镀SiO_2膜玻璃基片上化学气相沉积法制备SnO_2:Sb薄膜

采用化学气相沉积法在镀有SiO2膜的钠钙硅玻璃基片上制备了Sb掺杂SnO2(antimony-dopedtinoxide,ATO)薄膜。研究了基板温度、基板输送速度和氮气流量对ATO薄膜结构和性能的影响。用X射线衍射仪、扫描电镜、X射线光电子能谱仪、紫外-可见光谱仪、双光束红外分光光度计对薄膜的结构、形貌和成分进行了表征。结果表明:沉积温度为490℃以上时,薄膜主要以四方相金红石结构存在。随着基板输送速度的提高,薄膜择优取向由(110)转变为(200)。薄膜中掺杂的Sb以Sb5+的形式存在;当基板温度为530℃时,薄膜表面的C没有完全燃尽,以C-O形式存在于薄膜中。薄膜的可见光透过率随基板温度的升高而增大。具有(110)择优取向的薄膜的红外反射性能较好。