Ni_xSiO_(2(1-x))颗粒膜的光学和磁光特性研究

用磁控溅射法制备了一系列 Nix Si O2 (1 - x) 样品 ,并对部分样品作快速退火处理 ,室温下采用椭圆偏振光谱仪和磁光谱仪分别在 1.5～ 4.5 e V的光子能量区测量了样品的复介电常数谱和极向复磁光克尔谱 ,研究了这种金属 -绝缘体型颗粒膜的光学和磁光性质 .发现调整合适的金属含量或对样品作退火处理 ,可以观察到复介电常数的实部从正到负的连续变化 ,而且在一定光子能量区 ,其值为零 ;