用于放射性去污的自脆型复合去污剂的制备及性能研究

自脆型去污技术是一种新型的核清洁方法,其原理是去污剂膜在吸附污染物后会破裂并自然脱落,从而实现去污。将经过γ-巯丙基三乙氧基硅烷改性的纳米SiO_(2)与无规共聚物P(MMA-co-MAA-co-HFBMA)乳液进行复配,制备出一种具有自脆功能的复合去污剂。通过红外光谱(Infrared Spectroscopy,IR)、热重分析(Thermogravimetric Analysis,TGA)、X射线衍射(X-ray Diffraction,XRD)和透射电子显微镜(Transmission Electron Microscopy,TEM)分析复合乳液的结构与性能,结果显示:调整无规共聚物中MMA与MAA的比例可以控制去污剂的自脆形态。当MMA/MAA/HFBMA=7/5/0.1时去污剂具有良好的自脆性,能在材料的表面形成尺寸均一和大小适中的脆片,这便于后续的收集处理。且对模拟放射性落下灰(掺入K元素)的去污率大于95%,展示出良好的去污效果。