基片与多形态缺陷粒子的复合光散射

为了给基片无损检测工程提供强有力的理论基础,提出三种形态的缺陷粒子散射模型。针对基片与缺陷粒子的半空间问题,吸收边界使用了广义完全匹配吸收层,结合三波技术引入激励源给出相应的连接边界条件并将互易性定理应用到近远场外推中使过程简化。数值计算给出了镶嵌于基片中的多种几何体Cu和SiO2缺陷粒子的散射场的角分布及p偏振和s偏振下镶嵌Cu球体粒子的电场分布。结果显示:角分布和场分布跟粒子形态关系密切。椭球体散射场的震荡明显比柱体场震荡激烈。在s偏振下电场强度分布差值极小,不利于通过分析场值分布特点反演缺陷特征值。因此建议工程上使用p偏振光对基片进行无损检测。

微量二茂铁衍生物对PMMA/PS复合光散射材料性能的影响

讨论了α-羟基乙基二茂铁的加入对PMMA/PS复合光散射材料制备工艺、微观结构及光散射性能的影响。实验表明:α-羟基乙基二茂铁的加入,降低了MMA原位聚合的温度;材料的散射能力增强;红外谱图中PMMA的特征峰值相对于未加添加物的复合材料有不同程度的下降;扫描电镜分析表明是由于自组装材料内部散射体相分离形成了个畴。