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基于多元回归模型下医院腔镜器械的质量评估与管理策略研究 被引量:10
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作者 韩天红 王洪霞 +1 位作者 刘丽 区宁 《中国医学装备》 2021年第4期147-150,共4页
目的:基于多元回归模型进行医院腔镜器械质量评估,探讨一体化管理模式在其管理中的应用价值。方法:采集腔镜器械的管理数据,建立设备质量、清洗质量和备件质量的多元回归模型。选取医院临床手术室在用的96套腹腔镜器械,对2017年和2018... 目的:基于多元回归模型进行医院腔镜器械质量评估,探讨一体化管理模式在其管理中的应用价值。方法:采集腔镜器械的管理数据,建立设备质量、清洗质量和备件质量的多元回归模型。选取医院临床手术室在用的96套腹腔镜器械,对2017年和2018年两年间的使用数据进行分析,其中2017年1-12月期间96套腹腔镜器械采用责任区管理模式进行器械使用管理,其管理数据纳入对照组;2018年1-12月期间96套腹腔镜采用一体化管理模式进行器械使用管理,其管理数据纳入观察组。对比两组器械的设备质量评估、清洗质量评估和备件管理评估的差异性。结果:观察组腔镜器械的损坏率、故障率、返厂维修率和报废率低于对照组,差异有统计学意义(x^(2)=4.725,x^(2)=6.431,x^(2)=5.228,x^(2)=5.134;P<0.05);观察组腔镜器械清洗合格率、患者感染率和集中存放合格率优于对照组,差异有统计学意义(x^(2)=53.404,x^(2)=8.666,x^(2)=24.501;P<0.05);观察组腔镜器械备件错误率、备件完好率和临床医生满意度优于对照组,差异有统计学意义(x^(2)=13.373,x^(2)=7.597,x^(2)=90.587;P<0.05)。结论:基于多元回归模型的一体化管理模式能降低腔镜器械安全隐患,提高腔镜手术备件能力,改善微创手术治疗效果。 展开更多
关键词 腔镜器械 多元回归 设备质量 清洗质量 备件质量
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高性价比水泥装备耐磨材料的选择和应用
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作者 周平安 《新世纪水泥导报》 CAS 2013年第4期73-76,共4页
评定水泥装备耐磨材料和备件性价比的质量有两个不同水准的具体标准:一是能满足国家和行业制定质量和性能的基本质量标准;二是性能与质量相对应,并将价格和实际可能产生的经济效益同时考虑的"性价比"的质量标准。评定耐磨材... 评定水泥装备耐磨材料和备件性价比的质量有两个不同水准的具体标准:一是能满足国家和行业制定质量和性能的基本质量标准;二是性能与质量相对应,并将价格和实际可能产生的经济效益同时考虑的"性价比"的质量标准。评定耐磨材料和备件的基本质量标准,要求使用这种产品的水泥行业的采购人员要有丰富的知识和经验及判断质量优劣的洞察力,不能单纯以简单的价格低为主要或唯一的标准。世界上没有一种万能的耐磨材料,更没有一种永不磨损的耐磨材料,磨损性能是一种相对耐磨性的概念。任何一种耐磨材料在不同的水泥用户中得到的磨耗数据以及效果都是波动和动态的,它往往是一个使用周期的统计和综合性能,而不是一个绝对值。 展开更多
关键词 水泥装备 耐磨材料 备件质量 标准 磨损性能
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隔膜泵刺阀原因分析与解决措施
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作者 龙海 《中国金属通报》 2020年第10期247-248,共2页
本文针对隔膜泵刺阀原因分析与解决措施,结合理论与实践,在简要阐述隔膜泵结构组成和工作原理的基础上,分析了隔膜泵刺阀的影响和原因,并提出相应的解决措施.分析结果表明,隔膜泵是管道输送固液两相介质的主要设备,是典型的往复式活塞泵... 本文针对隔膜泵刺阀原因分析与解决措施,结合理论与实践,在简要阐述隔膜泵结构组成和工作原理的基础上,分析了隔膜泵刺阀的影响和原因,并提出相应的解决措施.分析结果表明,隔膜泵是管道输送固液两相介质的主要设备,是典型的往复式活塞泵,在具体应用中影响因素比较多,频繁发生刺阀问题,严重影响了生产效率和成本.严格控制给矿矿浆和备件质量,并加强维护检修,可有效控制隔膜泵刺阀故障,值得高度重视. 展开更多
关键词 隔膜泵 刺阀 矿浆 备件质量
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浅谈顶交45°精轧机组设备的管理和维护 被引量:2
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作者 杨诚潜 《山西冶金》 CAS 2015年第1期99-101,共3页
针对高线顶交45°精轧机组设备转速高、负荷大及机械传动系统易出现突发故障的特点,通过严格管控备件装配质量、稳定润滑油品质、加强基础管理和采取在线与离线监测相结合的点检模式可有效防止该设备故障的发生。
关键词 顶交45°精轧机组 突发故障 备件装配质量 润滑油品质 在线监测与离线监测
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Fabrication of high-quality all-graphene devices with low contact resistances 被引量:2
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作者 Rong Yang Shuang Wu +7 位作者 Duoming Wang Guibai xie Meng Cheng Guole Wang Wei Yang Peng Chen Dongxia Shi Guangyu Zhang 《Nano Research》 SCIE EI CAS CSCD 2014年第10期1449-1456,共8页
All-graphene devices are new class of graphene devices with simple layouts and low contact resistances. Here we report a clean fabrication strategy for all-graphene devices via a defect-assisted anisotropic etching. T... All-graphene devices are new class of graphene devices with simple layouts and low contact resistances. Here we report a clean fabrication strategy for all-graphene devices via a defect-assisted anisotropic etching. The as-fabricated graphene is free of contamination and retains the quality of pristine graphene. The contact resistance at room temperature (RT) between a bilayer graphene channel and a multilayer graphene electrode can be as low as -5 Ω.·μm, the lowest ever achieved experimentally. Our results suggest the feasibility of employing such all-graphene devices in high performance carbon-based integrated circuits. 展开更多
关键词 GRAPHENE all-graphene devices THINNING contact resistance
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