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266nm的激光作用下溴苯分子的多光子电离碎片化机理
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作者 刘建苹 孔祥和 +5 位作者 张树东 倪志波 张良芳 李丽 王艳 朱湘君 《激光杂志》 CAS CSCD 北大核心 2008年第4期67-68,共2页
在266nm激光作用下,利用多光子电离-飞行时间质谱法获得了溴苯分子的MBPIF-TOF质谱。实验测得了各碎片离子占总离子信号的百分比对激光强度的依赖关系,并用这些实验结果对溴苯分子的多光子电离解离机理做了分析,还对C6H5+,C5H3+,C4H2+,C... 在266nm激光作用下,利用多光子电离-飞行时间质谱法获得了溴苯分子的MBPIF-TOF质谱。实验测得了各碎片离子占总离子信号的百分比对激光强度的依赖关系,并用这些实验结果对溴苯分子的多光子电离解离机理做了分析,还对C6H5+,C5H3+,C4H2+,C3H+等碎片离子的可能形成过程作了讨论,结果证明母体分子吸收光离解离是主要通道,且碎片离子主要是经过离子离解阶梯模式产生的。 展开更多
关键词 溴苯 飞行时间质谱 多光子电离碎片化
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