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GeSi/Si多层异质外延载流子浓度的分布
被引量:
3
1
作者
张秀兰
朱文珍
黄大定
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001年第3期288-291,共4页
通过实验确定了一种与 Gex Si1 - x合金表面具有良好电化学界面的电解液 ,利用电化学 C- V方法研究了多层Gex Si1 - x/ Si异质外延材料的载流子浓度纵向分布 .实验结果表明 :采用这种电解液 ,利用电化学 C- V载流子浓度纵向分布测量仪检...
通过实验确定了一种与 Gex Si1 - x合金表面具有良好电化学界面的电解液 ,利用电化学 C- V方法研究了多层Gex Si1 - x/ Si异质外延材料的载流子浓度纵向分布 .实验结果表明 :采用这种电解液 ,利用电化学 C- V载流子浓度纵向分布测量仪检测 Gex Si1 - x/ Si异质材料的载流子浓度纵向分布 ,重复性好 。
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关键词
电解液
电化学C-V法
硅化锗
载流子浓度
多层
异质
外延
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职称材料
3mm波段硅双漂移崩越二极管外延材料研制
2
作者
王向武
陆春一
+2 位作者
赵仲镛
孙景山
魏广富
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
1993年第3期238-243,共6页
报导了3 mm波段硅双漂移崩越二极管所需PN/N^+多层、亚微米外延材料的常规CVD生长技术,研究了实现这些高要求的多层结构的方法,得到了最佳的外延工艺条件。
关键词
双漂移崩越二极管
亚微米
多层外延
下载PDF
职称材料
题名
GeSi/Si多层异质外延载流子浓度的分布
被引量:
3
1
作者
张秀兰
朱文珍
黄大定
机构
中国科学院半导体研究所半导体材料科学开放实验室
出处
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001年第3期288-291,共4页
文摘
通过实验确定了一种与 Gex Si1 - x合金表面具有良好电化学界面的电解液 ,利用电化学 C- V方法研究了多层Gex Si1 - x/ Si异质外延材料的载流子浓度纵向分布 .实验结果表明 :采用这种电解液 ,利用电化学 C- V载流子浓度纵向分布测量仪检测 Gex Si1 - x/ Si异质材料的载流子浓度纵向分布 ,重复性好 。
关键词
电解液
电化学C-V法
硅化锗
载流子浓度
多层
异质
外延
Keywords
Ge x Si 1-x alloy
electrolyte
electrochemical C V
分类号
TN304 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
3mm波段硅双漂移崩越二极管外延材料研制
2
作者
王向武
陆春一
赵仲镛
孙景山
魏广富
机构
南京电子器件研究所
出处
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
1993年第3期238-243,共6页
文摘
报导了3 mm波段硅双漂移崩越二极管所需PN/N^+多层、亚微米外延材料的常规CVD生长技术,研究了实现这些高要求的多层结构的方法,得到了最佳的外延工艺条件。
关键词
双漂移崩越二极管
亚微米
多层外延
Keywords
DDR IMPATT Diode, Submicron, Multilayer Epitaxial
分类号
TN312.7 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
GeSi/Si多层异质外延载流子浓度的分布
张秀兰
朱文珍
黄大定
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001
3
下载PDF
职称材料
2
3mm波段硅双漂移崩越二极管外延材料研制
王向武
陆春一
赵仲镛
孙景山
魏广富
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
1993
0
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职称材料
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