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GeSi/Si多层异质外延载流子浓度的分布 被引量:3
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作者 张秀兰 朱文珍 黄大定 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第3期288-291,共4页
通过实验确定了一种与 Gex Si1 - x合金表面具有良好电化学界面的电解液 ,利用电化学 C- V方法研究了多层Gex Si1 - x/ Si异质外延材料的载流子浓度纵向分布 .实验结果表明 :采用这种电解液 ,利用电化学 C- V载流子浓度纵向分布测量仪检... 通过实验确定了一种与 Gex Si1 - x合金表面具有良好电化学界面的电解液 ,利用电化学 C- V方法研究了多层Gex Si1 - x/ Si异质外延材料的载流子浓度纵向分布 .实验结果表明 :采用这种电解液 ,利用电化学 C- V载流子浓度纵向分布测量仪检测 Gex Si1 - x/ Si异质材料的载流子浓度纵向分布 ,重复性好 。 展开更多
关键词 电解液 电化学C-V法 硅化锗 载流子浓度 多层异质外延
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3mm波段硅双漂移崩越二极管外延材料研制
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作者 王向武 陆春一 +2 位作者 赵仲镛 孙景山 魏广富 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1993年第3期238-243,共6页
报导了3 mm波段硅双漂移崩越二极管所需PN/N^+多层、亚微米外延材料的常规CVD生长技术,研究了实现这些高要求的多层结构的方法,得到了最佳的外延工艺条件。
关键词 双漂移崩越二极管 亚微米 多层外延
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