仪(XRD)对多层膜二级衍射峰进行摇摆曲线扫描;最后,...
研究用不同清洗方法对硅基底表面粗糙度的影响,首先使用原子力显微镜(AFM)直接测量硅片表面粗糙度;然后,利用直流磁控溅射方法,在相同制备工艺条件下镀制M o/S i多层膜,使用X射线衍射仪(XRD)对多层膜二级衍射峰进行摇摆曲线扫描;最后,利用同步辐射测量多层膜的反射率,间接表征基底的粗糙度。结果表明,超声清洗后镀制的多层膜反射率最高,结论与AFM,XRD等表征方法一致。
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关键词
基底粗糙度
多层膜
超声清洗
同步辐射
摇摆曲线
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职称材料
题名
极紫外多层膜基底表面粗糙度综合表征技术
被引量:
4
1
作者
张淑敏
朱京涛
王风丽
张众
沈正祥
王占山
周洪军
霍同林
机构
同济大学精密光学工程技术研究所物理系
中国科技大学国家同步辐射实验室
出处
《光学仪器》
2006年第4期137-140,共4页
基金
国家自然科学基金资助项目(60378021
10435050)
+3 种基金
863资助项目(2005AA843031)
ICF探索基金资助项目
教育部新世纪优秀人才支持计划资助项目(NCET-04-0376)
同济大学理科发展基金资助项目
文摘
研究用不同清洗方法对硅基底表面粗糙度的影响,首先使用原子力显微镜(AFM)直接测量硅片表面粗糙度;然后,利用直流磁控溅射方法,在相同制备工艺条件下镀制M o/S i多层膜,使用X射线衍射仪(XRD)对多层膜二级衍射峰进行摇摆曲线扫描;最后,利用同步辐射测量多层膜的反射率,间接表征基底的粗糙度。结果表明,超声清洗后镀制的多层膜反射率最高,结论与AFM,XRD等表征方法一致。
关键词
基底粗糙度
多层膜
超声清洗
同步辐射
摇摆曲线
Keywords
roughness of the substrate
multilayer
ultrasonic cleaning
synchrotron radiation
rocking curve
分类号
O434 [机械工程—光学工程]
TB43 [一般工业技术]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
极紫外多层膜基底表面粗糙度综合表征技术
张淑敏
朱京涛
王风丽
张众
沈正祥
王占山
周洪军
霍同林
《光学仪器》
2006
4
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职称材料
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