SLM零件的磨粒流动辅助电化学复合抛光方法研究

针对增材制造金属零件表面质量较差的问题,提出一种磨粒流动辅助电化学复合抛光方法,在电解液中混入微小磨粒,使混合液在一定压力下流经工件表面,通过磨粒磨削和电化学溶解的复合作用改善工件表面质量。通过试验对比了纯磨粒磨削、纯电解加工和复合抛光的加工效果,分析了不同工艺参数对工件表面粗糙度和材料去除量的影响。试验结果表明:复合抛光方法能有效去除增材制造零件表面缺陷,改善其表面质量。通过选取合适的电压进行分阶段抛光,SLM工件的表面粗糙度由Ra8.162μm降至Ra1.226μm。

磁场方向往复变化的磁力电解复合抛光头的研制

为了提高磁力电解复合抛光的效果和效率,通过分析磁力电解复合抛光机理,施加了一个和电场方向平行且能往复变化的磁场,并设计了一种新型的磁力电解复合抛光头。通过实验表明,这种抛光头能方便地安装在数控机床上,并能有效地提高磁力电解复合抛光的效果和效率。

超精密磁流变复合抛光技术研究进展

对超精密磁流变复合抛光技术的国内外研究进展进行了评述,介绍了当前主要应用的几种超精密磁流变复合抛光技术的加工原理和发展现状.重点介绍了磁流变射流复合抛光、超声波磁流变复合抛光、化学机械磁流变复合抛光以及集群磁流变复合抛光的加工技术内涵,从加工效率、加工表面均匀性、加工精度、加工适合的材料与形状等方面对上述几类超精密磁流变复合抛光方法进行比较和评述.最后对超光滑无损伤超精密磁流变抛光技术的发展方向进行了预测.

超声波磁流变复合抛光中几种工艺参数对材料去除率的影响

提出了一种光学抛光的新方法——超声波磁流变复合抛光。介绍了该抛光方法的基本原理和实验装置,进行了超声波磁流变复合抛光实验,采用轮廓仪实测了光学玻璃超声波磁流变抛光材料去除轮廓曲线。通过该项工艺实验,研究了五种工艺参数(磁场强度、超声振幅、抛光工具头与工件的间隙、抛光工具头转速、工件转速)对光学玻璃材料去除率的影响。在一定实验条件下,获得的材料去除率为0.139μm/min,并获得了超声波磁流变复合抛光工艺参数与材料去除率的关系曲线,得出了光学玻璃超声波磁流变复合抛光的材料去除规律。

磁性复合抛光体配制及其抛光性能试验研究

介绍一种新的磁性复合抛光体(M PT)的配制及检测方法.新的磁性抛光体是将磁性复合流体和磨粒、植物纤维素均匀混合,通过外加磁场压缩制成的,在磁场作用下为半固态.M PT的主要成分及规格:煤油基纳米直径F e3O4的磁流体(M F)、微米级直径的铁粉、微米级直径的纯A l2O3磨粒.对几种混合比例的M PT分别进行了SEM的显微观察和抛光作用力的三维检测,在给定压力下对M PT的剪切力和抛光性能进行了试验.结果表明:磁性复合抛光体的配比影响着M PT最大剪切力,具有承受剪切力大的磁性抛光体的抛光效果较好.该研究为复杂曲面的高效、高质量抛光提供了应用依据.

精密模具超声电解复合抛光试验研究

论述了超声电解复合抛光工作原理及工艺规律 ,并通过对几种模具钢材料进行抛光试验 ,分析了各加工工艺参数对表面粗糙度的影响关系。试验表明 ,超声电解复合抛光是一种有效的镜面加工方法。工艺的关键是如何使超声作用与电解作用相匹配 ,以得到最佳去膜效果。

复合抛光对CVD金刚石薄膜表面光洁度的改进研究

采用激光抛光和热化学抛光相结合的方法,对通过热丝CVD方法生长的金刚石薄膜进行了复合抛光处理．并利用X射线衍射仪(XRD)、拉曼光谱仪(Raman)、扫描电子显微镜 (SEM)和原子力显微镜(AFM)对金刚石薄膜进行了表征．结果表明,所合成的金刚石薄膜是高质量的多晶(111)取向膜;经复合抛光后,金刚石薄膜的结构没有因抛光而发生改变,金刚石薄膜的表面粗糙度明显降低,光洁度大幅度提高,表面粗糙度Ra在100nm左右,基本可以达到应用的要求．

电化学机械复合抛光薄膜太阳能电池柔性不锈钢衬底

设计了针对薄膜太阳能电池柔性不锈钢衬底的电化学机械复合抛光法以满足其对表面粗糙度、光反射率和有害物质扩散的要求。首先,设计并制造了一种用于平面加工的复合阴极刀具,理论分析了它的材料去除机理。然后,结合法拉第原理和黏着摩擦理论分析了电化学腐蚀行为和摩擦力作用行为,解决了电化学腐蚀和机械去除钝化膜的匹配一致性问题。最后,以50mm×50mm×0.3mm规格的304不锈钢为阳极工件,对提出的方法进行了实验验证。结果显示:对衬底加工20min后,其表面粗糙度Ra从124nm降到10nm;表面反射率从加工前的56.8%提高到62.4%;表面金属氧化层的形成(氧化铁和氧化铬),有效阻挡了Fe和Cr离子的扩散。实验显示,提出的方法是处理柔性不锈钢表面的有效方法,成本低、效率高。

喷雾干燥法制备CeO_2-SiO_2复合抛光粉

以碳酸铈为铈源,以硅溶胶为硅源,通过喷雾干燥法制备Ce O2-Si O2复合氧化物前驱体,再通过煅烧得到复合抛光粉;利用X射线衍射、扫描电子显微镜、激光粒度仪、zeta电位仪对复合抛光粉的晶体结构、表面形貌、粒径分布、zeta电位进行表征,并进行抛光性能研究。结果表明:当Ce O2与Si O2的质量比大于2∶1时,复合抛光粉中的Si O2能完全掺杂到Ce O2中,并且抛光效果优于Ce O2和Si O2抛光粉的;当Ce O2与Si O2的质量比为4∶1时,复合抛光粉的粒径d50为0.985μm,抛蚀量为0.296 0 g,表面划痕少,抛光效果最好。

紫外光催化振动复合抛光

为了满足工业领域的不同要求,研究了碳化硅(SiC)陶瓷超光滑表面且无表面损伤的抛光工艺,提出了一种紫外光催化振动复合抛光新方法。基于紫外光催化反应理论,论述了光催化振动复合抛光的加工机理,进行了不同的实验。首先进行了甲基橙降解实验,研究了光催化振动复合抛光氧化性对振动的依赖关系;接着进行了紫外光催化振动复合抛光对比实验,研究了振动前后SiC的抛光效果,验证了新抛光方法的有效性。实验结果表明,光催化反应生成的强氧化性羟基自由基能够将高硬度的SiC氧化成质地较软的二氧化硅,振动的引入减少了光催化反应中光催化剂的团聚,提高了抛光过程中氧化和去除的均匀性,从而提高了抛光过程中SiC的表面质量,最终获得了粗糙度为31~39 nm的光滑表面。

模具型腔复合抛光工艺规律研究

阐述采用脉冲电流电化学抛光的特点、实施方案和工艺效果 ,并通过对某种模具型腔窄深槽抛光的工艺试验 ,讨论并分析实验数据 ,得出加工参数对表面粗糙度的影响规律 ,以及各加工参数影响表面粗糙度的经验公式。

虚拟样机技术在回转零件镜面复合抛光机设计中的应用研究

在回转零件镜面复合抛光机的设计中,采用虚拟样机技术,利用Pro/Engineer对其进行三维实体建模及虚拟装配,并进行了机构运动仿真,实现了产品的优化设计、降低了研发成本、缩短了研发周期。

D60钨钢电化学机械复合抛光试验研究

为了解决高硬度高耐磨性冲压模材料日本富士D60钨钢的抛光难题,研究了D60钨钢电化学机械复合抛光工艺。在研制了电化学机械复合抛光试验机的基础上,通过对加工间隙、电解液温度、电解液浓度、加工时间等试验参数的正交试验及单因数试验的研究,找到了比较优化的抛光工艺参数。试验表明:在20min内,能将D60钨钢表面粗糙度从Ra1·51μm降到Ra0·2μm左右。

电解机械复合抛光表面的分形特性研究

在对机械加工表面的分形特性研究的基础上,利用触针式轮廓仪对电解机械复合抛光表面进行了测量,并利用分形理论分析了不同工艺参数对表面分形维数D和表面粗糙度Ra的影响。研究结果表明,在电解机械复合抛光中电流密度对分形维数D的影响不大,分形维数D与表面粗糙度Ra有一定的对应关系。

磁力电解复合抛光片的研制

根据磁力电解复合抛光对抛光片的特殊要求,本文利用TPU材料强度高、耐磨性好的特点,以TPU为基体,添加磨料和各种助剂,并对其进行微孔处理和合理配方,采用注射成型工艺,研制出了一种硬度和拉伸强度高、耐磨性和开孔性好的磁力电解复合抛光片.并且通过对不锈钢材料工件的磁力电解复合抛光试验,验证了该磁力电解复合抛光片的良好性能.

电解磨料喷射复合抛光工艺的研究与应用

研究了电解磨料喷射复合抛光新工艺及其抛光特点,并应用于模具抛光。

电化学机械复合抛光不锈钢板

设计了电化学机械复合抛光装置、工具 ,研究了加工电压、磨轮压力与加工速度的关系 ,加工电压对表面粗糙度的影响。

磁力电解复合抛光中电解液的选配

磁力电解复合抛光工艺在难加工材料的精加工中被广泛使用,电解液的选配是影响该工艺的一个重要因素。文中对磁力电解复合抛光工艺中电解液的选配进行了研究,对磁力电解复合抛光中电解液的基本要求进行了分析,对常见电解液的性能进行了归纳和比较,并根据抛光过程中电解液的使用,得出了磁力电解复合抛光中电解液的选配原则。

磁流变-化学机械复合抛光装置设计

针对SiC晶片外延膜生长需达到原子级超光滑表面的要求以及加工效率低、表面精度差的问题,提出了一套磁流变-化学机械精密抛光装置,该装置利用软件平台对抛光盘和工件运动精确控制,并具有温度、转速等参数微调及显示功能。对装置的工作原理、结构进行了介绍,并在该装置上进行了工艺试验,取得较高的加工效率和光滑无损伤的加工表面。

电解机械复合抛光机的三维设计及运动仿真

在电解机械复合抛光机的设计中,采用三维设计方法,利用Pro/E对其进行了三维实体建模及装配设计,并进行了机构运动仿真。实现了CAD/CAE的集成,提高了产品的设计质量和设计效率,为其它产品的设计提供了设计参考。