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基于增强型沟槽栅技术的高性能3300V IGBT 被引量:1
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作者 周飞宇 宁旭斌 +3 位作者 Luther Ngwendson 肖强 Ian Deviny 戴小平 《大功率变流技术》 2017年第5期65-69,共5页
采用沟槽栅结构、软穿通(SPT)技术和载流子存储层技术研制出一款增强型沟槽栅型(TMOS+)3 300 V IGBT芯片,其具有更低通态压降、更高功率密度和更优的关断安全工作区性能。高温(Tj=150℃)工况下,芯片的通态压降比相同电压等级增强型平面... 采用沟槽栅结构、软穿通(SPT)技术和载流子存储层技术研制出一款增强型沟槽栅型(TMOS+)3 300 V IGBT芯片,其具有更低通态压降、更高功率密度和更优的关断安全工作区性能。高温(Tj=150℃)工况下,芯片的通态压降比相同电压等级增强型平面栅型(DMOS+)IGBT的约低25%,并能安全关断11倍额定电流;同等外形尺寸条件下,TMOS+型IGBT模块的电流等级(1 800 A)比DMOS+型的提升了20%,可满足更高功率容量的应用需求。 展开更多
关键词 绝缘双极晶体管(IGBT) 增强型沟槽栅 通态压降 关断安全工作区 功率密度
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