室温下单晶硅压痕微裂纹的形成与扩展

用透射电镜定位观察研究了在室温下高纯单晶硅显微压痕表面radial脆性微裂纹的纳观形变 ,阐述了塑性变形对微裂纹形核、扩展及开裂的影响。发现 :室温下单晶硅的压痕前沿经历了极复杂的非线性演化 :前沿区的位错发射与运动 (Kcleave>Kemit时 )、解理微纹形核与扩展 (σ塞 >σth 时 )。