PS模板法制备铜纳米颗粒

采用双槽电化学腐蚀法制备多孔硅(porous silicon,PS),对其进行超声后处理.以PS为模板采用一步浸渍沉积法制备大小均匀、形状规则的铜纳米颗粒,并研究沉积时间对纳米颗粒形状、尺寸的影响.结果表明:PS超声后处理并未造成其物理和化学结构的破坏,大量的硅氢键(SiH x)和蜂窝状多孔结构(直径150 nm左右)分别为纳米铜的形成和生长提供了还原剂和场所;沉积时间对铜纳米颗粒形貌具有重要影响,当沉积时间为40 s时得到形状和尺寸较为均匀的铜纳米颗粒.